本發(fā)明涉及具有收集來自磁軛的磁通的集磁單元和與集磁單元成形為一體的傳感器殼體的扭矩檢測裝置、扭矩檢測裝置的制造方法以及具備扭矩檢測裝置的電動動力轉(zhuǎn)向裝置。

背景技術(shù)：
US2010-071481A1所記載的扭矩檢測裝置具備具有集磁環(huán)、環(huán)形架以及磁屏蔽體的單元。集磁環(huán)安裝于環(huán)形架的內(nèi)周面。磁屏蔽體安裝于環(huán)形架的外周面。單元在從形成于殼體的插入孔插入到殼體內(nèi)的狀態(tài)下固定于殼體。該扭矩檢測裝置存在水從單元與殼體之間浸入裝置內(nèi)部的可能性。因此，為了提高扭矩檢測裝置的防水性，可以想到通過使樹脂流入單元的外周側(cè)，來將傳感器殼體與單元成形為一體的扭矩檢測裝置的制造方法。然而，按照上述制造方法，傳感器殼體與單元成形為一體，并且磁屏蔽體位于環(huán)形架與傳感器殼體之間。因此，后續(xù)工序的作業(yè)者（例如，產(chǎn)品檢查的作業(yè)者（qualitycontrolperson））很難確認磁屏蔽體是否組裝于扭矩檢測裝置內(nèi)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明提供能夠容易進行磁屏蔽體有無的確認作業(yè)的構(gòu)造的扭矩檢測裝置、扭矩檢測裝置的制造方法以及具備扭矩檢測裝置的電動動力轉(zhuǎn)向裝置。根據(jù)本發(fā)明的一實施例的扭矩檢測裝置,具有：扭力桿，其將第1軸體與第2軸體相互連結(jié)；永磁鐵，其固定于所述第1軸體，在周圍形成磁場；磁軛，其固定于所述第2軸體，配置于所述永磁鐵所形成的磁場內(nèi)，該磁軛形成磁路，該磁路的磁通密度與伴隨所述扭力桿的扭轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的所述磁軛與所述永磁鐵的相對位置的變化對應(yīng)地變化；環(huán)狀的集磁單元，其以包圍所述磁軛的方式配置，具有保持架、集磁環(huán)以及磁屏蔽體，所述保持架通過樹脂成形而形成為環(huán)狀，形成有沿徑向貫通的貫通孔，所述集磁環(huán)以不覆蓋所述貫通孔的方式安裝于所述保持架的內(nèi)周面，收集來自所述磁軛的磁通，所述磁屏蔽體以覆蓋所述貫通孔的方式安裝于所述保持架的外周面，降低外部磁場對所述磁路的影響；磁傳感器，其檢測經(jīng)由所述集磁環(huán)而在所述磁路生成的磁通；以及傳感器殼體，其通過流入到所述集磁單元的外周側(cè)的樹脂與所述集磁單元成形為一體。附圖說明通過以下參照附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行的詳細描述，本發(fā)明的其它特征、優(yōu)點會變得更加清楚，其中，附圖標記表示本發(fā)明的要素，其中，圖1為表示本發(fā)明的第1實施方式的電動動力轉(zhuǎn)向裝置的整體結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。圖2為表示第1實施方式的扭矩檢測裝置的剖面構(gòu)造的剖面圖。圖3為表示第1實施方式的扭矩檢測裝置的集磁單元的分解立體構(gòu)造的立體圖。圖4為表示第1實施方式的扭矩檢測裝置的集磁單元的外觀立體構(gòu)造的立體圖。圖5為表示第1實施方式的扭矩檢測裝置的傳感器單元的立體構(gòu)造的立體圖。圖6A為與第1實施方式的扭矩檢測裝置有關(guān)的圖，是表示集磁單元的凹槽部、凹槽部的周邊以及模具的定位銷的剖面構(gòu)造的剖面圖，圖6B為表示傳感器單元的凹槽部、凹槽部的周邊以及模具的定位銷的剖面構(gòu)造的剖面圖。