本發(fā)明涉及包含改性填料的彈性體復(fù)合物及官能化彈性體。

背景技術(shù)：
本發(fā)明涉及填料、彈性體組合物或復(fù)合物、和制造其的方法、以及用于改善彈性體組合物的一種或多種性質(zhì)的方法。更具體地，本發(fā)明涉及改性填料和這些填料在彈性體組合物中的用途。炭黑和其它填料已經(jīng)在用于橡膠、塑料、紙張或織物應(yīng)用的組合物的配混和制備中用作顏料、填料和/或補(bǔ)強(qiáng)劑。炭黑或其它填料的性質(zhì)是決定這些組合物的各種性能特性的重要因素。在過去幾十年中已經(jīng)付出了大量努力以對炭黑的表面化學(xué)進(jìn)行改性。用于將有機(jī)基團(tuán)連接到炭黑的有用方法和所得產(chǎn)物的用途描述于例如美國專利No.5,559,169、5,900,029、5,851,280、6,042,643、6,494,946、6,740,151、和7,294,185中，將其中的所有全部引入本文中作為參考。例如，美國專利No.5,559,169公開了具有連接的式--Ar--Sn--Ar'--或--Ar--Sn--Ar"--(其中Ar和Ar'為亞芳基，Ar"為芳基且n為1-8)的有機(jī)基團(tuán)的炭黑產(chǎn)品，其可用在三元乙丙橡膠(EPDM)、丙烯腈和丁二烯的部分氫化的共聚物(HNBR)、或丁基橡膠組合物中。彈性體組合物的重要用途涉及輪胎的制造且通常添加額外的成分以向最終產(chǎn)品或其組件賦予特定的性質(zhì)。例如，美國專利No.6,014,998描述了苯并三唑或甲苯基三唑在用于輪胎組件的二氧化硅補(bǔ)強(qiáng)的橡膠組合物中用以改善固化速率、固化效率、硬度、靜態(tài)和動(dòng)態(tài)模量而沒有不利地影響滯后的用途。這些組合物包括約2-約35份三唑(優(yōu)選約2-約6份三唑)每一百份橡膠。在一些情況下，還添加黃銅粉末和導(dǎo)電炭黑且所述組合物通過常規(guī)手段以一個(gè)或多個(gè)步驟混合。美國專利No.6,758,891涉及炭黑、石墨粉末、石墨纖維、碳纖維、碳原纖、碳納米管、碳織物、玻璃狀炭產(chǎn)品和活性炭通過與三氮烯改性劑的反應(yīng)而進(jìn)行的處理。所得碳可用于橡膠、塑料、印刷油墨、油墨、噴墨油墨、漆、調(diào)色劑和著色劑、瀝青、混凝土、其它建筑材料、和紙中。如上所述，填料可向多種材料包括彈性體組合物提供補(bǔ)強(qiáng)的益處。除常規(guī)的填料屬性之外，還存在提供可改善一種或多種彈性體性質(zhì)，尤其是滯后和/或耐磨性的填料的期望。然而，在過去，對于一些使用填料的彈性體組合物，填料可典型地改善一種性質(zhì)，但是損害其它性質(zhì)。例如，盡管滯后可改善，但是耐磨性可降低或者不具有改善。因此，存在提供優(yōu)選可提升這些性質(zhì)之一而對其它性質(zhì)不具有任何顯著損害的填料的需要。甚至更優(yōu)選的是可將兩種性質(zhì)都改善即改善滯后并改善耐磨性的填料。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的特征是提供促進(jìn)一種或多種有益性質(zhì)的新的種類的填料。本發(fā)明的進(jìn)一步特征是提供當(dāng)存在時(shí)可具有改善彈性體組合物中的滯后的能力的填料。本發(fā)明的額外的特征是提供當(dāng)存在時(shí)可具有改善彈性體組合物中的耐磨性的能力的填料。本發(fā)明的進(jìn)一步特征是提供在彈性體組合物中實(shí)現(xiàn)關(guān)于滯后和耐磨性的性質(zhì)的平衡的方法。本發(fā)明的額外的特征和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分地闡明，和部分地將從所述描述明晰，或者可通過本發(fā)明的實(shí)踐獲知。本發(fā)明的特征和其它優(yōu)點(diǎn)將通過在說明書和所附權(quán)利要求中特別指出的要素和組合實(shí)現(xiàn)和獲得。為了實(shí)現(xiàn)這些和其它優(yōu)點(diǎn)，根據(jù)本發(fā)明的目的，如在本文中體現(xiàn)和廣泛描述的，本發(fā)明涉及改性填料，例如改性炭黑、改性金屬氧化物、具有碳相和含硅物質(zhì)相的改性填料等。改性填料可為具有至少一個(gè)三唑、或至少一個(gè)吡唑、或其任意組合吸附在其上的填料。提供了更具體的式和實(shí)例。該改性填料可任選地具有連接的至少一個(gè)化學(xué)基團(tuán)，例如有機(jī)基團(tuán)，例如包括至少一個(gè)烷基和/或芳族基團(tuán)的有機(jī)基團(tuán)。所述烷基和/或芳族基團(tuán)可直接連接到所述填料。所述化學(xué)基團(tuán)可與吸附到所述填料上的基團(tuán)相同或類似或不同。所述連接的化學(xué)基團(tuán)可為或者包括至少一個(gè)三唑、或至少一個(gè)吡唑、或至少一個(gè)咪唑、或其任意組合。本發(fā)明還涉及具有連接于其上的至少一個(gè)三唑的改性填料，例如改性炭黑或改性金屬氧化物等。本發(fā)明進(jìn)一步涉及含有本發(fā)明的改性填料的任意一種或多種和至少一種官能化彈性體的彈性體組合物、以及制造其的方法。本發(fā)明進(jìn)一步涉及由本發(fā)明的一種或多種改性填料和/或本發(fā)明的一種或多種彈性體組合物或聚合物組合物制造、或者含有本發(fā)明的一種或多種改性填料和/或本發(fā)明的一種或多種彈性體組合物或聚合物組合物的物品，例如輪胎或其部件、以及其它彈性體和/或聚合物物品。本發(fā)明進(jìn)一步涉及通過將本發(fā)明的一種或多種改性填料引入到彈性體組合物例如輪胎或其部件中而改善所述彈性體組合物中的滯后和/或耐磨性的方法。