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      耐光熱升華轉印膜的制作方法

      文檔序號:12106763閱讀:483來源:國知局

      本發(fā)明涉及熱升華技術領域,具體涉及一種耐光熱升華轉印膜。



      背景技術:

      一般來說,利用現(xiàn)有的轉印膜,是進行熱升華轉印所用。目前的技術所制成的轉印膜耐光性不夠好,容易造成變色,造成產(chǎn)品質(zhì)量下降。



      技術實現(xiàn)要素:

      發(fā)明目的:本發(fā)明的目的是為了彌補現(xiàn)有研究技術的不足,提供了一種耐光熱升華轉印膜。

      技術方案:一種耐光熱升華轉印膜,所述的轉印膜包括基膜和涂層,所述的涂層由下列重量份數(shù)的各組分組成:淀粉20-30份、纖維素5-10份、聚乙烯醇6-10份、木質(zhì)素磺酸鈉10-12份、硫酸鋇3-6份、丙烯酸復合樹脂4-9份、丁酮2-8份、二氧化鈦1-8份、磷酸三鈉2-6份、固著劑1-5份、聚乙烯蠟2-5份。

      作為優(yōu)選,所述的轉印膜包括基膜和涂層,所述的涂層由下列重量份數(shù)的各組分組成:淀粉25份、纖維素6份、聚乙烯醇8份、木質(zhì)素磺酸鈉11份、硫酸鋇4份、丙烯酸復合樹脂6份、丁酮6份、二氧化鈦6份、磷酸三鈉4份、固著劑3份、聚乙烯蠟3份。

      作為優(yōu)選,所述基層膜的厚度為20-55μm,涂層的厚度為1-4μm。

      本發(fā)明還公開了一種耐光性熱升華轉印膜的制備方法,包括下列步驟:

      1)制備涂層:將淀粉、纖維素、聚乙烯醇混合,溫度升至100℃,保持1h,得到混合物a;

      2)在混合物a中加入木質(zhì)素磺酸鈉、硫酸鋇、丙烯酸復合樹脂、丁酮、二氧化鈦、磷酸三鈉,溫度升至80-110℃,保持1h,得到混合物b;

      3)在混合物b中加入固著劑、聚乙烯蠟,以1000-1500轉/分,持續(xù)轉30-40min,即可;

      4)將制備好的涂層加至基膜上。

      有益效果:本發(fā)明耐光性檢測在60℃下,降低了對使用環(huán)境的要求,不會出現(xiàn)變色等現(xiàn)象。

      具體實施方式:

      實施例1:

      一種耐光熱升華轉印膜,包括基膜和涂層,所述的涂層由下列重量份數(shù)的各組分組成:淀粉20份、纖維素5份、聚乙烯醇6份、木質(zhì)素磺酸鈉10份、硫酸鋇3份、丙烯酸復合樹脂4份、丁酮2份、二氧化鈦1份、磷酸三鈉2份、固著劑1份、聚乙烯蠟2份。

      所述基層膜的厚度為20-55μm,涂層的厚度為1-4μm。

      一種耐光性熱升華轉印膜的制備方法,包括下列步驟:

      1)制備涂層:將淀粉、纖維素、聚乙烯醇混合,溫度升至100℃,保持1h,得到混合物a;

      2)在混合物a中加入木質(zhì)素磺酸鈉、硫酸鋇、丙烯酸復合樹脂、丁酮、二氧化鈦、磷酸三鈉,溫度升至80-110℃,保持1h,得到混合物b;

      3)在混合物b中加入固著劑、聚乙烯蠟,以1000-1500轉/分,持續(xù)轉30-40min;

      4)將制備好的涂層加至基膜上。

      實施例2:

      一種耐光熱升華轉印膜,所述的轉印膜包括基膜和涂層,所述的涂層由下列重量份數(shù)的各組分組成:淀粉30份、纖維素10份、聚乙烯醇10份、木質(zhì)素磺酸鈉12份、硫酸鋇6份、丙烯酸復合樹脂9份、丁酮8份、二氧化鈦8份、磷酸三鈉6份、固著劑5份、聚乙烯蠟5份。

      作為優(yōu)選,所述基層膜的厚度為20-55μm,涂層的厚度為1-4μm。

      本發(fā)明還公開了一種耐光性熱升華轉印膜的制備方法,包括下列步驟:

      1)制備涂層:將淀粉、纖維素、聚乙烯醇混合,溫度升至100℃,保持1h,得到混合物a;

      2)在混合物a中加入木質(zhì)素磺酸鈉、硫酸鋇、丙烯酸復合樹脂、丁酮、二氧化鈦、磷酸三鈉,溫度升至80-110℃,保持1h,得到混合物b;

      3)在混合物b中加入固著劑、聚乙烯蠟,以1000-1500轉/分,持續(xù)轉30-40min,即可;

      4)將制備好的涂層加至基膜上。

      實施例3:

      一種耐光熱升華轉印膜,所述的轉印膜包括基膜和涂層,所述的涂層由下列重量份數(shù)的各組分組成:淀粉30份、纖維素10份、聚乙烯醇10份、木質(zhì)素磺酸鈉12份、硫酸鋇6份、丙烯酸復合樹脂9份、丁酮8份、二氧化鈦8份、磷酸三鈉6份、固著劑1-5份、聚乙烯蠟5份。

      作為優(yōu)選,所述基層膜的厚度為20-55μm,涂層的厚度為1-4μm。

      本發(fā)明還公開了一種耐光性熱升華轉印膜的制備方法,包括下列步驟:

      1)制備涂層:將淀粉、纖維素、聚乙烯醇混合,溫度升至100℃,保持1h,得到混合物a;

      2)在混合物a中加入木質(zhì)素磺酸鈉、硫酸鋇、丙烯酸復合樹脂、丁酮、二氧化鈦、磷酸三鈉,溫度升至80-110℃,保持1h,得到混合物b;

      3)在混合物b中加入固著劑、聚乙烯蠟,以1000-1500轉/分,持續(xù)轉30-40min;

      4)將制備好的涂層加至基膜上。

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