圖7為表示第1實施方式的扭矩檢測裝置的傳感器單元的剖面構(gòu)造的一部分的剖面圖。圖8為表示沒有磁屏蔽體時的扭矩檢測裝置的傳感器單元的剖面構(gòu)造的一部分的剖面圖。圖9為表示第1實施方式的扭矩檢測裝置的永磁鐵與各磁軛以及各集磁環(huán)的位置關(guān)系的展開圖。圖10為表示本發(fā)明的第2實施方式的扭矩檢測裝置的傳感器單元的立體構(gòu)造的立體圖。具體實施方式以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。參照圖1，對電動動力轉(zhuǎn)向裝置1的結(jié)構(gòu)進行說明。電動動力轉(zhuǎn)向裝置1具有轉(zhuǎn)向軸10、齒條殼體14、齒條軸15、小齒輪軸16、輔助裝置17、扭矩檢測裝置20以及ECU18。ECU18控制輔助裝置17的驅(qū)動。轉(zhuǎn)向軸10連接于方向盤2。轉(zhuǎn)向軸10具有第1軸體11、第2軸體12以及扭力桿13。第1軸體11與方向盤2的旋轉(zhuǎn)一同旋轉(zhuǎn)。第2軸體12具有齒輪部分12A。第2軸體12具有與第1軸體11相同的軸。扭力桿13將第1軸體11以及第2軸體12相互連結(jié)。扭力桿13具有與第1軸體11以及第2軸體12相同的軸。齒條殼體14收納齒條軸15。齒條殼體14具有固定部件14A。固定部件14A固定在齒條殼體14的轉(zhuǎn)向軸10側(cè)的部分。齒條軸15連接于轉(zhuǎn)向軸10以及轉(zhuǎn)向操作輪3。齒條軸15具有第1齒輪部分15A以及第2齒輪部分15B。第1齒輪部分15A形成于齒條軸15的軸向上的轉(zhuǎn)向軸10側(cè)的部分。第1齒輪部分15A與第2軸體12的齒輪部分12A嚙合。第2齒輪部分15B形成于齒條軸15的軸向上的小齒輪軸16側(cè)的部分。小齒輪軸16與齒條軸15以及輔助裝置17連接。小齒輪軸16具有齒輪部分16A。齒輪部分16A與齒條軸15的第2齒輪部分15B嚙合。輔助裝置17具有電動馬達17A、蝸桿軸17B以及蝸輪17C。電動馬達17A與蝸桿軸17B連結(jié)。蝸桿軸17B與蝸輪17C嚙合。蝸輪17C固定于小齒輪軸16。參照圖2，對扭矩檢測裝置20的結(jié)構(gòu)進行說明。在此，作為與扭矩檢測裝置20有關(guān)的各方向，定義“軸向ZA”、“上方向ZA1”、“下方向ZA2”、“徑向ZB”、“內(nèi)方向ZB1”、“外方向ZB2”以及“周向ZC”。周向ZC表示繞第1軸體11的旋轉(zhuǎn)中心軸的方向。軸向ZA表示沿第1軸體11的旋轉(zhuǎn)中心軸的方向。軸向ZA由表示相反方向的上方向ZA1以及下方向ZA2來規(guī)定。上方向ZA1表示按照第2軸體12以及第1軸體11的順序通過的方向。下方向ZA2表示按照第1軸體11以及第2軸體12的順序通過的方向。徑向ZB表示軸向ZA的法線方向。徑向ZB由表示相反方向的內(nèi)方向ZB1以及外方向ZB2來規(guī)定。內(nèi)方向ZB1表示靠近第1軸體11的旋轉(zhuǎn)中心軸的方向。外方向ZB2表示遠離第1軸體11的旋轉(zhuǎn)中心軸的方向。扭矩檢測裝置20對施加到轉(zhuǎn)向軸10的扭矩進行檢測。利用油封21來密封扭矩檢測裝置20與第1軸體11之間的間隙。利用O形環(huán)22來密封扭矩檢測裝置20與齒條殼體14（固定部件14A）的間隙。扭矩檢測裝置20具有傳感器單元30、磁鐵單元70以及磁軛單元80。磁鐵單元70固定于第1軸體11。磁鐵單元70具有永磁鐵71以及磁芯72。永磁鐵71具有圓筒形狀。永磁鐵71使N極以及S極在周向ZC上相鄰的方式進行了磁化。永磁鐵71在第1軸體11的周圍形成磁場。磁芯72固定于永磁鐵71的內(nèi)周面。磁芯72壓入于第1軸體11的外周面。