包含硫酸鹽的噴霧干燥的顆粒的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及包含硫酸鹽的噴霧干燥的顆粒W及用于制備所述顆粒的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 顆粒洗涂劑組合物包含去污的活性成分。時常地，運些去污的成分使顆粒"發(fā)粘"。 運具有使顆粒粘在一起的效果，那負(fù)面地影響顆粒狀的復(fù)合材料的流動性并且可影響在洗 涂液體中的溶解。因此，W分開的顆粒或粉末形式的"增量劑"通常被添加到顆粒狀的組合 物中W抵消粘性并保持優(yōu)良的流動性。
[0003] 硫酸鹽通常被用作增量劑。然而，一旦添加到洗涂液體中，因為它具有非常高的堆 密度，硫酸鹽迅速下沉并在容器的底部形成沉淀物。消費者將該沉降與"差的清潔"關(guān)聯(lián)， 因為他們相信所述組合物沒有溶解到水中并且因此"不起作用"。因此，在織物手洗情況下， 緩慢溶解的沉淀物使洗涂液體感覺"有砂堿"。消費者將運與"臟的洗涂水"和"缺乏清潔" 相關(guān)聯(lián)。此外，由于在洗涂液體中緩慢溶解的硫酸鹽沉淀物，它可捕獲其它洗涂劑組分，并 且因此影響總體清潔性能。
[0004] 另一個問題是洗涂劑組合物的總體堆密度更高了。運意味著消費者趨于W洗涂劑 組合物的量過劑量或缺劑量來添加至洗涂液體中。 陽0化]對運種情況的解決方法是提供包含硫酸鹽的噴霧干燥的或快速干燥的顆粒。該 顆粒比常規(guī)的硫酸鹽具有較低的堆密度，并且因此趨于更緩慢地沉降并具有更快的溶解速 率。因此，沉淀的量更低了。
[0006] 但是，盡管沉淀的量更低，顆粒趨于使洗涂液體"渾濁"。消費者還趨于把運與"臟 的洗涂水"和"缺乏清潔"相關(guān)聯(lián)。
[0007] 在本領(lǐng)域有提供增量劑用于顆粒狀的衣物洗涂劑組合物的需要，運向洗涂液體提 供消費者更能接受的清晰度水平。
[0008] 發(fā)明人令人驚訝地發(fā)現(xiàn)包含至少45重量％硫酸鹽、0重量％至15重量％陰離子去 污表面活性劑，W及具有350g/l至700g/l堆密度的噴霧干燥或快速干燥的顆粒，并且其中 所述顆粒包含氨氧化鋼，其被提供給消費者更可接受的洗涂液體。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 本發(fā)明的第一方面將是包含至少45重量％硫酸鹽、0重量％至15重量％陰離子去 污表面活性劑、氨氧化鋼，W及具有350g/l至700g/l堆密度的顆粒，并且其中所述顆粒為 噴霧干燥或快速干燥的。
[0010] 本發(fā)明的第二方面是制備根據(jù)所述第一方面的顆粒的方法。
【具體實施方式】
[0011] 顆粒 陽012] 本發(fā)明將是包含至少45重量％硫酸鹽、0重量％至10重量％娃酸鹽、0重量％ 至10重量％聚合物和O重量％至15重量％陰離子去污表面活性劑，氨氧化鋼，W及具有350g/l至700g/l堆密度的顆粒，其中所述顆粒是噴霧干燥或快速干燥的顆粒。優(yōu)選地，顆 粒根據(jù)本發(fā)明的方法制備。
[0013]硫酸鹽在下文中更詳細(xì)地描述。顆?？砂辽?5重量％，或甚至65重量％或 甚至75重量％硫酸鹽。顆?？砂疃?9重量％硫酸鹽，或甚至90重量％，或甚至85重 量％或甚至80重量％硫酸鹽。
