由多個薄膜形成的防指紋層的組合物及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及包含金屬化合物的蒸鍍物質(zhì)組合物及制備方法。
[0002] 更詳細地，本發(fā)明涉及在玻璃、塑料的表面進行防水防油的耐指紋蒸鍍時進行線 蒸鍍的涂敷層的組合物及制備方法，本發(fā)明具有優(yōu)秀的耐磨、耐鹽水、耐藥品和耐化妝品 性。
【背景技術(shù)】
[0003] 防指紋涂敷作為對玻璃等基材的表面進行特殊處理，來防止指紋之類的污染物質(zhì) 的附著，并且即使附著有污染物質(zhì)，也可以容易滴去除的技術(shù)，是一種在表面賦予薄膜的防 水防油功能的表面處理技術(shù)。
[0004] 在諸多家電中，對于裸露于外觀的部分，即，手機、DVD等家電產(chǎn)品的視窗或殼體而 言，存在裸露于人的手部的部分，并且很容易在潔凈的表面留有指?。‵ingerprint)。
[0005] 尤其，在智能手機及平板電腦的情況下，由于將視窗用作輸入單元，因此，視窗表 面的耐指紋性的必不可少的。
[0006] 在玻璃或塑料的表面進行用于防止指紋的涂敷的情況下，根據(jù)其應(yīng)用領(lǐng)域，正在 開發(fā)利用真空涂敷、浸涂（Dip coating)、噴涂（Spray coating)等技術(shù)的涂敷方法，而在韓 國國內(nèi)，主要用于在大部分的鏡片中涂敷基因物質(zhì)的利用電子束（Electron beam)的真空 蒸鍍技術(shù)已比較發(fā)達。
[0007] 在真空蒸鍍技術(shù)的情況下，作為使氟類化合物在真空條件下得到氣化，并以薄膜 方式涂敷于玻璃或塑料的表面的技術(shù)，雖然由污染物質(zhì)引起的表面不合格率低，單由間歇 工序（Batch process)引起的低的生產(chǎn)率成為問題，而雖然不斷開發(fā)用于解除這些問題的 大型裝備，但由于高的設(shè)備投資費用而成為問題。
[0008] 在浸涂（Dip coating)、噴涂（Spray coating)等液相涂敷的情況下，雖然呈現(xiàn) 出由連續(xù)工序引起的高的生產(chǎn)率，但與真空涂敷相比，呈現(xiàn)出不合格率高，且性能不佳的問 題。
[0009] 并且，以往的耐指紋蒸鍍?yōu)樵赟iO2上蒸鍍用于降低表面能的氟類化合物的技術(shù)。
[0010] 這是因為，如果在玻璃或塑料上直接蒸鍍防水防油物質(zhì)，則會導(dǎo)致耐久性的降低， 因此，為了彌補這種問題，在蒸鍍SiO2之后，蒸鍍防水防油物質(zhì)。
[0011] (現(xiàn)有技術(shù)文獻）
[0012] 公開專利第10-2011-0138541號涉及耐久性優(yōu)秀的耐指紋薄膜結(jié)構(gòu)物及其形成 方法，耐指紋薄膜結(jié)構(gòu)物包括：基板、紋理薄膜層及耐指紋涂敷層，上述紋理薄膜層以二維 平面狀形成于上述基板上，并包括多個紋理和多個紋理邊界，上述耐指紋涂敷層借助耐指 紋涂敷物質(zhì)來形成于上述紋理薄膜層的上部，而為了提高耐指紋特性的耐久性，使上述耐 指紋涂敷物質(zhì)向上述多個紋理邊界滲透，并且為了提高上述紋理薄膜層的粘結(jié)力，還包括 形成于上述基板和上述紋理薄膜層之間的基底層，從而提高耐指紋涂敷層的表面光照度， 由此防止耐指紋涂敷層因磨損而容易消失，最終能夠提高對耐指紋特性的耐久性。但仍舊 存在由高的設(shè)備投資費用引起的問題和與真空涂敷相比，不合格率高且性能不佳的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0013] 技術(shù)問題
[0014] 本發(fā)明所要實現(xiàn)的技術(shù)問題在于，提供與以往的蒸鍍相比，可以具有優(yōu)秀的耐磨、 耐鹽水、耐藥品、耐化妝品性的蒸鍍物質(zhì)組合物及其蒸鍍方法。
