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      粘合劑組合物及表面保護(hù)膜的制作方法

      文檔序號:9681781閱讀:625來源:國知局
      粘合劑組合物及表面保護(hù)膜的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及用于液晶顯示器的制造工序的表面保護(hù)膜。更詳細(xì)而言,涉及通過貼 合于構(gòu)成液晶顯示器的偏振片、相位差板等光學(xué)部件表面,從而為了保護(hù)偏振片、相位差板 等光學(xué)部件表面而使用的表面保護(hù)膜用的粘合劑組合物及使用該粘合劑組合物而得的表 面保護(hù)膜。
      【背景技術(shù)】
      [0002] -直以來,在作為構(gòu)成液晶顯示器的部件的偏振片、相位差板等光學(xué)部件的制造 工序中,貼合有用于暫時保護(hù)光學(xué)部件表面的表面保護(hù)膜。這樣的表面保護(hù)膜僅在制造光 學(xué)部件的工序中使用,在將光學(xué)部件組裝于液晶顯示器的時候從光學(xué)部件中剝離除去。由 于這樣的用于保護(hù)光學(xué)部件表面的表面保護(hù)膜僅在制造工序中使用,所以通常也被稱為工 序膜。
      [0003] 對于如此在制造光學(xué)部件的工序中使用的表面保護(hù)膜而言,在具有光學(xué)透明性的 聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂膜的單面形成有粘合劑層,而在貼合于光學(xué)部件之前, 將用于保護(hù)該粘合劑層的進(jìn)行了剝離處理的剝離膜貼合在粘合劑層上。
      [0004] 另外,偏振片、相位差板等光學(xué)部件在貼合表面保護(hù)膜的狀態(tài)下,由于進(jìn)行隨著液 晶顯示板的顯示能力、色調(diào)、對比度、異物混入等光學(xué)評價的產(chǎn)品檢查,所以作為針對表面 保護(hù)膜的要求性能,要求在粘合劑層中不附著氣泡和異物。
      [0005] 另外,近年來,在從偏振片、相位差板等光學(xué)部件中剝離表面保護(hù)膜時,擔(dān)心隨著 將被粘物從粘合劑層剝離時產(chǎn)生的靜電而發(fā)生的剝離帶電對液晶顯示器的電氣控制電路 的故障帶來影響,對粘合劑層要求優(yōu)異的抗靜電性能。
      [0006] 另外,在偏振片、相位差板等光學(xué)部件貼合表面保護(hù)膜時,由于各種原因,一旦剝 離表面保護(hù)膜,會再次粘合表面保護(hù)膜,此時,要求容易從被粘物的光學(xué)部件剝離(再加工 性)。
      [0007] 另外,最終在從偏振片、相位差板等光學(xué)部件中剝離表面保護(hù)膜時,要求能夠迅速 剝離。像所謂的即使通過高速剝離也能夠迅速剝離那樣,要求粘合力因剝離速度改變而變 化少。
      [0008] 由此,近年來,作為針對構(gòu)成表面保護(hù)膜的粘合劑層的要求性能,從在使用表面保 護(hù)膜時的使用方便性角度考慮,要求(1)在低的剝離速度和高的剝離速度下保持粘合力的 平衡,(2)防止發(fā)生糊殘留,(3)優(yōu)異的抗靜電性能以及(4)再加工性等。
      [0009] 但是,即使?jié)M足針對構(gòu)成表面保護(hù)膜的粘合劑層的要求性能的上述(1)~(4)中 的各自的要求性能,要同時滿足表面保護(hù)膜的粘合劑層所要求的(1)~(4)的全部的要求 性能是非常困難的課題。
      [0010] 例如,針對(1)在低的剝離速度和高的剝離速度下保持粘合力的平衡,以及(2)防 止發(fā)生糊殘留,已知如下提案。
      [0011] 在以具有碳原子數(shù)為7以下的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯與含有羧基的共聚性 化合物的共聚物為主成分,將其用交聯(lián)劑進(jìn)行交聯(lián)處理而成的丙烯酸系的粘合劑層中,存 在長期粘接著時粘合劑向被粘物側(cè)轉(zhuǎn)移,另外,相對于被粘物的粘接力的經(jīng)時上升性大的 問題。為了避免這種情況,已知設(shè)置使用具有碳原子數(shù)為8~10的烷基的(甲基)丙烯酸 烷基酯與具有醇性羥基的共聚性化合物的共聚物,將其用交聯(lián)劑進(jìn)行交聯(lián)處理而成的粘合 劑層(專利文獻(xiàn)1)。
      [0012] 另外,提出了設(shè)置在與上述同樣的共聚物中少量配合(甲基)丙烯酸烷基酯與含 有羧基的共聚性化合物的共聚物,將其用交聯(lián)劑進(jìn)行交聯(lián)處理而成的粘合劑層等。但是,這 些用于表面張力低而表面平滑的塑料板等表面保護(hù)時,還存在因加工時、保存時的加熱而 產(chǎn)生上浮等剝離現(xiàn)象的問題和/或在手工操作區(qū)域的在高速下的剝離時的再剝離性差的 問題。
