固化。UV輻 射的暴露時(shí)間根據(jù)固化過程期間不同的線速度而變化。
[0053] 如下所述制備層壓的膜構(gòu)造。將表1中所示的100 μ m厚的基于雙酚A的二丙烯 酸酯混合物（EBECRYL 3600、114和130,所有購(gòu)自新澤西州伍德蘭帕克的氰特工業(yè)有限公 司（Cytec Industries, Inc.，Woodland Park, NJ)，而 DAR0CUR 4265 購(gòu)自新澤西州弗洛勒 姆帕克的巴斯夫公司（BASF, Florham Park, NJ))層涂布到兩層阻擋膜之間。隨后使用高 輸出Fusion F600D燈泡（購(gòu)自馬里蘭州蓋瑟斯堡的輻深紫外系統(tǒng)有限公司（Fusion UV Systems, Inc.，Gaithersburg, MD))在 30fpm(9. lm/min)下對(duì)該構(gòu)造進(jìn)行 UV 固化。
[0056] 使用M0C0N PERMATRAN-W(R) 700WVTR型測(cè)試系統(tǒng)（購(gòu)自明尼蘇達(dá)州明尼阿波利 斯的膜康公司（M0C0N，Inc. Minneapolis，MN))在50°C下對(duì)阻擋膜的水蒸氣滲透率進(jìn)行測(cè) 試。本實(shí)例的測(cè)試值低于〇. 〇〇5g/m2/天的檢測(cè)限。
[0057] 使用PerkinElmer Lambda 900 (購(gòu)自馬薩諸塞州沃爾瑟姆的?自金埃爾默公 司（PerkinElmer, Inc.，Waltham, ΜΑ))對(duì)層壓體膜構(gòu)造進(jìn)行測(cè)量，并且層壓體膜構(gòu)造在 400nm-800nm的范圍內(nèi)示出平均90%的透射率。根據(jù)ASTM D1876-08 "粘合劑抗剝離 性的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法（T-剝離測(cè)試）"（Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives (T-Peel Test))測(cè)試層壓體膜構(gòu)造的剝離強(qiáng)度。當(dāng)在300W萊合金UV光源下的 暴露時(shí)間介于約0. 1秒至約0. 5秒之間時(shí)，剝離強(qiáng)度大于約200g/in(200g/25mm)，當(dāng)暴露時(shí) 間大于約1. 5秒時(shí)，剝離強(qiáng)度為100g/in(100g/25mm)或更低。
[0058] 比較例C-1
[0059] 按照與實(shí)例1中所述方法類似的方法構(gòu)造阻擋膜，不同的是使用電子束（EB)輻射 來固化阻擋膜的第二（頂部）丙烯酸酯層。如實(shí)例1所述，使用具有100 μ m厚的丙烯酸酯 涂層的阻擋膜樣品來制備層壓體膜構(gòu)造。如表2所示，該構(gòu)造賦予良好的阻隔性能，但電子 束固化的阻擋膜和100 μπι厚的丙烯酸酯涂層之間具有較低的層間粘附力。
[0060] 比較例C-2
[0061] 按照與實(shí)例1中所述方法類似的方法構(gòu)造阻擋膜，不同的是使用在185nm和254nm 處具有高輸出的300W UV輻射源來固化阻擋膜的第二（頂部）丙烯酸酯層。如實(shí)例1所述， 使用具有100 μ m厚的丙烯酸酯涂層的阻擋膜樣品來制備層壓體膜構(gòu)造。如表2所示，該構(gòu) 造賦予良好的阻隔性能，但185nm UV固化的阻擋膜和100 μπι厚的丙烯酸酯涂層之間具有 較低的層間粘附力。
[0062] 比較例C-3