磁芯72抑制來自永磁鐵71的磁通向比永磁鐵71靠內(nèi)方向ZB1的位置泄漏。磁軛單元80以包圍永磁鐵71的方式配置。磁軛單元80固定于第2軸體12。磁軛單元80具有第1磁軛81、第2磁軛82、磁軛架83以及中間部件84。第1磁軛81具有圓環(huán)形狀。第1磁軛81固定在磁軛架83的上方向ZA1的部分。第1磁軛81具有多個齒部81A。第1磁軛81接受來自永磁鐵71的磁通。第1磁軛81形成磁通密度與伴隨扭力桿13的扭轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的與永磁鐵71的相對位置的變化對應(yīng)地變化的磁路。齒部81A具有隨著趨向下方向ZA2變得尖細的錐形狀。齒部81A在周向ZC上以相互分離的狀態(tài)配置。相鄰的齒部81A通過連接部分81B相互連接。第2磁軛82具有圓環(huán)形狀。第2磁軛82固定于磁軛架83的下方向ZA2的部分。第2磁軛82具有多個齒部82A。第2磁軛82接受來自永磁鐵71的磁通。第2磁軛82形成磁通密度與伴隨扭力桿13的扭轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的與永磁鐵71的相對位置的變化對應(yīng)地變化的磁路。齒部82A具有隨著趨向上方向ZA1而變得尖細的錐形狀。齒部82A在周向ZC上以相互分離的狀態(tài)配置。齒部82A配置在相鄰的齒部81A之間。相鄰的齒部82A通過連接部分82B相互連接。磁軛架83具有圓環(huán)形狀。磁軛架83由樹脂與第1磁軛81以及第2磁軛82成形為一體。中間部件84具有圓環(huán)形狀。中間部件84的外周面壓入于磁軛架83的下端部的內(nèi)周面。中間部件84的內(nèi)周面壓入于第2軸體12的上端部的外周面。傳感器單元30收納磁鐵單元70以及磁軛單元80。傳感器單元30具有兩個磁傳感器31、集磁單元40以及傳感器殼體60。兩個磁傳感器31在周向ZC上彼此相鄰。磁傳感器31輸出與永磁鐵71的磁通密度對應(yīng)的電壓。磁傳感器31的輸出電壓被送往ECU18。作為磁傳感器31使用霍爾IC。參照圖3以及圖4，對集磁單元40的詳細的結(jié)構(gòu)進行說明。集磁單元40以包圍磁軛單元80的方式配置。集磁單元40具有第1集磁環(huán)41、第2集磁環(huán)42、磁屏蔽體43以及保持架50。第1集磁環(huán)41通過彎折金屬板而形成。第1集磁環(huán)41在徑向ZB上隔著間隙與第1磁軛81的外周部分相對。第1集磁環(huán)41收集來自第1磁軛81的磁通。第1集磁環(huán)41具有環(huán)主體41A以及兩個集磁突起41B。環(huán)主體41A形成具有間隙的圓環(huán)形狀。環(huán)主體41A具有分離部分41C、第1端部41D以及第2端部41E。分離部分41C作為環(huán)主體41A的在周向ZC上不連續(xù)的部分形成。第1端部41D形成環(huán)主體41A的一端部。第2端部41E形成環(huán)主體41A的另一端部。集磁突起41B從環(huán)主體41A向外方向ZB2彎折。集磁突起41B在周向ZC上彼此相鄰。第2集磁環(huán)42由與第1集磁環(huán)41相同的材料形成。第2集磁環(huán)42通過彎折金屬板而形成。第2集磁環(huán)42在徑向ZB上隔著間隙與第2磁軛82的外周部分相對。第2集磁環(huán)42收集來自第2磁軛82的磁通。第2集磁環(huán)42具有環(huán)主體42A以及兩個集磁突起42B。環(huán)主體42A呈具有間隙的圓環(huán)形狀。環(huán)主體42A具有分離部分42C、第1端部42D以及第2端部42E。