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      硬涂膜的制作方法_3

      文檔序號:8417114閱讀:來源:國知局
      的透光率可為91.0%以上或92. 0%以上且濁度(haze)為1.0% 以下,0.5%以下或0.4%以下。
      [0078] 另外,本發(fā)明的硬涂膜的初始顏色b值為1.0或以下。將該硬涂膜在紫外燈下暴 露于UV-B下72小時以上之后,其顏色b*值與曝光前的顏色b*值的差值可為0.5以下或 0. 4以下。
      [0079] 如上所述,本發(fā)明的硬涂膜可應用于不同領域。例如,本發(fā)明的硬涂膜可應用于移 動終端、智能手機或平板電腦的觸控面板以及各種顯示器的外殼或裝置面板。
      [0080] 通過以下實施例可更好的理解本發(fā)明,所述實施例用于說明本發(fā)明但不限制本發(fā) 明。
      [0081] 〈實施例〉
      [0082] 制各實施例1 :可光固化的弾件聚合物的制各
      [0083] 在反應器中,將50g己內醋接枝的聚輪燒聚合物[A1000,Advanced Soft Material INC]與 4. 53g Karenz-AOI [異氰酸 2-丙稀?;掖?,Showadenko Inc. ]、20mg 二月桂酸 二丁基錫[DBTDL,Merck Crop·]、IlOmg 氫醌單亞甲基釀(hydroquinone monomethylene ether)和315g甲基乙基酮混合。然后,混合物在70°C下反應5小時以得到聚輪烷,其中具 有連接至其末端的丙烯酸酯基團的聚內酯作為大環(huán)而環(huán)糊精作為終止基。
      [0084] 根據ASTM D638測定的該聚輪烷的重均分子量為600000g/mol,伸長率為20%。
      [0085] 實施例1
      [0086] 將分散有40重量%的粒徑為20-30nm的二氧化硅納米顆粒的9g二氧化硅-二季 戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)復合物(二氧化硅3. 6g,DPHA5. 4g)、Ig的制備實施例1的聚輪 烷、〇.2g光引發(fā)劑(商標名:Darocur TP0)、0.1 g苯并三唑類泛黃抑制劑(商標名:Tinuvin 400)和0. 05g氟系表面活性劑(商標名:FC4430)混合而制備硬涂料組合物。
      [0087] 將該硬涂料組合物通過棒涂法施用在尺寸為15cmX 20cm且厚度為188 μ m的PET 基板的兩側。然后將用硬涂料組合物涂布的基板的兩側通過紫外線(UV)發(fā)射器(各配置 發(fā)射波長為290-320nm的金屬鹵化物燈)之間,用來使硬涂料組合物光固化,以在基板的兩 側形成硬涂層。
      [0088] 基板兩側上的硬涂層的厚度為100 μ m。
      [0089] 實施例2
      [0090] 以與實施例1相同的方式制備硬涂膜,不同之處在于:使用Ig聚氨酯丙烯酸酯聚 合物(商標名:UA200PA,Shinnakamura Chemicals Corp.,重均分子量:2600g/mol,根據 ASTM D638測得的伸長率:170% )替代Ig制備實施例1的聚輪烷。
      [0091] 實施例3
      [0092] 以與實施例1相同的方式制備硬涂膜,不同之處在于:使用Ig聚氨酯丙烯酸酯聚 合物(商標名:UA340P,Shinnakamura Chemicals Corp.,重均分子量:13000g/mol,根據 ASTM D638測得的伸長率:150% )替代Ig制備實施例1的聚輪烷。
      [0093] 實施例4
      [0094] 以與實施例1相同的方式制備硬涂膜,不同之處在于:在完成實施例1中的光固化 之后,在基板各側形成的硬涂層的厚度為150 μ m。
      [0095] 比較實施例1
      [0096] 以與實施例1相同的方式制備硬涂膜,不同之處在于:將分散有40重量%的粒徑 為20-30nm的二氧化硅納米顆粒的IOg二氧化硅-二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)復合物 (二氧化硅4g,DPHA 6g)、0.1 g苯并三唑類泛黃抑制劑(商標名:Tinuvin 400)和0.05g氟 系表面活性劑(商標名:FC4430)混合,以與實施例1相同的方式制備硬涂膜。
      [0097] 實施例1至4和比較實施例1的硬涂膜的第一和第二硬涂層的彈性模量總結于下 表1。
      [0098] 表 1
      [0099]
      【主權項】
      1. 一種硬涂膜,其包含: 支撐基板; 第一硬涂層,形成于支撐基板的一側,具有2000至3500MPa的第一彈性模量;以及 第二硬涂層,形成于支撐基板的另一側,具有2000至3500MPa的第二彈性模量,第一彈 性模量與第二彈性模量之差設定為小于500MPa。
      2. 權利要求1的硬涂膜,其中第一彈性模量與第二彈性模量之差設定為小于300MPa。
      3. 權利要求1的硬涂膜,其中第一彈性模量與第二彈性模量獨立地在2000至3000MPa 的范圍內。