將理解，前面的總體描述和下面的詳細(xì)描述僅是示例性的和解釋性的且意圖提供如所要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步說明。具體實(shí)施方式本發(fā)明涉及改性填料、含有所述改性填料和官能化彈性體的彈性體組合物、由所述改性填料或彈性體或其它聚合物組合物制造或者含有所述改性填料或彈性體或其它聚合物組合物的物品、制造其的方法、和改善彈性體性質(zhì)的方法，所述彈性體性質(zhì)包括，但不限于，滯后和/或耐磨性。更詳細(xì)地，本發(fā)明部分地涉及改性填料，其為或者包括具有吸附于其上的如下物質(zhì)的填料：(a)至少一個(gè)三唑，例如1,2,4三唑；(b)至少一個(gè)吡唑；或其任意組合。當(dāng)存在于彈性體組合物中時(shí)，與未經(jīng)改性的相同填料相比(即，與未經(jīng)處理的或未經(jīng)改性的填料相比)，所述改性填料優(yōu)選改善耐磨性。用于證實(shí)該試驗(yàn)參數(shù)的彈性體組合物可為實(shí)施例中使用的彈性體組合物之一。本發(fā)明還部分地涉及改性填料，其為或者包括具有吸附于其上的如下物質(zhì)的填料：a)至少一個(gè)三唑(在存在或不存在任何其它芳族基團(tuán)的情況下)，例如至少一個(gè)1,2,4-三唑，其具有含硫或含多硫的取代基；或b)至少一個(gè)吡唑(在存在或不存在任何其它芳族基團(tuán)的情況下)，其具有含硫取代基；或其任意組合。此外，優(yōu)選地，當(dāng)存在于彈性體組合物中時(shí)，與未經(jīng)改性的填料相比，所述改性填料改善耐磨性。此外，為了證實(shí)該試驗(yàn)性質(zhì)，可使用實(shí)施例中使用的彈性體組合物之一。對本發(fā)明的目的而言，(a)和/或(b)的吸附意指吸附的化學(xué)基團(tuán)不化學(xué)地連接到填料的表面上且可通過溶劑提取，例如Soxhlet提取從所述表面除去。例如，吸附到填料上的化學(xué)基團(tuán)可通過可在甲醇或乙醇中進(jìn)行16-18小時(shí)的Soxhlet提取除去，其中所述提取除去全部、或者幾乎或基本上全部的所述化學(xué)基團(tuán)。所述提取可重復(fù)一次或多次。吸附的基團(tuán)的殘基可殘留在填料的表面上是可能的。對本發(fā)明的目的而言，如本文中描述的通過溶劑的所述提取可除去吸附的化學(xué)基團(tuán)的至少80重量％，且通常吸附的化學(xué)基團(tuán)的至少90重量％或至少95重量％。該測定可通過提取的和未提取的樣品的元素分析進(jìn)行。對本發(fā)明的目的而言，所述三唑包括具有含三唑的基團(tuán)的化學(xué)基團(tuán)。所述三唑可為1,2,4-三唑或1,2,3-三唑。所述三唑可為含硫醇或多硫化物的聚三唑(多三唑，polytriazole)。優(yōu)選1,2,4-三唑或含1,2,4-三唑的基團(tuán)作為吸附的化學(xué)基團(tuán)。所述三唑的實(shí)例包括具有下式的三唑(或者其互變異構(gòu)體)：或具有下式的三唑(或者其互變異構(gòu)體)：其中，Zb是亞烷基(例如，C1-C4亞烷基)，其中b為0或1；X相同或不同且為H、NH2、SH、NHNH2、CHO、COOR、COOH、CONR2、CN、CH3、OH、NDD'、或CF3；Y為H、或NH2；A為官能團(tuán)且可為或者包括：SkR、SSO3H、SO2NRR'、SO2SR、SNRR'、SNQ、SO2NQ、CO2NQ、S-(1,4-哌嗪二基)-SR、2-(1,3-二噻烷基)、或2-(1,3-二硫雜環(huán)戊烷基)；或者，由一個(gè)或多個(gè)所述官能團(tuán)取代的直鏈、支化、芳族、或環(huán)狀的烴基團(tuán)；其中，R和R'能夠相同或不同且為：氫；支化或未支化的C1-C12的未取代或取代的烷基、烯基、炔基；未取代或取代的芳基；未取代或取代的雜芳基；未取代或取代的烷芳基；未取代或取代的芳烷基、亞芳基、亞雜芳基、或烷基亞芳基(亞烷芳基，alkylarylene)；k是1-8的整數(shù)；且Q為(CH2)w、(CH2)xO(CH2)z、(CH2)xNR(CH2)z、或(CH2)xS(CH2)z，其中x為1-6，z為1-6，且w為2-6。SkR可為SkH。對于SkR，當(dāng)R不是H時(shí)，k是2-8，而且，當(dāng)R是H時(shí)，k是1-8；E是含多硫的基團(tuán)(例如Sw(其中w為2-8))、SSO、SSO2、SOSO2、SO2SO2；和所述三唑可任選地被NDD'取代基進(jìn)行N取代，其中D和D'相同或不同且為H或C1-C4烷基。所述三唑的更具體實(shí)例包括，但不限于，3-氨基-1,2,4-三唑-5-硫醇、3-氨基-1,2,4-三唑-5-基-二硫化物；1,2,4-三唑-3-硫醇；1,2,4-三唑-3-基-二硫化物；3-氨基-1,2,4-三唑-5-基-三硫化物；4-氨基-3-肼基-1,2,4-三唑-5-硫醇等。對本發(fā)明的目的而言，所述吡唑包括具有含吡唑的基團(tuán)的化學(xué)品。所述吡唑可為含硫醇或多硫化物的聚吡唑(多吡唑，polypyrazole)。所述吡唑的實(shí)例可包括具有下式的吡唑(或者其互變異構(gòu)體)：或具有下式的吡唑(或者其互變異構(gòu)體)：其中，Zb是亞烷基(例如，C1-C4亞烷基)，其中b為0或1；X和Y獨(dú)立地為H、NH2、SH、NHNH2、CHO、COOR、COOH、CONR2、CN、CH3、OH、NDD'、或CF3，或者Y可為R，其中每個(gè)X和Y相同或不同；A為官能團(tuán)且可為或者包括：SkR、SSO3H、SO2NRR'、SO2SR、SNRR'、SNQ、SO2NQ、CO2NQ、S-(1,4-哌嗪二基)-SR、2-(1,3-二噻烷基)、或2-(1,3-二硫雜環(huán)戊烷基)；或者，由一個(gè)或多個(gè)所述官能團(tuán)取代的直鏈、支化、芳族、或環(huán)狀的烴基團(tuán)；其中，R和R'能夠相同或不同且為：氫；支化或未支化的C1-C12的未取代或取代的烷基、烯基、炔基；未取代或取代的芳基；未取代或取代的雜芳基；未取代或取代的烷芳基；未取代或取代的芳烷基、亞芳基、亞雜芳基、或烷基亞芳基；k是1-8的整數(shù)；且Q為(CH2)w、(CH2)xO(CH2)z、(CH2)xNR(CH2)z、或(CH2)xS(CH2)z，其中x為1-6，z為1-6，且w為2-6。