[0015] 解決問題的手段
[0016] 為了提高防水防油涂敷膜的耐久性而進行蒸鍍的防水防油涂敷膜的底物 (Primer)膜涂敷用組合物包含氧化硅（SiOx)、鈦（Ti)化合物、鋁（Al)化合物、鋯（Zr)化 合物中的至少一種。
[0017] 本發(fā)明可以包括：準備玻璃或高分子基板的步驟；在上述基板上借助刻蝕 (Etching)來形成在上述基板中所要蒸鍍防指紋層的部分的步驟；在包括所要蒸鍍上述防 水防油涂敷膜的部分的上述基板的表面蒸鍍由上述組合物形成的底物（Primer)膜的步 驟；在所蒸鍍的上述基膜上形成防水防油涂敷膜的步驟；以及清除（Purging)形成有上述 防水防油涂敷膜的上述基板的步驟。
[0018] 發(fā)明效果
[0019] 與以往的產(chǎn)品相比，通過本發(fā)明來蒸鍍的防指紋層具有耐磨、耐鹽水、耐藥品、耐 化妝品性等優(yōu)秀的第一效果。
[0020] 并且，具有不僅可以利用以往為了彌補耐指紋的耐久性的降低而進行蒸鍍的 SiO2，而且可以利用多種化合物來使用作為防水防油涂敷膜的耐指紋膜的基膜的第二效 果。
[0021] 與此同時，在本發(fā)明的基膜上蒸鍍防水防油涂敷膜來形成的防指紋層的上述基膜 在低于以往的真空度的真空度中實現(xiàn)蒸鍍，從而具有可以縮短蒸鍍時間的第三效果。
[0022] 由此，具有可以節(jié)約時間費用，并提高生產(chǎn)率，來減少整個工序的粘性時間（tack time)，最終可以提高生產(chǎn)效率的第四效果。
【附圖說明】
[0023] 圖1表示本發(fā)明實施例的由多個薄膜形成的防指紋層的制備方法。
[0024] 圖2表示本發(fā)明實施例的由多個薄膜形成的防指紋層的剖視圖。
[0025] 圖3表示本發(fā)明實施例的用于電子束蒸鍍法（Electron beam evaporation)的裝 置的結(jié)構(gòu)圖。
[0026] 圖4表示本發(fā)明實施例的用于電阻加熱式真空蒸鍍法的裝置的結(jié)構(gòu)圖。
[0027] 標號說明
[0028] 100 :基板
[0029] 200 :基膜
[0030] 300:防油防水涂敷膜 [0031] 400:防指紋層
[0032] 510 :電子束蒸鍍源（Source)
[0033] 520 :電子束
[0034] 530 :電子束蒸鍍法基板
[0035] ?540 :電子束蒸鏈分子（Evaporation Molecule)
[0036] 55O :鎢槍（W-Gun)
[0037] 56〇 :磁鐵（Magnet)
[0038] 610 :電阻加熱式真空蒸鍍源（Source)
[0039] 62〇 :鎢容器（W-Boat)
[0040] 630 :電阻加熱式真空蒸鍍法基板
[0041 ] 640 :電阻加熱式真空蒸鍍分子（Evaporation Molecule)
【具體實施方式】
[0042] 在基于本發(fā)明的由多個薄膜形成的防指紋層400中，可以包括：玻璃或高分子基 板100 ;根據(jù)權(quán)利要求所述的基膜200,形成于上述基板100上；以及防油防水涂敷膜300， 形成于上述基膜200上。
[0043] 為了提高上述防水防油涂敷膜300的耐久性而進行蒸鍍的防水防油涂敷膜的基 膜200涂敷用組合物可以包含含有氧化硅（SiOx)、鈦（Ti)化合物、鋁（Al)化合物，鋯（Zr) 化合物中的至少一種的混合物中的至少一種。
[0044] 或者，為了提高上述防水防油涂敷膜300的耐久性而進行蒸鍍的防水防油涂敷膜 的基膜200涂敷用組合物可以包含鈦（Ti)化合物、鋁（Al)化合物、鋯（Zr)化合物中的一 種或兩種以上的組合。
[0045] 更詳細地，上述混合物優(yōu)選包含二氧化鈦（TiO2)、氧化鋁（Al2O3)、二氧化鋯 (ZrO2)、硅酸鋁（Al2 (SiO4) 0)、高嶺土（Al2Si2O5 (OH) 4)中的至少一種。
[0046] 上述氧化娃（SiOx)可以為石英（Qu