1.一種測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括測(cè)序反應(yīng)裝置和裝置固定臺(tái)，所述測(cè)序反應(yīng)裝置安裝在裝置固定臺(tái)上；
所述測(cè)序反應(yīng)裝置包括測(cè)序反應(yīng)小室和固定架，所述的測(cè)序反應(yīng)小室固定于所述的固定架上，所述的測(cè)序反應(yīng)小室包括用于進(jìn)行基因測(cè)序反應(yīng)的反應(yīng)通道；
所述固定架安裝在所述的裝置固定臺(tái)上，所述固定架上設(shè)置有三個(gè)用于對(duì)固定架和裝置固定臺(tái)的間距進(jìn)行調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)裝置，三個(gè)調(diào)節(jié)裝置的連線為三角形，且上述反應(yīng)通道的延伸方向與其中兩個(gè)調(diào)節(jié)裝置的連線的方向相垂直。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述三個(gè)調(diào)節(jié)裝置的連線為等腰三角形，所述反應(yīng)通道所在的直線與等腰三角形的底邊上的中線相重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述調(diào)節(jié)裝置均包括調(diào)節(jié)螺釘和調(diào)節(jié)螺母，所述調(diào)節(jié)螺母上設(shè)置有通孔，該通孔內(nèi)設(shè)置有內(nèi)螺紋；
所述固定架上具有貫穿的螺絲孔，所述調(diào)節(jié)螺母固定在所述的螺絲孔內(nèi)；所述裝置固定臺(tái)上對(duì)應(yīng)于螺絲孔的位置設(shè)置有調(diào)節(jié)孔；
所述調(diào)節(jié)螺釘安裝在調(diào)節(jié)螺母的通孔內(nèi)，且調(diào)節(jié)螺釘?shù)耐饴菁y與所述調(diào)節(jié)螺母的內(nèi)螺紋相適配，所述調(diào)節(jié)螺釘?shù)捻敹隧斣谒龅恼{(diào)節(jié)孔內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述固定架上設(shè)置有第一插銷孔；所述裝置固定臺(tái)上設(shè)置有與所述第一插銷孔相對(duì)應(yīng)的第二插銷孔；
所述的第一插銷孔和第二插銷孔內(nèi)插入有固定插銷，用于將固定架可轉(zhuǎn)動(dòng)地固定在裝置固定臺(tái)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述裝置固定臺(tái)上還設(shè)置有位置調(diào)節(jié)裝置，該位置調(diào)節(jié)裝置包括調(diào)節(jié)旋鈕和旋鈕固定座，所述的旋鈕固定座固定在裝置固定臺(tái)上，所述調(diào)節(jié)旋鈕設(shè)置于旋鈕固定座上，調(diào)節(jié)旋鈕具有頂端，且調(diào)節(jié)旋鈕的頂端用于頂在所述固定架的側(cè)邊上。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述固定架呈方框形狀，具有相對(duì)設(shè)置的第一連接邊和第二連接邊；
所述固定架上還設(shè)置第一螺絲孔，所述第一螺絲孔設(shè)置在第一連接邊上，所述第二連接邊上設(shè)置有第二螺絲孔和第三螺絲孔；
所述第一連接邊上還設(shè)置有第一固定孔和第二固定孔，所述第二連接邊上還設(shè)置有第三固定孔，通過(guò)向所述第一固定孔、第二固定孔和第三固定孔內(nèi)鎖入螺釘，將所述測(cè)序反應(yīng)裝置固定在裝置固定臺(tái)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述測(cè)序反應(yīng)裝置還包括小室安裝板，所述測(cè)序反應(yīng)小室安裝在小室安裝板上，所述小室安裝板固定于所述的固定架上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述測(cè)序反應(yīng)小室包括相貼合上層基片和下層基片，所述上層基片與下層基片之間形成用于進(jìn)行基因測(cè)序反應(yīng)的反應(yīng)通道；所述上層基片上設(shè)置有與反應(yīng)通道相連通的試劑入口和試劑出口；
所述上層基片上設(shè)置有用于對(duì)反應(yīng)通道進(jìn)行加熱的加熱涂層，所述反應(yīng)通道投影在上層基片的區(qū)域稱為投影區(qū)域，所述的加熱涂層覆蓋在所述的投影區(qū)域上；
所述加熱涂層沿試劑入口與試劑出口的連線方向的兩端分別為第一端和第二端；所述加熱涂層還包括第一彎折部和第二彎折部，所述第一彎折部與所述的第一端相連接，所述第二彎折部與所述第二端相連接；
所述第一彎折部上具有第一電接觸點(diǎn)，所述第二彎折部上具有第二電接觸點(diǎn)，所述第一電接觸點(diǎn)和第二電接觸點(diǎn)用于實(shí)現(xiàn)加熱涂層的通電。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述測(cè)序反應(yīng)裝置還包括轉(zhuǎn)動(dòng)架，所述轉(zhuǎn)動(dòng)架上設(shè)置有朝向基因測(cè)序反應(yīng)小室的方向轉(zhuǎn)動(dòng)后接觸第一電接觸點(diǎn)的第一加熱電極以及接觸第二電接觸點(diǎn)的第二加熱電極；
所述轉(zhuǎn)動(dòng)架上還固定設(shè)置有入口連接管和出口連接管，所述轉(zhuǎn)動(dòng)架朝向基因測(cè)序反應(yīng)小室的方向轉(zhuǎn)動(dòng)后，所述的入口連接管與所述的試劑入口相連通，所述的出口連接管與所述的試劑出口相連通。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的測(cè)序反應(yīng)裝置的調(diào)平結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)動(dòng)架上還固定設(shè)置有溫度傳感器，所述轉(zhuǎn)動(dòng)架朝向基因測(cè)序反應(yīng)小室的方向轉(zhuǎn)動(dòng)后，所述溫度傳感器貼合在所述的加熱涂層上。