[0014]顆粒包含氨氧化鋼。顆粒可包含介于0. 1重量％和5重量％之間，或甚至介于0. 25重量％和5重量％之間或甚至介于0. 5重量％和5重量％之間，或甚至介于0. 5重量％和 3. 5重量％之間的氨氧化鋼。不受理論的束縛，據(jù)信氨氧化鋼的存在導(dǎo)致消費者更能接受的 洗涂液體的清晰度水平。此外，不受理論的束縛，氨氧化鋼的存在允許在顆粒中較低的聚合 物含量。添加聚合物，優(yōu)選聚簇酸醋聚合物W提供顆粒優(yōu)良的流動性。然而，使用此類聚合 物是昂貴的。令人驚訝地發(fā)現(xiàn)，氨氧化鋼的存在導(dǎo)致自由流動的顆粒但較低的聚合物含量。
[0015]顆?？砂妓猁}。如果碳酸鹽存在于顆粒中，它可W介于0重量％和30重量％ 之間，或最多20重量％，或甚至最多10重量％濃度存在。碳酸鹽可在顆粒中W至少1重 量％，或甚至2重量％，或甚至5重量％或甚至10重量％，或甚至15重量％的濃度存在。
[0016]顆?？砂?重量％至10重量％聚合物。適宜的聚合物在下文中更詳細(xì)地描述。 在顆粒中聚合物可選自聚簇酸醋均聚物或聚簇酸醋共聚物，優(yōu)選所述聚合物選自聚簇酸醋 均聚物或丙締酸/馬來酸共聚物。
[0017]適宜的陰離子去污表面活性劑在下文中更詳細(xì)地描述。在顆粒中陰離子去污表面 活性劑可為直鏈烷基苯橫酸鹽?；蝾w粒中的陰離子去污表面活性劑可為烷基乙氧基化硫酸 鹽。 陽01引顆粒可包含0重量％至10重量％娃酸鹽。
[0019]顆?？删哂薪橛?50和500Jim，優(yōu)選375-425Jim之間的平均粒度。
[0020] 不受理論的束縛，顆粒的密度是指其漂浮在洗涂液體中并表現(xiàn)出降低的沉降。顆 粒的密度比傳統(tǒng)上使用的硫酸鹽顆粒更低。運優(yōu)選通過噴霧干燥或快速干燥顆粒實現(xiàn)。在 噴霧干燥或快速干燥過程期間，優(yōu)選空氣被噴射至含水漿液中，所述漿液然后被噴霧干燥 或快速干燥W產(chǎn)生顆粒。運導(dǎo)致在顆粒中的"氣泡"。該增加的孔隙率意味著顆粒具有更高 的表面積，并因此顆粒在洗涂液體中溶解更快。運更快的溶解和較低的沉降水平意味著洗 涂液體不具有與如果使用傳統(tǒng)的硫酸鹽顆粒相同的砂堿感。然而，顆粒還充當(dāng)增量劑確保 粉末組合物優(yōu)異的流動性。
[0021] 顆?？蔀閲婌F干燥顆粒、快速干燥顆粒、附聚顆?；驍D出物。優(yōu)選地，顆粒為噴霧 干燥顆粒。
[0022] 顆粒的堆密度可為350g^至600g^，或400g^至550g^。 陽似]硫酸曲
[0024]顆粒中的硫酸鹽可為任何適宜的硫酸鹽。 陽0巧]聚合物 陽0%] 所述聚合物可為任何適宜的聚合物。
[0027]適宜的聚合物包括簇酸鹽聚合物，諸如聚丙締酸鹽，和丙締酸鹽/馬來酸鹽共聚 物和其它官能化的聚合物，諸如苯乙締丙締酸鹽。優(yōu)選地，簇酸鹽聚合物為丙締酸鹽/馬來 酸鹽共聚物，具有約2,OOO至約100,000的平均分子量，和約30:1至約1:1的丙締酸鹽與 馬來酸鹽片段的比率。
[0028] 一種適宜的聚合物為兩親性接枝聚合物（AGP)。適宜的AGP可用可被部分皂化的 乙酸乙締醋接枝數(shù)均分子量為約2,000至約100,000的聚環(huán)氧燒而獲得，聚環(huán)氧燒與乙酸 乙締醋的重量比率為約1:0.2至約1:10。所述乙酸乙締醋可被例如皂化至最多15%的程 度。所述聚環(huán)氧燒可包含環(huán)氧乙燒、環(huán)氧丙烷和/或環(huán)氧下燒單元。所選的實施例包括環(huán) 氧乙燒。
