。
[0071] 本發(fā)明的0L邸進(jìn)一步包含至少一層形成于該發(fā)光層與該陰極間的電子輔助層， 且該至少一電子輔助層選自電子傳輸層W及電子注入層所組成群組。舉例而言，本發(fā)明的 0L邸進(jìn)一步包含電子傳輸層及/或電子注入層。
[0072] 于本發(fā)明的0L邸的一具體實(shí)施例中，該至少一電子輔助層含有該上述雜環(huán)化合 物。
[0073] 本發(fā)明的0L邸可進(jìn)一步包含形成于該陽極W及該發(fā)光層間或該發(fā)光層W及該陰 極間的激子阻擋層。舉例而言，該激子阻擋層形成于該空穴輔助層（例如：空穴注入層W及 空穴傳輸層）與該發(fā)光層間。W其他實(shí)例而言，該激子阻擋層形成于該電子輔助層（例如： 電子傳輸層W及電子注入層）與該發(fā)光層間。
[0074] 于本發(fā)明的0L邸的一具體實(shí)施例中，該激子阻擋層含有該上述雜環(huán)化合物。
[0075] 用于該發(fā)光層的憐光滲雜劑優(yōu)選為包含至少一種選自釘、錠、鈕、銀、鍊、餓、銀、 銷、W及金的金屬的有機(jī)金屬絡(luò)合物。此種有機(jī)金屬絡(luò)合物在前述的專利文獻(xiàn)中為已知，且 合適的絡(luò)合物可選自前述的專利文獻(xiàn)，并用于本發(fā)明。
[0076] 用于該發(fā)光層中的憐光滲雜劑含量優(yōu)選為在3重量％ (wt% )至15wt%的范圍 內(nèi)。
[0077] 本發(fā)明的優(yōu)選具體實(shí)施例
[007引 W下參照【附圖說明】本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置的結(jié)構(gòu)，但不限于此。
[0079] 圖1繪示根據(jù)本發(fā)明一具體實(shí)施例的有機(jī)電致發(fā)光裝置的示意圖。有機(jī)電致發(fā)光 裝置100包括基材110、陽極120、空穴注入層130、空穴傳輸層140、發(fā)光層150、電子傳輸層 160、電子注入層170、W及陰極180。可依序沉積該等所描述的層，W制造有機(jī)電致發(fā)光裝 置 100。
[0080] 圖2繪示根據(jù)本發(fā)明其他具體實(shí)施例的有機(jī)電致發(fā)光裝置的示意圖。有機(jī)電致發(fā) 光裝置200包括基材210、陽極220、空穴注入層230、空穴傳輸層240、激子阻擋層245、發(fā)光 層250、電子傳輸層260、電子注入層270、W及陰極280。
[0081] 圖3繪示根據(jù)本發(fā)明其他具體實(shí)施例的有機(jī)電致發(fā)光裝置的示意圖。有機(jī)電致發(fā) 光裝置300包括基材310、陽極320、空穴注入層330、空穴傳輸層340、發(fā)光層350、激子阻擋 層355、電子傳輸層360、電子注入層370、W及陰極380。
[0082] 可反向制造圖1至3所示結(jié)構(gòu)的有機(jī)電致發(fā)光裝置。在該相反結(jié)構(gòu)中，可視需要 增加或移除一層或多層。
[0083] 用于空穴注入層、空穴傳輸層、激子阻擋層、電子傳輸層、發(fā)光層、電子注入層的材 料可選自他處引用文獻(xiàn)中所發(fā)表的材料。
[0084] 此外，其全文并入?yún)⒖嫉腢S 5844363掲露一種曉性及透明基板-陽極組合。如 全文并入?yún)⒖嫉腢S 20030230980所掲露的實(shí)例，P-滲雜空穴傳輸層W 50 :1的摩爾比在 m-MTDATA中滲雜有F4-TCNQ。如全文并入?yún)⒖嫉腢S 20030230980所掲露的實(shí)例，η-滲雜 電子傳輸層W 1:1的摩爾比在BPhen中滲雜有Li。如其全文并入?yún)⒖嫉腢S 5703436及 US 5707745所掲露，陰極的實(shí)例包含具有上覆有透明、導(dǎo)電性、瓣鍛沉積的IT0層的金屬 (如儀：銀）薄層的陰極。阻擋層的原理及使用掲露于全文并入?yún)⒖嫉腢S 6097147及US 20030230980。全文并入?yún)⒖嫉腢S 20040174116則提供注入層的實(shí)例。保護(hù)層的說明則可 見于全文并入?yún)⒖嫉腢S 20040174116。
[0085] 亦可使用未詳細(xì)述及的結(jié)構(gòu)及材料，例如其全文并入?yún)⒖嫉腢S 5247190掲露的 聚合性材料（PLEDs)構(gòu)成的0L邸S。再者，可使用具有單層有機(jī)層的0L邸S?？扇缙淙牟?入?yún)⒖嫉腢S 5707745將0L邸S堆找。