SkR可為SkH。對于SkR，當(dāng)R不是H時(shí)，k是2-8，而且，當(dāng)R是H時(shí)，k是1-8。E是含多硫的基團(tuán)(例如Sw(其中w為2-8))、SSO、SSO2、SOSO2、或SO2SO2，和D和D'相同或不同且為H或C1-C4烷基。所述吡唑的更具體實(shí)例包括，但不限于，吡唑-3-硫醇，吡唑-3-基二硫化物、和/或3-甲基-吡唑-5-硫醇。對于本文中所列的式中的任一個(gè)，關(guān)于取代基A，更具體的實(shí)例包括，但不限于，SH；SSAr，其中Ar為三唑或吡唑；或者SSAr，其中Ar為不同的雜環(huán)。如所述的，吸附到填料或填料的表面上以產(chǎn)生該類型的改性填料的化學(xué)基團(tuán)可為單一的化學(xué)基團(tuán)、或者兩個(gè)或更多個(gè)不同類型的化學(xué)基團(tuán)?？纱嬖谝粋€(gè)或多個(gè)不同類型的三唑和/或可存在一個(gè)或多個(gè)不同類型的吡唑，或者任意組合，例如一種或多種三唑與一種或多種吡唑等。另外，作為選擇，不同于所述三唑和/或吡唑的其它化學(xué)基團(tuán)也可另外存在于所述填料上作為吸附的化學(xué)基團(tuán)。吸附的化學(xué)基團(tuán)可完全或者基本上完全在填料的暴露表面的表面區(qū)域上以形成改性填料或者可為更少的量。舉例來說，吸附的化學(xué)基團(tuán)可占所述填料表面的表面積的至少5％、至少10％、至少20％、至少30％、至少40％、至少50％、至少60％、至少70％、至少80％、至少90％、至少95％、至少97％、至少99％、或約100％，或者在填料的表面上的表面積的100％。吸附的化學(xué)基團(tuán)的量可為在填料上的任何量。例如，吸附的化學(xué)基團(tuán)的總量可為通過氮?dú)馕?BET方法)測量的約0.01-約10微摩爾雜環(huán)基團(tuán)/m2填料表面積，包括約1-約8微摩爾/m2、約2-約6微摩爾/m2、或者約3-約5微摩爾/m2。如本文中所描述的接收吸附的化學(xué)基團(tuán)和/或連接的化學(xué)基團(tuán)的填料可為任何常規(guī)的填料。所述填料為粒狀填料。例如，所述填料可為一種或多種類型的炭黑、一種或多種類型的金屬氧化物、或含金屬的填料(例如，硅、鎂、鈣、鈦、釩、鈷、鎳、鋯、錫、銻、鉻、釹、鉛、鋇、銫和/或鉬的氧化物或填料，或者含有硅、鎂、鈣、鈦、釩、鈷、鎳、鋯、錫、銻、鉻、釹、鉛、鋇、銫和/或鉬的氧化物或填料)、或者一種或多種類型的其它含碳填料、例如包括至少一個(gè)碳相和至少一個(gè)含金屬物質(zhì)的相或含硅物質(zhì)的相的多相聚集體(也稱作經(jīng)硅處理的炭黑)。所述填料可為經(jīng)二氧化硅涂覆的炭黑、氧化炭黑、磺化炭黑、或者具有連接的一個(gè)或多個(gè)化學(xué)基團(tuán)例如有機(jī)基團(tuán)的填料。關(guān)于炭黑，所述炭黑可為任何ASTM型炭黑，例如ASTM-100至ASTM-1000型炭黑。所述填料可為一種或多種類型的補(bǔ)強(qiáng)級(jí)填料、輪胎級(jí)填料、或橡膠級(jí)填料，例如輪胎級(jí)炭黑或橡膠級(jí)炭黑。填料的其它實(shí)例包括碳酸鈣、粘土、滑石、硅酸鹽等。所述填料可為任何含碳填料，例如纖維、納米管、石墨烯等。所述填料或補(bǔ)強(qiáng)劑例如炭黑可為任何可商購得到的炭黑和/或二氧化硅，例如由CabotCorporation、Degussa或EvonikCorporation等提供的那些。無論如何，對于可用于形成本發(fā)明的改性填料的炭黑、二氧化碳或其它填料，都不存在臨界性(criticality)。因此，所述填料例如炭黑和/或二氧化硅可具有任何物理、分析和/或形態(tài)學(xué)性質(zhì)。合適的炭黑的實(shí)例包括本文中列舉的那些、以及不導(dǎo)電或?qū)щ姷臓t法炭黑、Cabot的Black炭黑、Cabot的炭黑、Cabot的炭黑、Cabot的炭黑、Cabot的炭黑、Cabot的炭黑、Cabot的炭黑、Cabot的炭黑、Cabot的IRXTM炭黑、Cabot的炭黑、Cabot的CRXTM炭黑、Cabot的CSXTM炭黑、Cabot的EcoblackTM炭黑、Degussa的CK-3炭黑、Degussa的炭黑、Degussa的炭黑、Degussa的Ecorax炭黑、Degussa的炭黑、Degussa的炭黑。其它實(shí)例包括燈黑、具有連接的化學(xué)基團(tuán)例如有機(jī)基團(tuán)的炭黑、經(jīng)硅處理的炭黑、經(jīng)金屬處理的炭黑、經(jīng)二氧化硅涂覆的炭黑、經(jīng)化學(xué)處理的(例如，經(jīng)表面活性劑處理的)炭黑、和任何級(jí)別的炭黑或二氧化硅。所述炭黑可具有下列性質(zhì)的一種或多種。CTAB表面積可為10m2/g-400m2/g，例如20m2/g-250m2/g或50m2/g-150m2/g。碘值可為10m2/g-1000m2/g、20m2/g-400m2/g、或20-300m2/g或50m2/g和150m2/g。DBPA可為20mL/100g-300mL/100g，例如30mL/100g-200mL/100g或50mL/100g-150mL/100g。許多合適的炭黑起始材料是可商購得到的。