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      一種粘合劑組合物及其在制備光學(xué)薄膜中的用圖

      文檔序號(hào):9822550閱讀:730來(lái)源:國(guó)知局
      一種粘合劑組合物及其在制備光學(xué)薄膜中的用圖
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明屬于粘合劑材料技術(shù)領(lǐng)域,具體設(shè)及一種粘合劑組合物及其用途。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 在液晶單元上貼附所述光學(xué)薄膜時(shí),通常可W使用粘合劑。另外,在光學(xué)薄膜和液 晶元件、還有光學(xué)薄膜之間的粘接中,通常為了減少光損失,使用粘合劑粘附各個(gè)材料。在 運(yùn)種情況下,由于具有在使光學(xué)薄膜固著時(shí)不需要經(jīng)過(guò)干燥工序等優(yōu)點(diǎn),因此通常使用的 是粘合劑作為粘合劑層預(yù)先被設(shè)置在光學(xué)薄膜的一側(cè)上的粘合型光學(xué)薄膜。
      [0003] 適用所述粘合型光學(xué)薄膜的液晶顯示裝置等的圖像顯示裝置被用在各種環(huán)境下。 所W,所述粘合型光學(xué)薄膜被希望具有在高溫環(huán)境下的耐熱性、在高濕環(huán)境下的耐濕性等 耐久性。作為改善該耐久性的方法,提出了使用由含氨基及/或酷胺基的(甲基)丙締酸系單 體作為0.3~10重量%的共聚合成分的(甲基)丙締酸系樹(shù)脂構(gòu)成的粘合劑,作為在偏振光 薄膜與液晶單元的玻璃基板之間的粘合劑。
      [0004] 另一方面,近年來(lái),圖像顯示裝置被希望薄型化,粘合型光學(xué)薄膜也被希望薄型 化。隨著運(yùn)種薄型化的要求,粘合型光學(xué)薄膜的粘合劑層也被需要薄型化。但是,如果薄型 化粘合劑層,則變得難W滿足耐久性。即使在使用所述專(zhuān)利文獻(xiàn)1(日本)特開(kāi)平6-108025 號(hào)公報(bào)中記載的粘合劑的情況下,如果粘合劑層變薄,也變得難W滿足耐久性。
      [0005] 專(zhuān)利文獻(xiàn)2特開(kāi)平8-199134號(hào)公報(bào)公開(kāi)有使用含有2~50重量%可^與丙締酸系 單體共聚合的含酷亞胺基單體的粘合劑的方案。
      [0006] 因此,需要提供一種用于光學(xué)薄膜的粘合劑組合物,即使其分子量較低,例如低于 200萬(wàn),也具有良好粘合性,高的耐熱、耐濕性,不易產(chǎn)生氣泡、有效地防止發(fā)生漏光,并且可 返工性好。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0007] 本發(fā)明的目的在于提供一種粘合劑組合物,用于光學(xué)薄膜時(shí)在具有良好粘合力的 同時(shí),具有提高的耐熱、耐濕性,并且不易發(fā)泡、有效地防止發(fā)生漏光、可返工性好,即使其 分子量較低。
      [000引本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
      [0009] -種粘合劑組合物,其特征在于,由W下成分(A)、成分(B)、成分(C)和成分(D)組 成:
      [0010] (A)W下的單體成分(al)、(a2)、(a3)和(a4)共聚而成的重均分子量Mw為120萬(wàn)~ 150萬(wàn),且共聚物的分子量分布(Mw/Mn)為15~25的丙締酸類(lèi)聚合物;
      [0011] (al)40~50重量份(甲基)丙締酸烷基醋單體,選自(甲基)丙締酸乙醋、(甲基)丙 締酸下醋、(甲基)丙締酸戊醋、(甲基)丙締酸己醋、(甲基)丙締酸庚醋、(甲基)丙締酸辛醋;
      [0012] (a2)0.5-5重量份含簇基的單體,所述含簇基的單體選自(甲基)丙締酸、馬來(lái)酸、 富馬酸,
      [OOK] (a3)10~15重量份含徑基的(甲基)丙締酷胺類(lèi)單體,選自N-徑甲基(甲基)丙締酷 胺、N-徑乙基(甲基)丙締酷胺、N-徑丙基(甲基)丙締酷胺,
      [0014] (曰4)30~40重量份(甲基)丙締酸芳基醋單體,選自(甲基)丙締酸苯基醋、(甲基) 丙締酸芐基醋、(甲基)丙締酸聯(lián)苯基醋;
      [0015] (B)相對(duì)于100重量份丙締酸類(lèi)聚合物0.5~5重量份異氯酸醋類(lèi)交聯(lián)劑;
      [0016] (C)相對(duì)于100重量份丙締酸類(lèi)聚合物0.5~1.0重量份硅烷偶聯(lián)劑;
      [0017] (D)相對(duì)于100重量份丙締酸類(lèi)聚合物0.1~0.5重量份交聯(lián)促進(jìn)劑。
      [0018] 所述異氯酸醋類(lèi)交聯(lián)劑選自甲苯二異氯酸醋、氯苯二異氯酸醋、六亞甲基二異氯 酸醋、四亞甲基二異氯酸醋、異佛爾酬二異氯酸醋、二苯基甲燒二異氯酸醋。