分離部分42C作為環(huán)主體42A的在周向ZC上不連續(xù)的部分形成。分離部分42C在各集磁環(huán)41、42被安裝于保持架50的狀態(tài)下，配置在與分離部分41C在周向ZC上對應(yīng)的位置。第1端部42D形成環(huán)主體42A的一端部。第2端部42E形成環(huán)主體42A的另一端部。集磁突起42B從環(huán)主體42A向外方向ZB2彎折。集磁突起42B在周向ZC上彼此相鄰。集磁突起42B在各集磁環(huán)41、42被安裝于保持架50的狀態(tài)下，配置在與集磁突起41B在周向ZC上對應(yīng)的位置。磁屏蔽體43具有圓弧形狀。磁屏蔽體43安裝于保持架50的外周面50Y中的屏蔽體保持部分57。磁屏蔽體43使外部磁場對各磁軛81、82以及各集磁環(huán)41、42的影響降低。保持架50具有軸向ZA的兩側(cè)呈開口的圓環(huán)形狀。保持架50具有收納磁軛單元80的內(nèi)部空間。保持架50保持第1集磁環(huán)41、第2集磁環(huán)42以及磁屏蔽體43。保持架50具有保持凸部51、上側(cè)貫通孔54、下側(cè)貫通孔55、插入部分56、屏蔽體保持部分57、凹槽部58以及連通槽59。保持凸部51形成在保持架50的內(nèi)周面50X。保持凸部51具有從第1集磁環(huán)41的寬度方向的兩側(cè)夾住第1集磁環(huán)41的功能以及從第2集磁環(huán)42的寬度方向的兩側(cè)夾住第2集磁環(huán)42的功能。保持凸部51具有多個第1保持部分52以及多個第2保持部分53。第1保持部分52從保持架50的內(nèi)周面50X向內(nèi)方向ZB1突出。第1保持部分52在保持架50的內(nèi)周面50X中，形成在相對于第2保持部分53靠上方向ZA1以及下方向ZA2的部分。第1保持部分52在周向ZC上以分離的方式形成。第2保持部分53從保持架50的內(nèi)周面50X向內(nèi)方向ZB1突出。第2保持部分53在軸向ZA上形成于保持架50的中央位置。第2保持部分53在周向ZC上因凹槽部58以及連通槽59而以分離的方式形成。第2保持部分53具有兩個貫通孔53A。貫通孔53A沿徑向ZB貫通保持架50。貫通孔53A在周向ZC上隔著凹槽部58相鄰。貫通孔53A在第1集磁環(huán)41以及第2集磁環(huán)42被安裝到保持凸部51的狀態(tài)下，不會從內(nèi)方向ZB1被各集磁環(huán)41，42覆蓋。貫通孔53A在磁屏蔽體43被安裝到屏蔽體保持部分57的狀態(tài)下，從外方向ZB2被磁屏蔽體43覆蓋。上側(cè)貫通孔54沿徑向ZB貫通保持架50。上側(cè)貫通孔54在保持架50上形成在軸向ZA上的、上側(cè)的第1保持部分52與第2保持部分53之間。上側(cè)貫通孔54在第1集磁環(huán)41被安裝到保持凸部51的狀態(tài)下，從內(nèi)方向ZB1被集磁環(huán)41覆蓋。上側(cè)貫通孔54在磁屏蔽體43被安裝到屏蔽體保持部分57的狀態(tài)下，從外方向ZB2被磁屏蔽體43覆蓋。下側(cè)貫通孔55沿徑向ZB貫通保持架50。下側(cè)貫通孔55在保持架50上形成在軸向ZA上的、下側(cè)的第1保持部分52與第2保持部分53之間。下側(cè)貫通孔55在第2集磁環(huán)42被安裝到保持凸部51的狀態(tài)下，從內(nèi)方向ZB1被第2集磁環(huán)42覆蓋。下側(cè)貫通孔55在磁屏蔽體43被安裝到屏蔽體保持部分57的狀態(tài)下，從外方向ZB2被磁屏蔽體43覆蓋。插入部分56供第1集磁環(huán)41的集磁突起41B以及第2集磁環(huán)42的集磁突起42B插入。