商業(yè)炭黑的代表性實(shí)例包括：可得自CabotCorporation的以商標(biāo)和銷售的炭黑(例如330、300、90、85、80、SO、SO-1、V、VH、NS-1、10H、9、7H、6、6LM、3、M、3H、P、K、J和XC72)。可使用可得自其它供應(yīng)商的炭黑。起始碳產(chǎn)品可為包括碳相和第二相例如金屬氧化物或碳化物的雙相顆粒。所述填料例如炭黑可具有低的PAH量?？尚纬商亢谑沟盟鎏亢诰哂械偷腜AH量，或者可適當(dāng)?shù)靥幚砜缮藤彽玫降奶亢谝猿AH從而形成具有低的PAH量的炭黑。本發(fā)明的炭黑可具有低的PAH量以及任何標(biāo)準(zhǔn)ASTM炭黑技術(shù)要求，例如關(guān)于碘吸收、DBPA、粉碎DBPA、CTAB、氮表面積、STSA、和/或著色強(qiáng)度等。所述炭黑可為ASTM規(guī)格炭黑，例如N110、N121、N220、N231、N234、N299、N326、N330、N339、N347、N351、N358、N375、N539、N550、N650、N660、N683、N762、N765、N774、N787、和/或N990炭黑，其具有對于特定N-系列炭黑的ASTM規(guī)格性質(zhì)。所述炭黑可具有范圍為20m2/g-150m2/g或更高的STSA。所述炭黑可為具有低的PAH量的任何ASTM級(jí)炭黑，例如從N110ASTM炭黑到N990ASTM炭黑，且更優(yōu)選N110-N500ASTM炭黑?；诒景l(fā)明，任何商品級(jí)炭黑可形成為具有低的PAH量和/或可隨后處理以具有低的PAH量。對本發(fā)明的目的而言，低的PAH量包括低的PAH22或者由低的PAH22定義。如上所述，PAH22是如美國專利申請公布No.2008/159947的圖1中所闡述的PAH的量度。對本發(fā)明的目的而言，低的PAH量通過低的PAH22定義。關(guān)于存在于炭黑中的PAH22的量，合適的量的實(shí)例包括500ppm或更低、400ppm或更低、300ppm或更低、200ppm或更低、150ppm或更低、125ppm或更低、100ppm或更低、75ppm或更低、50ppm或更低、25ppm或更低。關(guān)于炭黑中存在的PAH22的總量，合適的范圍包括約1ppm-約500ppm、5ppm-500ppm、15ppm-500ppm、5ppm-50ppm、5ppm-100ppm、1ppm-100ppm、或1ppm-30ppm。對于以上提供的范圍或量中的任一者，下限可為0.1ppm、1ppm、2ppm、5ppm、10ppm、或15ppm。所述范圍可為精確的或近似的(例如、“約1ppm”等)。所述ppm范圍可適用于所有或任何數(shù)量的PAH(例如，所有PAH、或者PAH的一個(gè)或多個(gè))。對本發(fā)明的目的而言，PAH22是美國專利申請公布No.2008/159947的圖1中確定的除苯并(j)氟蒽烯之外的PAH的度量。而且，對本發(fā)明的目的而言，PAH8是苯并(a)蒽、苯并(a)芘、苯并(e)芘、苯并(b)氟蒽烯、苯并(j)氟蒽烯、苯并(k)氟蒽烯、和二苯并(a,h)蒽的度量。BaP是指苯并(a)芘。本發(fā)明的炭黑可具有約0.15-約2μg/m2，例如0.2-1.5μg/m2、或0.3-1.25μg/m2、或0.4-1.0μg/m2等的PAH含量。通常，所述炭黑可為爐法炭黑、槽法炭黑、燈黑、熱解炭黑(thermalblack)、乙炔黑、等離子法炭黑、含有含硅物質(zhì)和/或含金屬物質(zhì)的碳產(chǎn)品等。所述炭黑可為短驟冷(shortquench)或長驟冷(longquench)炭黑。對本發(fā)明的目的而言，可使用短驟冷炭黑且其可被認(rèn)為是通過如下方法形成的炭黑：其中，炭黑在由熱解的形成之后經(jīng)歷短驟冷以使炭黑形成反應(yīng)停止。短驟冷是確保95％或更低的CB甲苯變色值(根據(jù)ASTMD1618測試)的爐法炭黑制造過程的參數(shù)。短驟冷炭黑的實(shí)例包括，但不限于，7H炭黑、J炭黑、10H炭黑、10炭黑、K炭黑、M炭黑、和N-121炭黑。短驟冷炭黑可為爐法炭黑。短驟冷炭黑可為N110至N787ASTM炭黑。短驟冷炭黑可具有任意上述關(guān)于PAH含量、STSA、I2值(mg/g)/STSA(m2/g)比、DBP等的參數(shù)。所述炭黑可為氧化炭黑，例如使用氧化劑預(yù)先氧化的。氧化劑包括，但不限于，空氣；氧氣；臭氧；NO2(包括NO2和空氣的混合物)；過氧化物例如過氧化氫；過硫酸鹽，包括過硫酸鈉、過硫酸鉀或過硫酸銨；次鹵酸鹽例如次氯酸鈉；巖鹽、鹵酸鹽(halate)、或高鹵酸鹽(例如亞氯酸鈉、氯酸鈉、或高氯酸鈉)；氧化性酸例如硝酸；和含過渡金屬的氧化劑例如高錳酸鹽、四氧化鋨、鉻氧化物、或硝酸鈰銨(cericammoniumnitrate)?？墒褂醚趸瘎┑幕旌衔?，特別是氣態(tài)氧化劑例如氧氣和臭氧的混合物。另外，也可使用利用其它的將離子性或可離子化的基團(tuán)引入到顏料表面上的表面改性方法例如氯化和磺化制備的炭黑?？捎糜诋a(chǎn)生經(jīng)預(yù)氧化的炭黑的方法是本領(lǐng)域中已知的且若干種類型的經(jīng)氧化的炭黑是可商購得到的。關(guān)于經(jīng)硅處理的炭黑及其制造方法的細(xì)節(jié)提供在例如美國專利No.5,830,930、5,877,238、6,028,137、和6,323,273B1中，將所有的引入全部本文中作為參考。還適合作為起始材料的為經(jīng)二氧化硅涂覆的炭黑。這樣的炭黑描述于例如美國專利No.6,197,274B1中，將其全部引入本文中作為參考。經(jīng)硅處理的炭黑可用氧化劑例如硝酸和臭氧氧化和/或可與偶聯(lián)劑結(jié)合，如例如在美國專利No.6,323,273B1中所描述的。關(guān)于金屬氧化物，所述金屬氧化物可為氧化鋁、含鋁填料、氧化鋅、含鋅填料、二氧化硅或含二氧化硅的填料，例如熱解二氧化硅或沉淀二氧化硅。