      [0013] 為了解決這些問題,提出了一種粘合劑組合物,向以a)具有碳原子數(shù)為8~10的 烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分的(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份中加入b)含有 羧基的共聚性化合物1~15重量份和C)碳原子數(shù)為1~5的脂肪族羧酸的乙烯基酯3~ 100重量份而制成單體混合物的共聚物,向該單體混合物的共聚物中配合相對于上述的b) 成分的羧基為當(dāng)量以上的交聯(lián)劑而得(專利文獻(xiàn)2)。
      [0014] 在專利文獻(xiàn)2中記載的粘合劑組合物中,在加工時、保存時等不會產(chǎn)生上浮等剝 離現(xiàn)象,除此以外,粘接力的經(jīng)時上升性小而再剝離性優(yōu)異,即使長期保存,特別是即使在 高溫氣氛下長期保存也能夠用小的力再剝離,此時在被粘物上不產(chǎn)生糊殘留,另外即使進(jìn) 行高速剝離也能夠用小的力再剝離。
      [0015] 另外,針對(3)優(yōu)異的抗靜電性能,作為用于對表面保護(hù)膜賦予抗靜電性能的方 法,公開了在基材膜中混入抗靜電劑的方法等。作為抗靜電劑,例如公開了(a)具有季銨 鹽、啦啶鑰鹽、伯氨基~叔氨基等陽離子性基團(tuán)的各種陽離子性抗靜電劑、(b)具有磺酸鹽 基、硫酸酯鹽基、磷酸酯鹽基、膦酸鹽基等陰離子性基團(tuán)的陰離子性抗靜電劑、(c)氨基酸 系、氨基硫酸酯系等兩性抗靜電劑、(d)氨基醇系、丙三醇系、聚乙二醇系等非離子性抗靜電 劑、(e)使上述那樣的抗靜電劑高分子量化而得的高分子型抗靜電劑等(專利文獻(xiàn)3)。
      [0016] 另外,近年來,提出了在基材膜中含有這樣的抗靜電劑,或者不將其涂布于基材膜 的表面,而是直接在粘合劑層中含有這樣的抗靜電劑。
      [0017] 另外,針對(4)再加工性,提出了例如在丙烯酸樹脂中,相對于丙烯酸系樹脂100 重量份,以0. 0001~10重量份配合異氰酸酯系化合物的固化劑和特定的硅酸酯低聚物而 得的粘合劑組合物(專利文獻(xiàn)4)。
      [0018] 在專利文獻(xiàn)4中,以烷基的碳原子數(shù)為2~12程度的丙烯酸烷基酯、烷基的碳原 子數(shù)為4~12程度的甲基丙烯酸烷基酯等為主要單體成分,例如可以包含含有羧基的單體 等含有其他官能團(tuán)的單體成分。通常而言,優(yōu)選含有50重量%以上的上述主要單體,另外, 含有官能團(tuán)的單體成分的含量為〇. 001~50重量%,優(yōu)選為0. 001~25重量%,進(jìn)一步優(yōu) 選為0. 01~25重量%。這樣的專利文獻(xiàn)4中記載的粘合劑組合物即使在高溫下或高溫高 濕下,凝聚力和粘接力的經(jīng)時變化也小,并且顯示出對于曲面的粘接力也優(yōu)異的效果,所以 具有再加工性。
      [0019] 通常,若使粘合劑層成為柔性的粘合劑層,則容易發(fā)生糊殘留,再加工性容易降 低。即,在錯誤貼合時難以剝離,重新貼合容易變得困難。因此,認(rèn)為使具有羧基等官能團(tuán) 的單體與主劑交聯(lián)而使粘合劑層為一定的硬度是為了具有再加工性所必需的。
      [0020] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
      [0021] 專利文獻(xiàn)
      [0022] 專利文獻(xiàn)1 :日本特開昭63-225677號公報
      [0023] 專利文獻(xiàn)2 :日本特開平11-256111號公報
      [0024] 專利文獻(xiàn)3 :日本特開平11-070629號公報
      [0025] 專利文獻(xiàn)4 :日本特開平8-199130號公報

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0026] 技術(shù)問題
      [0027] 在現(xiàn)有技術(shù)中,作為對構(gòu)成表面保護(hù)膜的粘合劑層的要求性能,在低的剝離速度 和高的剝離速度下保持粘合力的平衡,要求優(yōu)異的抗靜電性能和再加工性等,但即使能夠 分別滿足各自的要求性能,也無法滿足表面保護(hù)膜的粘合劑層所要求的全部的要求性能。
      [0028] 本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的,課題在于提供一種具備優(yōu)異的抗靜電性能,在 低的剝離速度和高的剝離速度下粘合力的平衡優(yōu)異,此外,適用期長、耐久性和再加工性也 優(yōu)異的粘合劑組合物及表面保護(hù)膜。
      [0029] 技術(shù)方案
      [0030] 為了解決上述課題,本發(fā)明提供一種粘合劑組合物,其特征在于,含有由共聚性單 體的共聚物構(gòu)成的丙烯酸系聚合物,上述共聚性單體相對于上述丙烯酸系聚合物的100重 量份含有50~95重量份的(A)烷基的碳原子數(shù)為C4~C18的(甲基)丙烯酸酯單體、 0. 1~10重量份的作為能夠共聚的單體組的(B)含有羥基的能夠共聚的單體、0. 1~1. 0 重量份的(C)含有羧基的能夠共聚的單體、8~50重量份的(D)聚亞烷基二醇單(甲基) 丙烯酸酯單體、〇. 1~20重量份的(E)不含有羥基的含有氮的乙烯基單體或含有烷氧基的 烷基(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種,此外,上述粘合劑組合物不含有硅氧烷化合物, 含有(F)二官能以上的異氰酸酯化合物、(G)交聯(lián)催化劑、(H)酮-烯醇互變異構(gòu)體化合物、 (I)作為抗靜電劑的熔點為25~50°C的離子性化合物和/或含有丙烯?;碾x子性化合 物。