[0063] 按照與實(shí)例1中所述方法類似的方法構(gòu)造阻擋膜，不同的是第二（頂部）丙烯酸 酯的固化持續(xù)時(shí)間為約2秒或更長(zhǎng)。如實(shí)例1所述，使用具有100 μ m厚的丙烯酸酯涂層的 阻擋膜樣品來制備層壓體膜構(gòu)造。如表2所示，該構(gòu)造賦予良好的阻隔性能，但持續(xù)長(zhǎng)時(shí)間 UV固化的阻擋膜和100 μ m厚的丙烯酸酯涂層之間具有較低的層間粘附力。
[0064] 對(duì)于實(shí)例1、比較例C-2和比較例C-3的樣品，根據(jù)ASTM D1876-08 "粘合劑抗剝 離性的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法（T-剝離測(cè)試）"（Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives (T-Peel Test))來測(cè)試剝離強(qiáng)度，并且使用M0C0N PERMATRAN-W(R)700WVTR型測(cè) 試系統(tǒng)在50°C下測(cè)試水蒸氣傳輸速率（WVTR)。結(jié)果列于下表2和表3中。
[0068] 觀察到粘附力與劑量呈反比關(guān)系。來自典型電子束固化賦予剝離力的數(shù)據(jù)結(jié)果小 于5g/in。下表3示出了實(shí)例1和比較例C-3中的UV光源以及比較例C-2中的UV光源的 剝離力與暴露時(shí)間的關(guān)系，其中實(shí)例1和比較例C-3中的UV光源具有低于220nm的最小輸 出，而比較例C-2中的UV光源具有低至185nm的高輸出。
[0071] 實(shí)例 2
[0072] 按照與實(shí)例1中所述方法類似的方法構(gòu)造阻擋膜。然后將約2密耳（50微米）的熱 熔乙烯-乙酸乙烯酯（EVA)粘合劑涂布于該阻擋膜上。通過將實(shí)例1中使用的PET基材附 接到EVA粘合劑層來測(cè)試粘附力，然后根據(jù)ASTM D1876-08"粘合劑抗剝離性的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方 法（T-剝離測(cè)試）"（Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives (T-Peel Test))來測(cè)試剝離強(qiáng)度。在涂布過程中觀察到，對(duì)于電子束固化的丙烯酸酯，所有被考慮施 用的劑量都具有較低粘附力。觀察到使用具有254nm高輸出和低于220nm最小輸出的實(shí)例 1的UV光源并使用0. 1秒-0. 5秒暴露時(shí)間進(jìn)行UV固化的阻擋膜具有良好的粘附力（剝 離強(qiáng)度大于約200g/in)。
[0073] 以下為本公開的實(shí)施例的列表。
[0074] 項(xiàng)目1為一種裝置，包括第一阻擋層、第二阻擋層和發(fā)光層，各阻擋層至少包括外 部聚合物層，各外部聚合物層具有粘附接觸表面；所述發(fā)光層包括設(shè)置在所述第一阻擋層 和所述第二阻擋層之間的聚合物基體，其中各粘附接觸表面與發(fā)光層接觸，其中所述第一 阻擋層和所述第二阻擋層與所述發(fā)光層之間的剝離強(qiáng)度為至少100克/英寸。
[0075] 項(xiàng)目2為項(xiàng)目1所述的裝置，其中所述第一阻擋層和所述第二阻擋層與所述發(fā)光 層之間的剝離強(qiáng)度為至少200克/英寸。
[0076] 項(xiàng)目3為項(xiàng)目1或項(xiàng)目2所述的裝置，其中各所述第一阻擋層和所述第二阻擋層 還包括至少一個(gè)無機(jī)氧化物層。
[0077] 項(xiàng)目4為項(xiàng)目1至項(xiàng)目3所述的裝置，其中所述第一阻擋層和所述第二阻擋層中 的至少一個(gè)阻擋層還包括選自柔性玻璃、金屬箱、或聚合物膜的基材。