所述二氧化硅可為如在彈性體中所使用的可分散二氧化硅。更具體的實(shí)例包括Z1165二氧化硅，Rhodia(Rhone-Poulenc)的HDS，EvonikIndustries(Degussa)的5000GR和7000GR，以及PPG的Hi-Sil223，Agilon400和CiptaneTM二氧化硅。所述金屬氧化物，例如二氧化硅，可具有100m2/g-240m2/g的CTAB、和/或100-240m2/g的BET；和/或至少2.5cm3/g的總孔體積和/或150ml/100g-400ml/100g的DOP吸油值。對本發(fā)明的目的而言，所述含二氧化硅的填料包括含有基于所述填料的重量百分?jǐn)?shù)的至少0.1重量％的二氧化硅含量的任何填料。所述含二氧化硅的填料可含有至少0.3重量％、至少0.5重量％、至少1重量％、至少5重量％、至少7.5重量％、至少10重量％、至少15重量％、至少17.5重量％、至少20重量％、至少25重量％、至少30重量％、至少35重量％、至少40重量％、至少50重量％、至少60重量％、至少70重量％、至少80重量％、至少90重量％，或者0.1重量％-100重量％、2重量％-100重量％、5重量％-99重量％、10重量％-90重量％、15重量％-90重量％、15重量％-50重量％、15重量％-35重量％，或者小于或等于50重量％和任何其它重量百分?jǐn)?shù)的二氧化硅重量百分?jǐn)?shù)，所有重量百分?jǐn)?shù)都是基于含二氧化硅的填料的總重量。含二氧化硅的填料可為或者包括沉淀二氧化硅、熱解二氧化硅、經(jīng)二氧化硅涂覆的炭黑、和/或經(jīng)硅處理的炭黑。任意所述含二氧化硅的填料可被化學(xué)官能化，例如以具有連接的化學(xué)基團(tuán)，例如連接的有機(jī)基團(tuán)?？墒褂煤趸璧奶盍系娜魏谓M合。此外，作為選擇，所述含二氧化硅的填料可與任何不含二氧化硅的填料例如炭黑組合使用。在經(jīng)硅處理的炭黑中，含硅物質(zhì)例如硅的氧化物或碳化物分布遍及炭黑聚集體的至少一部分作為所述炭黑的內(nèi)在部分。常規(guī)的炭黑以聚集體的形式存在，其中各聚集體由作為碳的單相組成。該相可以石墨晶粒和/或無定形碳的形式存在，且通常為這兩種形式的混合物。炭黑聚集體可通過在所述炭黑聚集體的至少一部分表面上沉積含硅物質(zhì)例如二氧化硅而改性。該所得物可描述為經(jīng)硅涂覆的炭黑。本文中作為經(jīng)硅處理的炭黑描述的材料不是已被涂覆或以其它方式改性的炭黑聚集體，而實(shí)際上代表一種不同類型的具有兩相的聚集體。一相為碳，其仍然作為石墨晶粒和/或無定形碳存在，而第二相為二氧化硅(和可能地其它含硅物質(zhì))。因此，所述經(jīng)硅處理的炭黑的含硅物質(zhì)相是所述聚集體的內(nèi)在部分；其分布遍及所述聚集體的至少一部分。多種經(jīng)硅處理的炭黑可從CabotCorporation以名稱EcoblackTMCRX2125和CRX4210得到。應(yīng)當(dāng)理解，多相聚集體非常不同于上述經(jīng)二氧化硅涂覆的炭黑，所述經(jīng)二氧化硅涂覆的炭黑由具有沉積在其表面上的含硅物質(zhì)的預(yù)先形成的單相炭黑聚集體組成。這樣的炭黑可被表面處理以在所述炭黑聚集體的表面上設(shè)置二氧化硅官能性，如例如美國專利No.6,929,783中所描述的。所述經(jīng)硅處理的炭黑可包括主要在所述炭黑的聚集體表面的含硅區(qū)域，但仍為所述炭黑的部分，和/或，所述經(jīng)硅處理的炭黑可包括分布遍及所述炭黑聚集體的含硅區(qū)域。所述經(jīng)硅處理的炭黑可被氧化。所述經(jīng)硅處理的炭黑可含有約0.l重量％-約50重量％硅，基于所述經(jīng)硅處理的炭黑的重量。這些量可為約0.5重量％-約25重量％或約2重量％-約15重量％硅，所有都基于所述經(jīng)硅處理的炭黑的重量。關(guān)于用以形成具有吸附的化學(xué)基團(tuán)的改性填料的方法，可使用任何常規(guī)的吸附技術(shù)。舉例來說，可將期望在填料上或在填料的表面上以形成該形式的改性填料的化學(xué)基團(tuán)溶解在合適的溶劑中并施加到填料的表面，其中可然后例如通過蒸發(fā)技術(shù)除去溶劑。作為替代，可使待吸附到填料的表面上以形成改性填料的化學(xué)品熔化?？墒褂萌魏问固盍吓c待吸附到填料的表面上的所述化學(xué)品接觸的方式，例如噴涂技術(shù)等?？蓪⒋降教盍仙系幕瘜W(xué)品溶液在銷式造粒機(jī)(pinpelletizer)中混合在一起且可然后使溶劑蒸發(fā)。作為選擇，如本文中所述的具有吸附的化學(xué)基團(tuán)的改性填料可任選地還包括一個(gè)或多個(gè)化學(xué)基團(tuán)的連接。對本發(fā)明的目的而言，一個(gè)或多個(gè)化學(xué)基團(tuán)的連接意指所述化學(xué)基團(tuán)不是吸附到填料的表面上且不能通過早先對于除去吸附的化學(xué)品的目的所描述的提取方法除去或基本上除去。至少一個(gè)化學(xué)基團(tuán)的連接通常是通過化學(xué)連接，例如通過共價(jià)鍵。所述化學(xué)基團(tuán)可為至少一個(gè)有機(jī)基團(tuán)。所述有機(jī)基團(tuán)可包括或者為烷基和/或芳族基團(tuán)。更具體的實(shí)例包括C1-20烷基或C6-18芳族基團(tuán)，例如C1-C12烷基或C6-C12芳族基團(tuán)。連接的基團(tuán)的實(shí)例可包括具有一個(gè)或多個(gè)可與本文中描述的取代基A相同的官能團(tuán)的烷基或芳族基團(tuán)。所述烷基和/或芳族基團(tuán)可直接連接到填料。