插入部分56具有插入孔56A、上側(cè)突起56B以及下側(cè)突起56C。上側(cè)突起56B為用于決定第1集磁環(huán)41相對于保持架50的周向ZC的位置的定位件。下側(cè)突起56C為用于決定第2集磁環(huán)42相對于保持架50的周向ZC的位置的定位件。屏蔽體保持部分57形成在保持架50的外周面50Y。屏蔽體保持部分57保持磁屏蔽體43。屏蔽體保持部分57具有上壁57A、下壁57B以及端壁57C。上壁57A形成在保持架50的上端部。上壁57A限制磁屏蔽體43向上方向ZA1的移動。下壁57B形成在保持架50的下端部。下壁57B限制磁屏蔽體43向下方向ZA2的移動。端壁57C在保持架50中形成在插入部分56的周向ZC的兩端部的、周向ZC上相鄰的位置。端壁57C限制磁屏蔽體43向周向ZC的移動。凹槽部58具有從保持架50的內(nèi)周面50X向外方向ZB2凹陷的凹形狀。凹槽部58在配置到成形傳感器殼體60的模具時，決定保持架50相對于模具的配置位置。連通槽59形成為從保持架50的內(nèi)周面50X向外方向ZB2凹陷的凹形狀。連通槽59在周向ZC上以彼此分離的方式形成有多個。連通槽59被傳感器殼體60的成形材料即樹脂填充。參照圖5，對傳感器殼體60的詳細的結(jié)構(gòu)進行說明。傳感器殼體60通過從集磁單元40的外周側(cè)流入的樹脂而與集磁單元40成形為一體。傳感器殼體60具有第1周壁61、第2周壁62、填充部分63、上側(cè)罩部分64、下側(cè)罩部分65、罩連結(jié)部分66以及外周罩部分67。傳感器殼體60在集磁單元40的內(nèi)周側(cè)形成第1周壁61、第2周壁62、填充部分63、上側(cè)罩部分64、下側(cè)罩部分65以及罩連結(jié)部分66。傳感器殼體60在集磁單元40的外周側(cè)形成外周罩部分67。第1周壁61與第1集磁環(huán)41以及第2集磁環(huán)42對應(yīng)地在軸向ZA上形成有兩個。上側(cè)的第1周壁61在周向ZC上形成在第1集磁環(huán)41的第1端部41D與保持架50的凹槽部58之間。上側(cè)的第1周壁61的下端面與第2保持部分53的上端面接觸。上側(cè)的第1周壁61限制第1端部41D沿周向ZC的移動。下側(cè)的第1周壁61在周向ZC上形成在第2集磁環(huán)42的第1端部42D與凹槽部58之間。下側(cè)的第1周壁61的上端面與第2保持部分53的下端面接觸。下側(cè)的第1周壁61限制第1端部42D沿周向ZC的移動。第2周壁62與第1集磁環(huán)41以及第2集磁環(huán)42對應(yīng)地在軸向ZA上形成有兩個。上側(cè)的第2周壁62在周向ZC上形成在第1集磁環(huán)41的第2端部41E與保持架50的凹槽部58之間。上側(cè)的第2周壁62的下端面與第2保持部分53的上端面接觸。上側(cè)的第2周壁62限制第2端部41E沿周向ZC的移動。下側(cè)的第2周壁62在周向ZC形成在第2集磁環(huán)42的第2端部42E與凹槽部58之間。下側(cè)的第2周壁62的上端面與第2保持部分53的下端面接觸。下側(cè)的第2周壁62限制第2端部42E沿周向ZC的移動。上側(cè)罩部分64在軸向ZA上形成在第1集磁環(huán)41的環(huán)主體41A與保持架50的上端面之間。上側(cè)罩部分64在周向ZC上從與凹槽部58相反的一側(cè)將上側(cè)的第1周壁61以及上側(cè)的第2周壁62彼此連結(jié)起來。下側(cè)罩部分65在軸向ZA上形成在第2集磁環(huán)42的環(huán)主體42A與保持架50的下端面之間。下側(cè)罩部分65在周向ZC上從與凹槽部58相反的一側(cè)將下側(cè)的第1周壁61以及下側(cè)的第2周壁62彼此連結(jié)起來。