[0086] 除非另有詳細(xì)說明，各種具體實(shí)施例的任意層可通過任何合適的方法沉積。對(duì)于 該有機(jī)層，較佳方法包括：例如其全文并入?yún)⒖嫉腢S 6013982及US 6087196所敘述的熱蒸 鍛法（thermal evaporation)、噴墨法（ink-jet);例如其全文并入?yún)⒖嫉腢S 6337102所述 的有機(jī)氣相沉積法（0VPD) 及例如其全文并入?yún)⒖嫉腢S 10/233, 470所述的藉由有機(jī)蒸 氣噴射印刷（organic vapor jet printing 0VJP)的沉積法。其他適用的沉積方法包括旋 涂法及其他溶液為主的制程。W溶液為主的方法W在氮或惰性氣體氛圍中進(jìn)行為佳。對(duì)于 其他層，優(yōu)選方法包括熱蒸鍛法。優(yōu)選圖案化方法包括，例如其全文并入?yún)⒖嫉腢S 6294398 和US 6468819所敘述通過光罩的沉積、冷焊；W及與沉積法有關(guān)的圖案化，例如噴墨法及 0VJD。當(dāng)然地，可使用其他方法?？筛馁|(zhì)待沉積的材料使其與特定沉積法相容。
[0087] 本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置可應(yīng)用于單一裝置、與其結(jié)構(gòu)配置成陣列的裝置、或 配置成X-Y矩陣且具有陽極與陰極的裝置。相較于傳統(tǒng)的裝置，當(dāng)與該發(fā)光層中的憐光滲 雜劑組合使用時(shí)，本發(fā)明顯著改善有機(jī)電致發(fā)光裝置的發(fā)光效率及驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定性，再者，當(dāng)應(yīng) 用于全色彩或多色彩面板時(shí)，本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置可表現(xiàn)更為優(yōu)異。
[008引實(shí)施例
[0089] W下將參照實(shí)施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明；然而，不應(yīng)受限于運(yùn)些實(shí)施例，且除非該 等實(shí)施超過本發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容，可將其簡化成W各種模式實(shí)施。
[0090] 合成例1
[00川于80°C攬拌二苯并嚷吩-4-棚酸（10克（g))、l，4-二漠苯化4g)、四（Ξ苯基麟） 鈕化42g)、甲苯（120毫升（血)）、乙醇（16毫升（血)）、水（46mL)化及碳酸鐘（14.44g)的 混合物5小時(shí)。W薄層層析法監(jiān)測該反應(yīng)；于完成該反應(yīng)后，W水（lOOmL)澤滅該反應(yīng)混合 物且使用乙酸乙醋（lOOmL)萃取，W水（3 X 30ml)萃取該有機(jī)層，并W無水硫酸鋼干燥。使 該收集的乙酸乙醋層通過娃藻±柱層析用W進(jìn)一步純化。隨之，真空下于旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中蒸 發(fā)乙酸乙醋層至干燥W產(chǎn)生13. 52g的4-(4'-漠苯基）二苯并嚷吩。將4-(4' -漠苯基） 二苯并嚷吩（lOg)、雙（4-聯(lián)苯基）胺基（13. 08g)、雙（二亞卞基丙酬）鈕（0) (0. 152g)、叔 下醇鋼化.52g)、甲苯（125ml)、Ξ (叔下基）麟（0. 274g)的混合物添加在一起，且于氮?dú)?氛圍下回流，W薄層層析法監(jiān)測該反應(yīng)。于完成該反應(yīng)后，W水巧0ml)澤滅該反應(yīng)混合物， 且使用乙酸乙醋（100ml)萃取。W水（3 X 30ml)萃取該有機(jī)層且W無水硫酸鋼干燥。使 所收集的乙酸乙醋層通過娃藻±柱層析用W進(jìn)一步純化。隨之，在真空下用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀蒸 發(fā)乙酸乙醋層至干燥。藉由添加200血甲醇進(jìn)一步沉淀該殘留物，真空下過濾及干燥。獲 得HPLC純度超過99%且呈黃色固體的10. 38g化合物1-1 (44% )?；衔?-1的烙點(diǎn)為 278. 3°C且玻璃轉(zhuǎn)化溫度為102. 9°C。