用以將一個(gè)或多個(gè)化學(xué)基團(tuán)連接到填料上以形成該類型的改性填料的方法可包括任何已知的用于將化學(xué)基團(tuán)連接到填料顆粒的連接機(jī)理，包括重氮化反應(yīng)。所述具有連接的化學(xué)基團(tuán)的改性填料可使用和改用描述于美國專利No.5,554,739；5,707,432；5,837,045；5,851,280；5,885,335；5,895,522；5,900,029；5,922,118；6,042,643；6,398,858；7,175,946；6,471,763；6,780,389；7,217,405；5,859,120；和6,290,767；美國專利申請公布No.2003-0129529A1；2002-0020318；2002-0011185A1；和2006-0084751A1，和PCT公布No.WO99/23174中的方法制備，將其全部引入本文中作為參考。這些參考文獻(xiàn)部分地描述了采用重氮化學(xué)將官能團(tuán)連接到顏料。僅作為實(shí)例，這些方法已被改用和使用以形成本發(fā)明的改性填料(具有連接的化學(xué)基團(tuán))。可使用三唑、吡唑和/或咪唑的氨基形式(在本申請的實(shí)施例部分中提供的實(shí)例)，然后使用重氮化反應(yīng)，例如，在以上專利中所描述的，可將其連接到填料上以形成具有連接的化學(xué)基團(tuán)例如有機(jī)基團(tuán)和例如連接的至少一個(gè)三唑基團(tuán)、吡唑基團(tuán)和/或咪唑基團(tuán)的該形式的改性填料。連接的三唑、吡唑和/或咪唑基團(tuán)在下面對于其它形式的改性填料進(jìn)一步被舉例說明，且在此也是適用的。所述改性填料(具有連接的化學(xué)基團(tuán))可使用本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的用于連接化學(xué)基團(tuán)的任何方法制備。例如，所述改性填料可使用在以上列舉的專利/出版物(公布，publication)中描述的方法制備。其它用于制備改性填料的方法包括使具有可利用的官能團(tuán)的填料與包括有機(jī)基團(tuán)的試劑反應(yīng)，例如描述于例如美國專利No.6,723,783中的，將其全部引入本文中作為參考。這樣的官能填料可使用以上引用的參考文獻(xiàn)中描述的方法制備。另外，含有連接的官能團(tuán)的改性填料也可通過美國專利No.6,831,194和6,660,075、美國專利公布No.2003-0101901和2001-0036994、加拿大專利No.2,351,162、歐洲專利No.1394221和PCT公布No.WO04/63289、以及N.Tsubokawa，Polym.Sci.，17,417,1992中描述的方法制備，也將其中的每一篇全部引入本文中作為參考。連接的基團(tuán)的量可取決于所述改性填料的期望用途和連接的基團(tuán)的類型而改變。例如，連接的有機(jī)基團(tuán)的總量可為通過氮?dú)馕?BET方法)測量的約0.01-約6.0微摩爾基團(tuán)/m2填料表面積，包括約0.1-約5.0微摩爾/m2、約0.2-約3.0微摩爾/m2、或約0.3-約2.0微摩爾/m2。所述三唑、吡唑和/或咪唑基團(tuán)的實(shí)例與對于上述吸附的化學(xué)基團(tuán)的相同，除了這些基團(tuán)例如通過至填料的化學(xué)鍵連接之外。連接的化學(xué)基團(tuán)的實(shí)例列于下面。對本發(fā)明的目的而言，所述三唑包括具有含三唑的基團(tuán)的化學(xué)基團(tuán)。所述三唑可為1,2,4-三唑或1,2,3-三唑。所述三唑可為含硫醇或多硫化物的聚三唑。考慮到所實(shí)現(xiàn)的性質(zhì)，尤其是在彈性體復(fù)合物中，優(yōu)選1,2,4-三唑或含1,2,4-三唑的基團(tuán)作為吸附和/或連接的三唑化學(xué)基團(tuán)。關(guān)于連接的三唑，實(shí)例包括，但不限于，下列：或者其互變異構(gòu)體，其中，各取代基與先前描述的相同，除了X(或所述X之一)為或者包括至所述填料的鍵以變得連接以外。在所述三唑的式中，Zb是亞烷基(例如，C1-C4亞烷基)，其中b為0或1；至少一個(gè)X包含至所述填料的鍵，且任何其余的X包含官能團(tuán)或者至所述填料的鍵，例如本文中描述的各種取代基A和/或R；A是：作為SkR、SSO3H、SO2NRR'、SO2SR、SNRR'、SNQ、SO2NQ、CO2NQ、S-(1,4-哌嗪二基)-SR、2-(1,3-二噻烷基)、或2-(1,3-二硫雜環(huán)戊烷基)的官能團(tuán)；或者，由一個(gè)或多個(gè)所述官能團(tuán)取代的直鏈、支化、芳族、或環(huán)狀的烴基團(tuán)；其中，R和R'相同或不同且為：氫；支化或未支化的C1-C12的未取代或取代的烷基、烯基、炔基；未取代或取代的芳基；未取代或取代的雜芳基；未取代或取代的烷芳基；未取代或取代的芳烷基、亞芳基、亞雜芳基、或烷基亞芳基；當(dāng)R為H時(shí)，k是1-8的整數(shù)，否則，k為2-8；Q為(CH2)w、(CH2)xO(CH2)z、(CH2)xNR(CH2)z、或(CH2)xS(CH2)z，其中x為1-6，z為1-6，且w為2-6；E是含多硫的基團(tuán)；且所述三唑可任選地被NDD'取代基進(jìn)行N取代，其中D和D'相同或不同且為H或C1-C4烷基；和Y為H、烷基、芳基、或NH2。在具體實(shí)例中，連接到所述填料的所述基團(tuán)可為或者包括巰基-三唑基例如5-巰基-1,2,4-三唑-3-基、和/或三唑二硫化物基團(tuán)、和/或1,2,4-三唑-3-基。連接到所述填料的所述基團(tuán)可為或者包括2-巰基-1,3,4-噻二唑-5-基和/或噻二唑二硫化物基團(tuán)?？蛇B接取代或未取代的二唑基團(tuán)以及其它取代或未取代的唑(azole)例如二唑基團(tuán)，例如直接連接到所述填料。