本發(fā)明涉及清洗劑，特別涉及一種精密電子元件制備清洗劑及該精密電子元件制備清洗劑的制備工藝。
背景技術：
在電子產品生產、加工、制造和使用過程中，需要對電子產品進行清洗加工，以滿足電子產品精度等其他技術要求。如對led、線路板等電子產品的表面進行清洗，以除去金屬離子、有機雜質、無機雜質、固體顆粒或手紋水印等，清洗過程均需要大量的清洗劑。
傳統(tǒng)的用于清洗電子產品的清洗劑大多以三氟三氯乙烷、三氯乙烷或氯仿等有機鹵素溶劑為主，此類有機溶劑會嚴重破壞臭氧層，危害環(huán)境，隨著《中國清洗行業(yè)ods整體淘汰計劃》的實施，已逐漸被淘汰。同時大多數有機溶劑清洗劑含有異丙醇、氯仿、白電油等毒害性比較大，氣味難聞，并且使用不安全，會影響操作者的身體健康。使得各電子產品的生產加工制造商都青睞于更環(huán)保，毒害性小，使用更安全的清洗劑產品。
目前市面上出現一些水基、半水基電子清洗劑，此類清洗劑主要是以水為基質輔以各種表面活性劑和水溶性醇醚等復配而成，該類清洗劑無毒害，無異味，使用安全，生物降解性好，環(huán)境污染小，可對電路板、led屏等電子產品表面的油污、金屬離子、有機雜質、無機雜質及固體顆粒等進行清洗。但是該類清洗劑的清洗效力不佳，使用過程中容易產生泡沫，清洗工序繁雜，且清洗后的電子元件容易出現銹蝕現象。
技術實現要素：
本發(fā)明的目的在于，針對上述問題，提供了一種精密電子元件制備清洗劑，該精密電子元件制備清洗劑性能高效，環(huán)保安全，為新型無水環(huán)保清洗劑，能對電子材料表面的金屬離子、有機雜質、無機雜質//固體顆粒及油污漬等進行有效清洗，清洗力強，該清洗劑能反復利用且對環(huán)境無污染，清洗后的電子元件不會出現腐蝕現象。
本發(fā)明的目的在于，還提供了一種所述精密電子元件制備清洗劑的制備工藝。
本發(fā)明為實現上述目的所采用的技術方案為：
一種精密電子元件制備清洗劑，其由以下質量份數的原料制成：十二烷基硫酸鈉1-10份、異己烷20-50份、無水乙醇10-40份、環(huán)己烷20-50份和乙二醇單丁醚5-25份。
所述十二烷基硫酸鈉為2份，所述異己烷為45份，所述無水乙醇為20份，所述環(huán)己烷為25份，所述乙二醇單丁醚為8份。
所述十二烷基硫酸鈉為4份，所述異己烷為30份，所述無水乙醇為30份，所述環(huán)己烷為40份，所述乙二醇單丁醚為10份。
所述十二烷基硫酸鈉為6份，所述異己烷為25份，所述無水乙醇為35份，所述環(huán)己烷為25份，所述乙二醇單丁醚為20份。
所述十二烷基硫酸鈉為6份，所述異己烷為25份，所述無水乙醇為35份，所述環(huán)己烷為25份，所述乙二醇單丁醚為20份。
所述十二烷基硫酸鈉為1份，所述異己烷為20份，所述無水乙醇為10份，所述環(huán)己烷為20份，所述乙二醇單丁醚為5份。
所述十二烷基硫酸鈉為10份，所述異己烷為50份，所述無水乙醇為40份，所述環(huán)己烷為50份，所述乙二醇單丁醚為25份。
一種前述精密電子元件制備清洗劑的制備工藝，其包括以下步驟：
步驟1：將無水乙醇投入真空乳化釜中，緩慢攪拌，并且升溫至40℃；
步驟2：將十二烷基硫酸鈉緩慢加入所述真空乳化釜中，并攪拌均勻；
步驟3：將乙二醇單丁醚加入所述真空乳化釜中，攪拌，均質乳化10分鐘；
步驟4：將異己烷加入所述真空乳化釜的油相反應釜中，開啟所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制壓力為-0.05mpa，將所述油相反應釜中的異己烷緩慢抽入所述真空乳化釜中，該抽入過程時間控制為25-30分鐘；
步驟5：將環(huán)己烷加入所述真空乳化釜的油相反應釜中，開啟所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制壓力為-0.05mpa，將油相釜中的環(huán)己烷緩慢抽入乳化釜中，該抽入過程時間控制為15-25分鐘，抽入完成后均質乳化5分鐘；
步驟6：往該真空乳化釜的夾套中注入冷水進行降溫，使溫度降至28℃以下，停止攪拌，靜置4h即完成制備過程。
所述步驟3中，均質速度為1200rpm，攪拌速度為15rpm。