[0092]古醒R(CDC!3, δ ) :8. 16-8. 11 (m, 2H) ;7. 79-7. 77(m, 1H) ;7. 58-7. 39 (m, 18H); 7. 33-7. 22 (m, 8H)。
[009引 合成例2
[0094] 于250血燒瓶中，使4- (4'-漠苯基）二苯并嚷吩（lOg)、N-苯基-2-糞胺 (N-Phenylnaphthalen-2-amine，7. 75g)、雙（二亞卞基丙酬）鈕（0) (0. 59g)、叔下醇鋼 (6. 5g)、甲苯（150ml)、Ξ (叔下基）麟化55g)的混合物于氮?dú)夥諊禄亓鳎琖薄層層析法 監(jiān)測該反應(yīng)。于完成該反應(yīng)后，W水巧OmL)澤滅該反應(yīng)混合物，且使用乙酸乙醋（70mL)萃 取。W水（3 X 50血）萃取該有機(jī)層且W無水硫酸鋼干燥。使所收集的乙酸乙醋層通過娃 藻±柱層析用W進(jìn)一步純化。隨之，在真空下用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀蒸發(fā)乙酸乙醋層至干燥。將該 殘留物進(jìn)一步沉淀于甲醇（100ml)中，真空下過濾及干燥。獲得HPLC純度超過99%且呈黃 色固體的7g化合物1-3 (49% )。
[0095] 化合物1-3的烙點(diǎn)為202. 21°C W及玻璃轉(zhuǎn)化溫度為82. 08°C。
[0096] 古匪R(CDCl3, δ ) :8. 30-8. 17(m, 1H) ;8. 16-8. 10(m, 1H) ;7. 88-7. 83(m, 1H); 7. 82-7. 76 (m 2H) ; 7. 68-7. 63 (m, 3H) ; 7. 58-7. 30 (m, 9H) ; 7. 29-7. 22 (m, 5H)； 7. 14-7. 08 (m, IH)。
[0097] 合成例3
[009引于80°C攬拌4-二苯并巧喃棚酸（13.3g)、l，4-二漠苯（lOg)、四（Ξ苯基麟）鈕 (3. 02g)、甲苯（158mL)、乙醇化5mL)、水化5ml) W及碳酸鐘（21. 69g)的混合物5小時(shí)，W 薄層層析法監(jiān)測該反應(yīng)。于完成該反應(yīng)后，W水（lOOmL)澤滅該反應(yīng)混合物，且使用乙酸乙 醋（lOOmL)萃取。W水（3 X 30ml)萃取該有機(jī)層且W無水硫酸鋼干燥。將所收集的乙酸 乙醋層通過娃藻±柱層析用W進(jìn)一步純化。隨之，真空下于旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中蒸發(fā)乙酸乙醋層 至干燥W產(chǎn)生13. 7g的4-(4'-漠苯基）二苯并巧喃。
[009引于500血燒瓶中，使4-(4'-漠苯基）二苯并巧喃（lOg)、雙（4-聯(lián)苯基）胺基 (12. 7g)、雙（二亞卞基丙酬）鈕（0) (0. 62g)、叔下醇鋼化9g)、二甲苯（150血）、Ξ (叔 下基）麟化58g)的混合物于氮?dú)夥諊禄亓?，W薄層層析法監(jiān)測該反應(yīng)。于完成該反應(yīng) 后，W水巧OmL)澤滅該反應(yīng)混合物，且使用乙酸乙醋（70mL)萃取。W水（3 X 50mL)萃取 該有機(jī)層且W無水硫酸鋼干燥。將所收集的乙酸乙醋層通過娃藻±柱層析用W進(jìn)一步純 化。隨之，在真空下用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀蒸發(fā)乙酸乙醋層至干燥。將該殘留物進(jìn)一步沉淀于甲醇 (100ml)中，真空下過濾及干燥。獲得HPLC純度超過99%且呈淡黃色固體的7. 67g化合物 1-7(44% )0
[0100] 化合物1-7的玻璃轉(zhuǎn)化溫度為96. 57°C。
[0101] NMR(CDCl3, δ ) ： 8. 00 (d, 1H) ；7. 98-7. 87 (m, 3H) ；7. 63-7. 53 (m, lOH)； 7. 49-7. 38(m, 15H)。
[0102] 合成例4
[0103] 于500血燒瓶中，使4-(4'-漠苯基）二苯并巧喃（4. 2g)、N-(4-聯(lián)苯基）-化9-二 甲基巧-2-基）胺基巧g)、雙（二亞卞基丙酬）鈕（0)(0. 24g)、叔下醇鋼（2. 65g)、甲苯 (75mL)、S (叔下基）麟化22g)的混合物于氮?dú)夥諊禄亓?。于完成該反?yīng)后，W水 (50mL)澤滅該反應(yīng)混合物，且使用乙酸乙醋（70mL)萃取。W水（3 X 50mL)萃取該有機(jī)層 且W無水硫酸鋼干燥。將所收集的乙酸乙醋層通過娃藻±柱層析用W進(jìn)一步純化。隨