對本發(fā)明的目的而言，連接的吡唑?yàn)榛蛘甙ň哂泻吝虻幕鶊F(tuán)的化學(xué)品。所述吡唑可為含硫醇或多硫化物的聚吡唑。關(guān)于所述吡唑，實(shí)例包括，但不限于，下列：或者其互變異構(gòu)體，其中，各取代基與先前描述的相同，除了X(或所述X之一)為或者包括至所述填料的鍵以變得連接以外。在所述吡唑的式中，Zb是亞烷基(例如，C1-C4亞烷基)，其中b為0或1；至少一個(gè)X或Y包含至所述填料的鍵，且任何其它X或Y相同或不同且包含鍵或官能團(tuán)，例如本文中描述的各種取代基A和/或R；A是：作為SkR、SSO3H、SO2NRR'、SO2SR、SNRR'、SNQ、SO2NQ、CO2NQ、S-(1,4-哌嗪二基)-SR、2-(1,3-二噻烷基)、或2-(1,3-二硫雜環(huán)戊烷基)的官能團(tuán)；或者，由一個(gè)或多個(gè)所述官能團(tuán)取代的直鏈、支化、芳族、或環(huán)狀的烴基團(tuán)；其中，R和R'相同或不同且為：氫；支化或未支化的C1-C12的未取代或取代的烷基、烯基、炔基；未取代或取代的芳基；未取代或取代的雜芳基；未取代或取代的烷芳基；未取代或取代的芳烷基、亞芳基、亞雜芳基、或烷基亞芳基；當(dāng)R為H時(shí)，k是1-8的整數(shù)，否則，k為2-8；Q為(CH2)w、(CH2)xO(CH2)z、(CH2)xNR(CH2)z、或(CH2)xS(CH2)z，其中x為1-6，z為1-6，且w為2-6；而且E是含多硫的基團(tuán)。對本發(fā)明的目的而言，連接的咪唑?yàn)榛蛘甙ň哂泻溥虻幕鶊F(tuán)的化學(xué)品。所述咪唑可為含硫醇或多硫化物的聚咪唑。關(guān)于所述咪唑，實(shí)例包括，但不限于，下列：或者其互變異構(gòu)體，其中，各取代基與先前描述的相同，除了X(或所述X之一)為或者包括至所述填料的鍵以變得連接以外。在所述咪唑的式中，Zb是亞烷基(例如，C1-C4亞烷基)，其中b為0或1；各X包含H、烷基(在別處提供的例子在這里也適用)、芳基(在別處提供的例子在這里也適用)、NH2、或者至所述填料的鍵，條件是至少一個(gè)X包含鍵；Y是H或NH2；A是：作為SkR、SSO3H、SO2NRR'、SO2SR、SNRR'、SNQ、SO2NQ、CO2NQ、S-(1,4-哌嗪二基)-SR、2-(1,3-二噻烷基)、或2-(1,3-二硫雜環(huán)戊烷基)的官能團(tuán)；或者，由一個(gè)或多個(gè)所述官能團(tuán)取代的直鏈、支化、芳族、或環(huán)狀的烴基團(tuán)；其中，R和R'能夠相同或不同且為：氫；支化或未支化的C1-C12的未取代或取代的烷基、烯基、炔基；未取代或取代的芳基；未取代或取代的雜芳基；未取代或取代的烷芳基；未取代或取代的芳烷基、亞芳基、亞雜芳基、或烷基亞芳基；k是1-8的整數(shù)；Q為(CH2)w、(CH2)xO(CH2)z、(CH2)xNR(CH2)z、或(CH2)xS(CH2)z，其中x為1-6，z為1-6，且w為2-6；而且E是含多硫的基團(tuán)。所述連接的有機(jī)基團(tuán)可為或者包括至少具有如下官能團(tuán)的烷基或芳族基團(tuán)：R、OR、COR、COOR、OCOR、羧酸鹽、鹵素、CN、NR2、SO3H、磺酸鹽、NR(COR)、CONR2、NO2、PO3H2、膦酸鹽、磷酸鹽、N＝NR、NR3+X-、PR3+X-、SkR、SSO3H、SSO3-鹽、SO2NRR'、SO2SR、SNRR'、SNQ、SO2NQ、CO2NQ、S-(1,4-哌嗪二基)-SR、2-(1,3-二噻烷基)、2-(1,3-二硫雜環(huán)戊烷基)、SOR、或SO2R，其中，R和R'相同或不同且獨(dú)立地為氫，支化或未支化的C1-C100的取代或未取代、飽和或不飽和的烴，且k為1-8的整數(shù)，且X-是鹵根或來源于無機(jī)或有機(jī)酸的陰離子，Q是(CH2)w、(CH2)xO(CH2)z、(CH2)xNR(CH2)z、或(CH2)xS(CH2)z，其中w為2-6的整數(shù)且x和z獨(dú)立地為1-6的整數(shù)。所述連接的有機(jī)基團(tuán)可為或者包括具有式AyAr-的芳族基團(tuán)，其中，Ar為芳族基且A為R、OR、COR、COOR、OCOR、羧酸鹽、鹵素、CN、NR2、SO3H、磺酸鹽、NR(COR)、CONR2、NO2、PO3H2、膦酸鹽、磷酸鹽、N＝NR、NR3+X-、PR3+X-、SkR、SSO3H、SSO3-鹽、SO2NRR'、SO2SR、SNRR'、SNQ、SO2NQ、CO2NQ、S-(1,4-哌嗪二基)-SR、2-(1,3-二噻烷基)、2-(1,3-二硫雜環(huán)戊烷基)、SOR、或SO2R，其中，R和R'相同或不同且獨(dú)立地為氫，支化或未支化的C1-C100的取代或未取代、飽和或不飽和的烴，且k為1-8的整數(shù)，且X-是鹵根或來源于無機(jī)或有機(jī)酸的陰離子，Q是(CH2)w、(CH2)xO(CH2)z、(CH2)xNR(CH2)z、或(CH2)xS(CH2)z，其中w為2-6的整數(shù)且x和z獨(dú)立地為1-6的整數(shù)，而且，y為從1至所述芳族基中的-CH基團(tuán)總數(shù)的整數(shù)。Ar可為或者包括三唑基團(tuán)，Ar可為或者包括吡唑基團(tuán)，或者，Ar可為或者包括咪唑基團(tuán)。所述連接的有機(jī)基團(tuán)可為或者包括至少一個(gè)氨基甲基苯基基團(tuán)和/或羧基苯基。所述連接的有機(jī)基團(tuán)可為或者包括X-C6H4-S-S-C6H4-X，其中，至少一個(gè)X是至所述填料的鍵，而且，另一個(gè)X是官能團(tuán)或者至所述填料的鍵，例如本文中描述的取代基A。所述連接的有機(jī)基團(tuán)可為或者包括至少一個(gè)芳族硫化物或多硫化物。