所述步驟5中，均質速度為1200rpm，攪拌速度為15rpm。
本發(fā)明中所使用的原料以環(huán)保有機溶劑為主要原料，添加醇類助溶劑，不含水分子，不含硅元素，清洗效率高，清洗時間短，滲透力強，干燥快，可對電子元件或led面板等表面進行清洗，有效除去各種金屬離子、有機雜質、無機雜質、其他固體顆粒和油漬等。自然干燥，產品清洗后無白點、無水印、不發(fā)霧，順滑，且一擦拭即光潔透亮，清洗劑揮發(fā)速度快，不會產生銹蝕。同時該清洗劑氣味小，安全無毒副作用，不污染環(huán)境。
本清潔劑使用方便，使用于直接浸泡清洗、涂擦清洗和超聲波清洗。
本發(fā)明的有益效果為：本發(fā)明精密電子元件制備清洗劑性能高效，環(huán)保安全，為新型無水環(huán)保清洗劑，能對電子材料表面的金屬離子、有機雜質、無機雜質、固體顆粒及油污漬等進行有效清洗，清洗力強，該清洗劑能反復利用且對環(huán)境無污染，清洗后的電子元件不會出現腐蝕現象。通過本發(fā)明所提供的制備工藝，能夠高效、可靠地生產該精密電子元件制備清洗劑，有利降低企業(yè)的生產成本。
具體實施方式
實施例：本發(fā)明一種精密電子元件制備清洗劑，其由以下質量份數的原料制成：十二烷基硫酸鈉1-10份、異己烷20-50份、無水乙醇10-40份、環(huán)己烷20-50份和乙二醇單丁醚5-25份。
所述十二烷基硫酸鈉為2份，所述異己烷為45份，所述無水乙醇為20份，所述環(huán)己烷為25份，所述乙二醇單丁醚為8份。
所述十二烷基硫酸鈉為4份，所述異己烷為30份，所述無水乙醇為30份，所述環(huán)己烷為40份，所述乙二醇單丁醚為10份。
所述十二烷基硫酸鈉為6份，所述異己烷為25份，所述無水乙醇為35份，所述環(huán)己烷為25份，所述乙二醇單丁醚為20份。
所述十二烷基硫酸鈉為6份，所述異己烷為25份，所述無水乙醇為35份，所述環(huán)己烷為25份，所述乙二醇單丁醚為20份。
所述十二烷基硫酸鈉為1份，所述異己烷為20份，所述無水乙醇為10份，所述環(huán)己烷為20份，所述乙二醇單丁醚為5份。
所述十二烷基硫酸鈉為10份，所述異己烷為50份，所述無水乙醇為40份，所述環(huán)己烷為50份，所述乙二醇單丁醚為25份。
一種前述精密電子元件制備清洗劑的制備工藝，其包括以下步驟：
步驟1：將無水乙醇投入真空乳化釜中，緩慢攪拌，并且升溫至40℃；
步驟2：將十二烷基硫酸鈉緩慢加入所述真空乳化釜中，并攪拌均勻；
步驟3：將乙二醇單丁醚加入所述真空乳化釜中，攪拌，均質乳化10分鐘；
步驟4：將異己烷加入所述真空乳化釜的油相反應釜中，開啟所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制壓力為-0.05mpa，將所述油相反應釜中的異己烷緩慢抽入所述真空乳化釜中，該抽入過程時間控制為25-30分鐘；
步驟5：將環(huán)己烷加入所述真空乳化釜的油相反應釜中，開啟所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制壓力為-0.05mpa，將油相釜中的環(huán)己烷緩慢抽入乳化釜中，該抽入過程時間控制為15-25分鐘，抽入完成后均質乳化5分鐘；
步驟6：往該真空乳化釜的夾套中注入冷水進行降溫，使溫度降至28℃以下，停止攪拌，靜置4h即完成制備過程。
所述步驟3中，均質速度為1200rpm，攪拌速度為15rpm。
所述步驟5中，均質速度為1200rpm，攪拌速度為15rpm。
本發(fā)明精密電子元件制備清洗劑性能高效，環(huán)保安全，為新型無水環(huán)保清洗劑，能對電子材料表面的金屬離子、有機雜質、無機雜質、固體顆粒及油污漬等進行有效清洗，清洗力強，該清洗劑能反復利用且對環(huán)境無污染，清洗后的電子元件不會出現腐蝕現象。通過本發(fā)明所提供的制備工藝，能夠高效、可靠地生產該精密電子元件制備清洗劑，有利降低企業(yè)的生產成本。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明權利要求范圍所做的均等變化與修飾，皆應屬本發(fā)明權利要求的涵蓋范圍。