      [0031] 優(yōu)選相對于上述丙烯酸系聚合物的100重量份含有0. 1~10重量份的上述(F) 二官能以上的異氰酸酯化合物、〇. 001~〇. 5重量份的上述(G)交聯(lián)催化劑、0. 1~300重 量份的上述(H)酮-烯醇互變異構(gòu)體化合物,此外,上述(I)抗靜電劑在上述粘合劑組合物 中所含的熔點為25~50°C的離子性化合物和在上述共聚物中共聚的含有丙烯酰基的離子 性化合物的總計為〇. 01~5. 0重量份,上述(D)聚亞烷基二醇單(甲基)丙烯酸酯單體的 構(gòu)成聚亞烷基二醇鏈的烯化氧的平均重復(fù)數(shù)為3~14,單體中的二酯部分為0. 3%以下,水 分含有率為0. 1 %以下且在水中的溶解性是在20 %水溶液狀態(tài)下的濁度值為2 %以下。
      [0032] 優(yōu)選上述(G)交聯(lián)催化劑為金屬螯合物的交聯(lián)催化劑,上述(G)金屬螯合物的交 聯(lián)催化劑相對于上述(H)酮-烯醇互變異構(gòu)體化合物的重量比率(HV(G)為70~1000。
      [0033] 優(yōu)選上述(B)含有羥基的能夠共聚的單體是選自(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲 基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、N-羥基 (甲基)丙烯酰胺、N-羥基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羥乙基(甲基)丙烯酰胺中的至少 一種以上。
      [0034] 優(yōu)選上述(C)含有羧基的能夠共聚的單體是選自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯 酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲 基)丙烯酰氧基丙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸、2-(甲基) 丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基馬來酸、羧基聚己內(nèi)酯單(甲基)丙烯 酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基四氫鄰苯二甲酸中的至少一種以上。
      [0035] 優(yōu)選上述(D)聚亞烷基二醇單(甲基)丙烯酸酯單體是選自聚亞烷基二醇單(甲 基)丙烯酸酯、甲氧基聚亞烷基二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚亞烷基二醇(甲基)丙烯 酸酯中的至少一種以上。
      [0036] 優(yōu)選上述粘合劑組合物在交聯(lián)后的凝膠分率為95~100%。
      [0037] 優(yōu)選在上述(F)二官能以上的異氰酸酯化合物中,作為二官能異氰酸酯化合物, 是非環(huán)式脂肪族異氰酸酯化合物,是使二異氰酸酯化合物與二醇化合物反應(yīng)而生成的化合 物,作為二異氰酸酯化合物,是脂肪族二異氰酸酯,是選自四亞甲基二異氰酸酯、五亞甲基 二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、賴氨酸二異氰酸酯中的 一種,作為二醇化合物,包括選自2-甲基-1,3-丙二醇、2, 2-二甲基-1,3-丙二醇、2-甲 基-2-丙基-1,3-丙二醇、2-乙基-2- 丁基-1,3-丙二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2, 2-二甲 基-1,3-丙二醇單羥基特戊酸酯、聚乙二醇、聚丙二醇中的一種,作為三官能異氰酸酯化合 物,包括六亞甲基二異氰酸酯化合物的異氰脲酸酯體、異佛爾酮二異氰酸酯化合物的異氰 脲酸酯體、六亞甲基二異氰酸酯化合物的加合物、異佛爾酮二異氰酸酯化合物的加合物、六 亞甲基二異氰酸酯化合物的縮二脲體、異佛爾酮二異氰酸酯化合物的縮二脲體、甲苯二異 氰酸酯化合物的異氰脲酸酯體、苯二亞甲基二異氰酸酯化合物的異氰脲酸酯體、氫化苯二 亞甲基二異氰酸酯化合物的異氰脲酸酯體、甲苯二異氰酸酯化合物的加合物、苯二亞甲基 二異氰酸酯化合物的加合物、氫化苯二亞甲基二異氰酸酯化合物的加合物。
      [0038] 優(yōu)選使上述粘合劑組合物交聯(lián)而成的粘合劑層的在低的剝離速度0. 3m/min下的 粘合力為〇· 04~0· 2N/25mm,在高的剝離速度30m/min下的粘合力為2. 0N/2
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