罩連結(jié)部分66由流入連通槽59的傳感器殼體60的樹脂而形成。罩連結(jié)部分66將上側(cè)罩部分64以及下側(cè)罩部分65彼此連結(jié)起來。外周罩部分67從外周側(cè)覆蓋集磁單元40。外周罩部分67具有從外方向ZB2覆蓋磁屏蔽體43的外周面整體的部分。外周罩部分67具有兩個裝置安裝部分68。裝置安裝部分68作為沿軸向ZA貫通外周罩部分67的貫通孔而形成。裝置安裝部分68通過螺栓而固定于固定部件14A。填充部分63由流入凹槽部58的傳感器殼體60的樹脂而形成。填充部分63將第1周壁61、第2周壁62、上側(cè)罩部分64以及下側(cè)罩部分65彼此連結(jié)起來。參照圖2以及圖6，對扭矩檢測裝置20的制造方法進行說明。扭矩檢測裝置20的制造方法包含磁鐵單元制造工序、磁軛單元制造工序、集磁單元制造工序以及傳感器殼體成形工序。在磁鐵單元制造工序中，對磁芯72固定永磁鐵71。在磁軛單元制造工序中，將第1磁軛81以及第2磁軛82與磁軛架83成形為一體。然后，對磁軛架83固定中間部件84。在集磁單元制造工序中，對保持架50安裝第1集磁環(huán)41、第2集磁環(huán)42以及磁屏蔽體43。傳感器殼體成形工序在集磁單元制造工序之后進行。在傳感器殼體成形工序中，通過向集磁單元40的外周側(cè)流入傳感器殼體60的樹脂而將傳感器殼體60與集磁單元40成形為一體。對傳感器殼體成形工序進行詳細說明。在傳感器殼體成形工序中，作業(yè)者對成形傳感器殼體60的模具配置保持架50。此時，如圖6A所示，決定保持架50相對于模具的位置的定位銷PN，以在與凹槽部58之間形成出空間SG的方式，插入于保持架50的凹槽部58的內(nèi)方向ZB1的部分。然后，在利用模具將傳感器殼體60的成形材料即樹脂流入集磁單元40的外周側(cè)時，如圖6B所示，樹脂的一部分流入集磁單元40的內(nèi)周側(cè)。由于形成第1周壁61以及第2周壁62的空間與空間SG連通，所以樹脂的一部分流入空間SG。由此，形成填充部分63。參照圖7以及圖8，對磁屏蔽體43是否被安裝到保持架50的確認方法進行說明。如圖8所示，在集磁單元制造工序中磁屏蔽體43沒有被安裝到保持架50的外周面50Y就實施了傳感器殼體成形工序的情況下，流入到集磁單元40的外周側(cè)的樹脂流入貫通孔53A。因此，在制造出的扭矩檢測裝置中，貫通孔53A被傳感器殼體60的樹脂埋沒。另一方面，如圖7所示，在集磁單元制造工序中磁屏蔽體43被安裝到保持架50的外周面50Y之后實施了傳感器殼體成形工序的情況下，流入到集磁單元40的外周側(cè)的樹脂向貫通孔53A的流入因磁屏蔽體43受阻。因此，在制造出的扭矩檢測裝置20中，貫通孔53A在保持架50的內(nèi)周面50X側(cè)開口。由以上可知，在扭矩檢測裝置20中，貫通孔53A在保持架50的內(nèi)周面50X側(cè)開口的狀態(tài)，表示在扭矩檢測裝置20內(nèi)不存在磁屏蔽體43。因此，作業(yè)者通過確認貫通孔53A是否這樣開口，就能判斷磁屏蔽體43是否存在于扭矩檢測裝置20內(nèi)。其中，對貫通孔53A是否開口的確認，可通過作業(yè)者對貫通孔53A的肉眼確認以及作業(yè)者對貫通孔53A的指尖觸碰中的至少一方來進行。參照圖9A到圖9C，對扭矩檢測裝置20的磁通密度的檢測進行說明。圖9A表示在圖2的第1軸體11與第2軸體12之間沒有施加扭矩的狀態(tài)（以下，稱為“中立狀態(tài)”）。圖9B表示在第1軸體11與第2軸體12之間施加有一方向的扭矩的狀態(tài)（以下，稱為“右旋轉(zhuǎn)狀態(tài)”）。