[0029] 在一些實施例中，所述聚環(huán)氧燒具有約4, 000至約50, 000的數(shù)均分子量，并且聚 環(huán)氧燒與乙酸乙締醋的重量比率為約1:0. 5至約1:6。該定義內(nèi)，W分子量為6,000(等同 于136個環(huán)氧乙燒單元）的聚環(huán)氧乙燒為基底、包含大約3重量份乙酸乙締醋單元每1重 量份聚環(huán)氧乙燒、并且自身分子量為約24, 000的物質(zhì)可W商品名SokalanHP22從BASF商 購獲得。
[0030] 適宜的AGP在洗涂劑組合物中的重量百分比為約0%至約5%，優(yōu)選約0%W上至 約4%，或約0.5%至約2%。在一些實施方案中，AGPW大于約1.5重量％存在。發(fā)現(xiàn)即使 在陽離子凝聚聚合物的存在下，AGP也提供優(yōu)異的疏水性污垢懸浮作用。
[0031] 優(yōu)選的AGP基于作為接枝基底的水溶性聚環(huán)氧燒，和經(jīng)由乙締基醋組分聚合反應(yīng) 形成的側(cè)鏈。運些聚合物具有平均小于或等于每50個亞烷基氧單元一個接枝位點和約 3000至約100, 000的平均摩爾質(zhì)量（Mw)。
[0032] 另一種適宜的聚合物為聚環(huán)氧乙燒，優(yōu)選取代的或未取代的。
[0033] 另一種適宜的聚合物為纖維素聚合物，優(yōu)選選自烷基纖維素、烷基烷氧基烷基纖 維素、簇基烷基纖維素、烷基簇基烷基纖維素，更優(yōu)選選自簇甲基纖維素（CMC)(包括嵌段 CMC)、甲基纖維素、甲基徑乙基纖維素、甲基簇甲基纖維素、W及它們的混合物。
[0034] 其它適宜的聚合物為去垢性聚合物。適宜的聚合物包括聚醋去垢性聚合物。其它 適宜的聚合物包括對苯二甲酸醋聚合物、聚氨醋、W及它們的混合物。去垢性聚合物，諸如 對苯二甲酸醋和聚氨醋聚合物可被疏水改性，例如W提供附加有益效果，諸如起泡。
[0035] 其它適宜的聚合物包括聚胺，優(yōu)選聚乙締亞胺聚合物，優(yōu)選具有環(huán)氧乙燒和/或 環(huán)氧丙烷官能化嵌段。
[0036] 其它適宜的聚合物包括合成的含氨基的兩性的/和/或兩性離子的聚合物，諸如 衍生自己二胺的那些。
[0037] 另一種適宜的聚合物為可被表面活性劑共膠束化的聚合物，諸如上文更詳細(xì)描述 的AGP。
[0038] 其它適宜的聚合物包括硅氧烷，包括氨基官能化硅氧烷。
[0039] 適宜的聚合物可包括為共聚物的粘±和污垢移除/抗再沉積劑，包括：
[0040] (i) 50至小于98重量％的結(jié)構(gòu)單元，所述結(jié)構(gòu)單元衍生自一種或多種包含簇基的 單體；（ii)1至小于49重量％的結(jié)構(gòu)單元，所述結(jié)構(gòu)單元衍生自一種或多種包含橫酸根部 分的單體；和（iii)1至49重量％的結(jié)構(gòu)單元，所述結(jié)構(gòu)單元衍生自一類或多類單體，所述 單體選自由式（I)和（II)表示的包含酸鍵的單體： 陽OW 式（I):
[0042]
陽0創(chuàng)其中在式（I)中，R。表示氨原子或CH蟲團，R表示CH2基團、CH2邸2基團或單鍵，X表示數(shù)字0-5,前提條件是當(dāng)R為單鍵時X表示數(shù)字1-5,并且Ri為氨原子或C1至C2。有 機基團；
[0044]式（II)
[0045]