[0078] 項(xiàng)目5為項(xiàng)目1至項(xiàng)目4所述的裝置，其中所述發(fā)光層還包含至少一個(gè)量子點(diǎn)。
[0079] 項(xiàng)目6為項(xiàng)目1至項(xiàng)目5所述的裝置，其中所述聚合物基體包含可固化（甲基） 丙烯酸酯、可固化環(huán)氧物或它們的組合。
[0080] 項(xiàng)目7為項(xiàng)目1至項(xiàng)目6所述的裝置，其中所述發(fā)光層和各所述外部聚合物層在 彼此接觸時(shí)進(jìn)行固化。
[0081] 項(xiàng)目8為項(xiàng)目1至項(xiàng)目7所述的裝置，其中各所述外部聚合物層包含輻射固化的 (甲基）丙烯酸酯和任選地包含硅烷偶聯(lián)劑。
[0082] 項(xiàng)目9為項(xiàng)目1至項(xiàng)目8所述的裝置，其中使用紫外（UV)光源、可見光源、熱源或 它們的組合將所述發(fā)光層和各所述外部聚合物層固化在一起。
[0083] 項(xiàng)目10是一種裝置，包括：阻擋膜，所述阻擋膜包括：具有相對(duì)的第一主表面和第 二主表面的基材；與所述第二主表面相鄰的無機(jī)氧化物層；在所述第二主面板和所述無機(jī) 氧化物層之間的光滑聚合物層；設(shè)置在所述無機(jī)氧化物層上、與所述光滑聚合物層相對(duì)的 外部聚合物層；和與所述外部聚合物層相鄰設(shè)置的粘合層，其中所述阻擋膜與所述粘合層 之間的剝離強(qiáng)度為至少1〇〇克/英寸。
[0084] 項(xiàng)目11為項(xiàng)目10所述的裝置，其中所述光滑聚合物層包含電子束固化的（甲基） 丙烯酸酯。
[0085] 項(xiàng)12為項(xiàng)目10或項(xiàng)目11所述的裝置，其中所述粘合層包含輻射固化的（甲基） 丙烯酸酯和任選地包含硅烷偶聯(lián)劑。
[0086] 項(xiàng)目13為項(xiàng)目10至項(xiàng)目12所述的裝置，其中所述外部聚合物層包含UV輻射固 化的（甲基）丙烯酸酯和任選地包含硅烷偶聯(lián)劑。
[0087] 項(xiàng)目14為項(xiàng)目10至項(xiàng)目13所述的裝置，其中所述阻擋膜和所述粘合層之間的剝 離強(qiáng)度為至少200克/英寸。
[0088] 項(xiàng)目15為項(xiàng)目10至項(xiàng)目14所述的裝置，其中所述基材選自柔性玻璃、金屬箱或 聚合物膜。
[0089] 項(xiàng)目16為項(xiàng)目10至項(xiàng)目15所述的裝置，還包括第二阻擋膜，所述第二阻擋膜具 有：具有相對(duì)的第三主表面和第四主表面的第二基材、與所述第四主表面相鄰的第二無機(jī) 氧化物層、所述第四主表面和所述第二無機(jī)氧化物層之間的第二光滑聚合物層，和設(shè)置在 所述第二無機(jī)氧化物層上、與所述第二光滑聚合物層相對(duì)的第二外部聚合物層，其中所述 粘合層與所述第二無機(jī)氧化物層相鄰設(shè)置且與所述第二光滑聚合物層相對(duì)。
[0090] 項(xiàng)目17為項(xiàng)目16所述的裝置，其中所述第二光滑聚合物層包含電子束固化的 (甲基）丙烯酸酯。
[0091] 項(xiàng)目18為項(xiàng)目16或項(xiàng)目17所述的裝置，其中所述第二外部聚合物層包含UV輻 射固化的（甲基）丙烯酸酯和任選地包含硅烷偶聯(lián)劑。
[0092] 項(xiàng)目19為項(xiàng)目16至項(xiàng)目18所述的裝置，其中所述第二基材選自柔性玻璃、金屬 箱或聚合物膜。
[0093] 項(xiàng)目20為項(xiàng)目10至項(xiàng)目19所述的裝置，其中所述粘合層包括發(fā)光層。