      [0019]所述丙締酸類(lèi)聚合物(A)的重均分子量Mw化20-130萬(wàn),優(yōu)選化30萬(wàn)。
      [0020]所述丙締酸類(lèi)聚合物(A)的分子量分布為20-25。
      [0021 ] 所述硅烷偶聯(lián)劑選自乙締基二甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基二甲氧基硅烷、3- 環(huán)氧丙氧基丙基二乙氧基硅烷、3-丙締酷氧基丙基二甲氧基硅烷、3-氯丙基二甲氧基硅烷。
      [0022] 所述交聯(lián)促進(jìn)劑選自環(huán)燒酸鉆、二乙酸二下錫、四正下基錫、氨氧化Ξ甲基錫、二 月桂酸二下錫。
      [0023] 上述粘合劑組合物在制備光學(xué)薄膜中的用途。
      [0024] -種光學(xué)構(gòu)件,在光學(xué)薄膜的至少一面設(shè)置了由上述的粘合劑組合物得到的粘合 劑層。
      [0025] 本發(fā)明的光學(xué)構(gòu)件用粘合劑中使用的所述丙締酸類(lèi)聚合物可W通過(guò)溶液聚合法、 本體聚合法、乳液聚合法和懸浮聚合法等目前公知的聚合法來(lái)制造。所述丙締酸類(lèi)聚合物 制備中,由于共聚單體中使用了(甲基)丙締酸芳基醋單體,導(dǎo)致其在分子量不是太高,例如 150萬(wàn)W下,的情況下,依然具有良好的粘合性、耐熱性;而共聚單體中使用的含有徑基的 (甲基)丙締酷胺類(lèi)單體,能夠明顯的提高的粘合劑組合物的耐熱性、耐濕性,同時(shí)保持好的 漏光性能,使得粘合劑即使在高溫條件下,仍然不產(chǎn)生氣泡且粘合力變化不大。
      [0026] 另外,所述丙締酸類(lèi)聚合物需要重均分子量(Mw)和數(shù)均分子量(Μη)的比值(Mw/ Μη)為15~25,是分子量分布廣、具有低拉伸彈性模量的聚合物。由于其拉伸彈性模量低,發(fā) 揮良好的應(yīng)力緩和性,有效地防止顯示偏差。如果所述比值(Mw/Mn)過(guò)大,則低分子量聚合 物增加,容易產(chǎn)生發(fā)泡;如果所述比值(Mw/Mn)過(guò)小,則應(yīng)力緩和性下降,在粘貼面積大的情 況下,容易發(fā)生漏光。
      [0027] 另外,本發(fā)明的組合物中不使用具有氨基的化合物組分,例如制備共聚物時(shí)具有 氨基的單體、具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑和交聯(lián)促進(jìn)劑,因?yàn)榫哂邪被幕衔?,在加熱時(shí)容易 產(chǎn)生具有刺激性氣味的氨氣,導(dǎo)致操作環(huán)境惡化,影響工人健康。故本發(fā)明的粘合劑具有更 加環(huán)保的優(yōu)點(diǎn)。
      【具體實(shí)施方式】
      [0028] W下通過(guò)【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行進(jìn)一步的說(shuō)明和描述。
      [0029] 制造例1
      [0030] 在具備攬拌機(jī)、回流冷凝器、溫度計(jì)和氮?dú)鈱?dǎo)入管的反應(yīng)裝置中加入分別示于表1 的重量份的共聚性單體和乙酸乙醋,加入0.2份偶氮二異下臘,將反應(yīng)容器內(nèi)的空氣W氮?dú)?置換。接著,在氮?dú)鈿夥障?,攬拌的同時(shí)升溫至60°C,使其反應(yīng)1.5小時(shí)后,繼續(xù)加入0.2份偶 氮二異下臘,升溫至80°C,使其反應(yīng)0.5小時(shí),接著再添加0.3份偶氮二異下臘,使其反應(yīng)2小 時(shí)。反應(yīng)結(jié)束后,用乙酸乙醋稀釋?zhuān)@得(甲基)丙締酸類(lèi)聚合物溶液。
      [00川制造例2-9
      [0032] 除用于聚合的原料不同外,其余制備過(guò)程與制造例1相同。
      [0033] W上個(gè)制造例制成的(甲基)丙締酸類(lèi)聚合物的由GPC測(cè)定得到的重均分子量(Mw) W及聚合物的重均分子量除W數(shù)均分子量而得的值(Mw/Mn)的數(shù)值示于表1。
      [0034] <GPC測(cè)定條件〉
      [0035] 測(cè)定裝置:HLC-8120GPC
      [0036] GPC柱構(gòu)成:W下的5連柱(l)TSK-G化 Hxl-H(保護(hù)柱),(2)TSK-G化 G7000HXL,(3) TSK-G化 GMHXL,(4)TSK-G化 GMHL,(5)TSK-G化 G2500HXL
      [0037] 樣品濃度:用四氨巧喃稀釋至1.0mg/cm3
      [0038] 流動(dòng)相溶劑:四氨巧喃
      [0039] 流量:1.0cm3/分鐘<
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