作為選擇，一個(gè)或多個(gè)另外的但不同的化學(xué)基團(tuán)，例如一個(gè)或多個(gè)另外的不同于連接的三唑、連接的吡唑和/或連接的咪唑的化學(xué)基團(tuán)，可連接到所述填料上。所述連接的化學(xué)基團(tuán)可為先前和/或在上述專利中描述的連接的化學(xué)基團(tuán)中的任一者，例如連接的烷基和/或連接的芳族基團(tuán)，例如，氨基甲基苯基、羧基苯基、或苯基二硫苯基(C6H5-S-S-C6H4)。對本發(fā)明的目的而言，本發(fā)明的改性填料的進(jìn)一步的形式為其中所述改性填料包括連接有如下的填料：至少一個(gè)三唑(例如在存在或不存在任何其它芳族基團(tuán)的情況下)，例如至少1,2,4-三唑，例如至少具有含硫取代基的1,2,4-三唑。當(dāng)存在于彈性體組合物中時(shí)，與相同的未經(jīng)改性的填料相比，具有連接的化學(xué)基團(tuán)例如所述至少一個(gè)三唑的改性填料可改善滯后。此外，實(shí)施例中所闡述的彈性體配制物可用于證實(shí)該試驗(yàn)性質(zhì)。本發(fā)明的進(jìn)一步的改性填料為或包括具有連接在其上的三唑的填料，所述三唑包括：或者其互變異構(gòu)體，其中其中，Zb是亞烷基(例如，C1-C4亞烷基)，其中b為0或1；至少一個(gè)X包含至所述炭黑的鍵，且任何其余的X包含官能團(tuán)或者至所述炭黑的鍵，例如本文中描述的各種取代基A或R；A是：作為SkR、SSO3H、SO2NRR'、SO2SR、SNRR'、SNQ、SO2NQ、CO2NQ、S-(1,4-哌嗪二基)-SR、2-(1,3-二噻烷基)、或2-(1,3-二硫雜環(huán)戊烷基)的官能團(tuán)；或者，由一個(gè)或多個(gè)所述官能團(tuán)取代的直鏈、支化、芳族、或環(huán)狀的烴基團(tuán)；其中，R和R'能夠相同或不同且為：氫；支化或未支化的C1-C12的未取代或取代的烷基、烯基、炔基；未取代或取代的芳基；未取代或取代的雜芳基；未取代或取代的烷芳基；未取代或取代的芳烷基、亞芳基、亞雜芳基、或烷基亞芳基；k是1-8的整數(shù)；Q為(CH2)w、(CH2)xO(CH2)z、(CH2)xNR(CH2)z、或(CH2)xS(CH2)z，其中x為1-6，z為1-6，且w為2-6；E是含多硫的基團(tuán)；且所述三唑可任選地被NDD'取代基進(jìn)行N取代，其中D和D'相同或不同且為H或C1-C4烷基。該形式的改性填料可具有或不具有任何吸附的化學(xué)基團(tuán)。在整個(gè)本申請中，關(guān)于在填料上的連接的化學(xué)基團(tuán)，所述化學(xué)基團(tuán)通過至少一個(gè)從所述化學(xué)基團(tuán)到所述填料的鍵連接。在本申請中，取代基X可代表或者包括鍵。理解，對本發(fā)明的目的而言，取代基X可包括鍵、以及其它取代基或元素，例如，為了實(shí)現(xiàn)至所述填料的鍵的目的。例如，X可為鍵或者由鍵組成。替代地，X可包括鍵。例如，X可為包括連接體(linker)基團(tuán)的鍵。所述連接體基團(tuán)可為硅烷連接體基團(tuán)或者得自硅烷偶聯(lián)劑。所述連接體基團(tuán)可為或者包括含Si基團(tuán)、含Ti基團(tuán)、含Cr基團(tuán)、和/或含Zr基團(tuán)，或者促進(jìn)化學(xué)基團(tuán)連接到填料例如金屬氧化物填料，例如，二氧化硅上的其它合適的連接體基團(tuán)。對本發(fā)明的目的而言，可采用的這樣的連接體的實(shí)例包括在美國專利No.3,947,436、5,159,009、和5,116,886中闡述的那些，將所有文獻(xiàn)全部引入本文中作為參考。在本發(fā)明中，對于本發(fā)明的改性填料的各種形式(吸附和/或連接的基團(tuán))，所述改性填料的制備可在所述填料與其它成分例如用以形成彈性體組合物例如至少一種彈性體的成分一起引入之前進(jìn)行且應(yīng)該在此之前進(jìn)行。換句話說，本發(fā)明中使用的化學(xué)基團(tuán)在混合或配混或接觸至少一種彈性體或至少一種聚合物和/或配方的其它組分之前預(yù)先吸附和/或預(yù)先連接到填料。本發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)，當(dāng)所述填料的改性在其它成分的存在下嘗試(例如，原位)，例如設(shè)法與至少一種彈性體和/或至少一種聚合物配混時(shí)，通過本申請實(shí)現(xiàn)的各種性質(zhì)即滯后和/或耐磨性可被減損或者根本不能實(shí)現(xiàn)。對本發(fā)明的目的而言，可使用本發(fā)明的改性填料的任何組合。例如，如本文中所描述的，已經(jīng)描述所述改性填料的各種形式。例如，本發(fā)明的改性填料的一種形式為具有吸附的基團(tuán)和任選地具有連接的化學(xué)基團(tuán)的填料。本發(fā)明的另一形式涉及具有連接的化學(xué)基團(tuán)而沒有任何吸附的基團(tuán)的填料。因此，作為一個(gè)選擇，配制物例如彈性體配制物可包含本發(fā)明的多種改性填料的組合，例如，一些具有一個(gè)或多個(gè)吸附的化學(xué)基團(tuán)的改性填料可與一個(gè)或多個(gè)具有連接的化學(xué)基團(tuán)的其它改性填料組合使用。因此，可在配制物例如彈性體或聚合物配制物中使用所述改性填料的任意組合。對本發(fā)明的目的而言，當(dāng)所述改性填料具有吸附的化學(xué)基團(tuán)和連接的化學(xué)基團(tuán)時(shí)，吸附的化學(xué)基團(tuán)到填料上的布置可在所述化學(xué)基團(tuán)的連接之前、期間和/或之后進(jìn)行，或者當(dāng)超過一個(gè)吸附的和/或...