[0094] 項(xiàng)目21為項(xiàng)目20所述的裝置，其中所述發(fā)光層還包含至少一個(gè)量子點(diǎn)。
[0095] 項(xiàng)目22為項(xiàng)目10至項(xiàng)目21所述的裝置，其中所述粘合層包含熱熔性粘合劑。
[0096] 項(xiàng)目23為項(xiàng)目22所述的裝置，其中所述熱熔性粘合劑包含乙烯-乙酸乙烯酯。
[0097] 項(xiàng)目24為一種形成裝置的方法，包括：在真空室中形成阻擋膜，所述阻擋膜具有 外部輻射可固化聚合物層；至少部分固化所述外部輻射可固化聚合物層以在所述阻擋膜上 形成粘附接觸表面；以及在所述粘附接觸表面形成粘合層。
[0098] 項(xiàng)目25為項(xiàng)目24所述的方法，其中在所述粘附接觸表面上形成所述粘合層之前， 從所述真空室取出所述阻擋膜。
[0099] 項(xiàng)目26為項(xiàng)目24或項(xiàng)目25所述的方法，其中所述粘合層是熱熔性粘合劑層，并 且形成所述粘合層包括將所述熱熔性粘合劑層層壓或涂布到所述粘附接觸表面上。
[0100] 項(xiàng)目27為項(xiàng)目24至項(xiàng)目26所述的方法，其中至少部分固化包括紫外（UV)輻射 固化。
[0101] 項(xiàng)目28為項(xiàng)目24至項(xiàng)目27所述的方法，其中所述外部輻射可固化聚合物層包含 輻射可固化（甲基）丙烯酸酯。
[0102] 項(xiàng)目29為項(xiàng)目24至項(xiàng)目28所述的方法，其中所述外部輻射可固化聚合物層還包 含硅烷偶聯(lián)劑。
[0103] 項(xiàng)目30為項(xiàng)目24至項(xiàng)目29所述的方法，其中所述外部輻射可固化聚合物層還包 含聚合抑制劑。
[0104] 項(xiàng)目31為項(xiàng)目30所述的方法，其中所述聚合抑制劑包括厭氧聚合抑制劑。
[0105] 項(xiàng)目32為項(xiàng)目31所述的方法，其中所述厭氧聚合抑制劑選自二乙基羥胺、四甲基 苯二胺、水楊醛肟、四甲基苯二胺、乙酸錳、4-羥基TEMP0、NPAL或吩噻嗪、以及它們的組合。
[0106] 項(xiàng)目33為項(xiàng)目24至項(xiàng)目32所述的方法，其中使用紫外（UV)光源、可見光源、熱 源或它們的組合將所述粘合層和所述外部輻射可固化聚合物層進(jìn)一步固化在一起。
[0107] 項(xiàng)目34為項(xiàng)目24至項(xiàng)目33所述的方法，其中所述阻擋膜包括與所述外部輻射可 固化聚合物層相對(duì)的基材，所述基材選自柔性玻璃、金屬箱或聚合物膜。
[0108] 項(xiàng)目35為一種形成裝置的方法，包括：在真空室中形成阻擋膜，所述阻擋膜具有 外部輻射可固化聚合物層；至少部分固化所述外部輻射可固化聚合物層以在所述阻擋膜上 形成粘附接觸表面；將所述阻擋膜層壓至包含可固化聚合物基體的粘合層，使所述粘附接 觸表面與所述粘合層接觸；以及固化所述層壓體。
[0109] 項(xiàng)目36為項(xiàng)目35所述的方法，其中在將所述阻擋膜層壓至所述粘合層之前，將所 述阻擋膜從所述真空室取出。
[0110] 項(xiàng)目37為項(xiàng)目35或項(xiàng)目36所述的方法，其中至少部分固化包括紫外（UV)輻射 固化。
[0111] 項(xiàng)目38為項(xiàng)目35至項(xiàng)目37所述的方法，其中固化所述層壓體包括熱固化、紫外 (UV)輻射固化、可見光輻射固化、電子束固化或它們的組合。
[0112] 項(xiàng)目39為項(xiàng)目35至項(xiàng)目38所述的方法，其中所述粘合層包括相對(duì)的第一主表面 和第二主表面，并且層壓所述阻擋膜包括將所述阻擋膜層壓至所述粘合層的各個(gè)所述第一 主表面和第二主表面。<