      4. 權利要求1的硬涂膜,其中第一硬涂層與第二硬涂層獨立地包括可光固化的彈性聚 合物與三至六官能的丙烯酸酯單體的可光固化的交聯共聚物,以及分散于所述可光固化的 交聯共聚物中的無機微粒。
      5. 權利要求4的硬涂膜,其中根據ASTM D638測定的,所述可光固化的彈性聚合物的伸 長率為15至200%。
      6. 權利要求4的硬涂膜,其中所述硬涂層的彈性聚合物選自聚己內酯、聚氨酯丙烯酸 酯聚合物、聚輪烷及其組合。
      7. 權利要求6的硬涂膜,其中所述聚輪烷包括環(huán)狀部分(大環(huán)),其中具有綴合至末端 的(甲基)丙烯酸酯基團的內酯化合物彼此鍵合;大環(huán)內的穿透基團;以及位于該穿透基 團兩端用于防止大環(huán)脫離的終止基。
      8. 權利要求4的硬涂膜,其中基于100重量份的硬涂層計,所述硬涂層包含40至90重 量份的可光固化的交聯共聚物和10至60重量份的無機顆粒。
      9. 權利要求4的硬涂膜,其中基于100重量份的可光固化的交聯共聚物計,所述硬涂層 包含5至20重量份的可光固化的彈性聚合物,該彈性聚合物與80至95重量份的三至六官 能的丙烯酸酯單體聚合。
      10. 權利要求4的硬涂膜,其中所述無機微粒的粒徑為IOOnm以下。
      11. 權利要求4的硬涂膜,其中所述無機微粒包括選自二氧化硅納米顆粒、氧化鋁微 粒、氧化鈦微粒和氧化鋅微粒及其組合。
      12. 權利要求4的硬涂膜,其中所述三至六官能的丙烯酸酯單體包括選自三羥甲基丙 烷三丙烯酸酯(TMPTA)、乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPEOTA)、丙氧基化甘油三丙 烯酸酯(GPTA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)及其組合。
      13. 權利要求4的硬涂膜,其還包括分散于或交聯于所述可光固化的交聯共聚物中的 添加劑。
      14. 權利要求13的硬涂膜,其中所述添加劑分散于或交聯于所述可光固化的交聯共聚 物,并且選自單或二官能的氟丙烯酸酯、氟系表面活性劑、硅系表面活性劑及其組合。
      15. 權利要求13的硬涂膜,其中所述添加劑分散于可光固化的交聯共聚物中,并包含 包括二苯甲酮化合物或苯并三唑化合物的泛黃抑制劑。
      16. 權利要求1的硬涂膜,其中所述支撐基板包括至少一種選自聚對苯二甲酸乙二醇 酯(PET)、乙烯-乙酸乙烯酯(EVA)、環(huán)烯烴聚合物(C0P)、環(huán)烯烴共聚物(C0C)、聚丙烯酸酯 (PAC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚醚醚酮(PEEK)、聚萘二甲 酸乙二醇酯(PEN)、聚醚酰亞胺(PEI)、聚酰亞胺(PI)、三乙?;w維素(TAC)、MMA(甲基丙 烯酸甲酯)和氟聚合物
      17. 權利要求1的硬涂膜,其中當22g的鋼球從50cm高處自由落至硬涂膜10次時,硬 涂膜不破裂。
      18. 權利要求1的硬涂膜,其在Ikg負載下具有7H以上的鉛筆硬度。
      19. 權利要求1的硬涂膜,其中將鋼絲絨#0000在500g的負載下,在硬涂膜的表面上往 復摩擦400次后,硬涂膜上形成2條以下刮痕。
      20. 權利要求1的硬涂膜,其具有91 %以上的透光率,0. 4以下的濁度及I. 0以下的顏 色b*值。
      21. 權利要求1的硬涂膜,其未曝光之前的顏色b*值與暴露于UVB下72小時之后的顏 色b*值的差為0. 5以下。
      22. 權利要求1的硬涂膜,其在第一或第二硬涂層上還包括至少一層選自塑料樹脂膜、 粘合劑膜、可剝離膜、導電膜、導電層、可固化的樹脂層、非導電膜、金屬網層、以及圖案化金 屬層的層。
      23. 權利要求1的硬涂膜,其厚度為50至500 y m。
      24. 權利要求1的硬涂膜,其中硬涂膜被暴露于溫度為50°C以上且濕度為80%以上的 環(huán)境中70小時以上后被置于平板上時,硬涂膜的各邊緣或各側與平板分離的最大距離為 1.0 mm以下。
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種硬涂膜,更具體地,涉及一種具有高硬度、耐沖擊性和優(yōu)良性質的硬涂膜。本發(fā)明的硬涂膜具有高硬度、耐劃性、耐沖擊性、高透明度、耐久性、耐光性和透光率,并因此可在各種領域中應用。
      【IPC分類】C08L51-08, C08J7-04, C08K3-00, C08J5-18
      【公開號】CN104736609
      【申請?zhí)枴緾N201380053664
      【發(fā)明人】姜俊求, 張影來, 洪性敦, 鄭順和, 許殷奎
      【申請人】株式會社Lg化學
      【公開日】2015年6月24日
      【申請日】2013年7月29日
      【公告號】EP2873691A1, US20150252210
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