圖9C表示在第1軸體11與第2軸體12之間施加有與右旋轉(zhuǎn)狀態(tài)相反方向的扭矩的狀態(tài)（以下，稱為“左旋轉(zhuǎn)狀態(tài)”）。此外，作為各磁軛81、82與永磁鐵71的關(guān)系，定義“第1N極相對面積”、“第1S極相對面積”、“第2N極相對面積”以及“第2S極相對面積”。第1N極相對面積表示第1磁軛81與永磁鐵71的N極的相對面積。第1S極相對面積表示第1磁軛81與永磁鐵71的S極的相對面積。第2N極相對面積表示第2磁軛82與永磁鐵71的N極的相對面積。第2S極相對面積表示第2磁軛82與永磁鐵71的S極的相對面積。如圖9A所示，在中立狀態(tài)下，第1磁軛81的齒部81A的前端部分以及第2磁軛82的齒部82A的前端部分，位于永磁鐵71的N極以及S極的邊界部分。此時，第1N極相對面積與第1S極相對面積相等。此外，第2N極相對面積與第2S極相對面積相等。由此，第1集磁環(huán)41的集磁突起41B與第2集磁環(huán)42的集磁突起42B之間不生成磁通。因此，磁傳感器31的輸出電壓表示為“0”。如圖9B所示，在右旋轉(zhuǎn)狀態(tài)下，由于從中立狀態(tài)產(chǎn)生扭力桿13的扭轉(zhuǎn)，所以各磁軛81、82與永磁鐵71的相對位置產(chǎn)生變化。由此，第1N極相對面積變得大于第1S極相對面積。此外，第2N極相對面積變得小于第2S極相對面積。因此，從永磁鐵71的N極進入第1磁軛81的磁通量，大于從第1磁軛81向永磁鐵71的S極放出的磁通量。此外，從永磁鐵71的N極進入第2磁軛82的磁通量，小于從第2磁軛82向永磁鐵71的S極放出的磁通量。因此，磁通從第1集磁環(huán)41的集磁突起41B向第2集磁環(huán)42的集磁突起42B流動。磁傳感器31輸出與該磁通對應(yīng)的電壓。如圖9C所示，在左旋轉(zhuǎn)狀態(tài)下，由于從中立狀態(tài)產(chǎn)生與右旋轉(zhuǎn)狀態(tài)相反方向的扭力桿13的扭轉(zhuǎn)，所以各磁軛81、82與永磁鐵71的相對位置向與右旋轉(zhuǎn)狀態(tài)相反的方向變化。由此，第1N極相對面積變得小于第1S極相對面積。此外，第2N極相對面積變得大于第2S極相對面積。因此，從永磁鐵71的N極進入第1磁軛81的磁通量，小于從第1磁軛81向永磁鐵71的S極放出的磁通量。此外，從永磁鐵71的N極進入第2磁軛82的磁通量，大于從第2磁軛82向永磁鐵71的S極放出的磁通量。因此，磁通從第2集磁環(huán)42的集磁突起42B向第1集磁環(huán)41的集磁突起41B流通。磁傳感器31輸出與該磁通對應(yīng)的電壓。本實施方式的電動動力轉(zhuǎn)向裝置1起到以下的效果。（1）扭矩檢測裝置20固定于齒條殼體14。因此，有時在車輛行駛時水附著于扭矩檢測裝置20。扭矩檢測裝置20具有與集磁單元40成形為一體的傳感器殼體60。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，抑制車輛行駛時水浸入集磁單元40與傳感器殼體60之間。（2）保持架50在第2保持部分53具有貫通孔53A。貫通孔53A從外方向ZB2被磁屏蔽體43覆蓋。貫通孔53A不被各集磁環(huán)41、42從內(nèi)方向ZB1覆蓋。傳感器殼體60通過從集磁單元40的外周側(cè)流入的樹脂與集磁單元40成形為一體。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過磁屏蔽體43妨礙傳感器殼體60的樹脂流入貫通孔53A。因此，作業(yè)者通過確認貫通孔53A是否開口，能夠確認磁屏蔽體43是否存在于扭矩檢測裝置20內(nèi)。因此，作業(yè)者能夠容易進行磁屏蔽體43有無的確認作業(yè)。（3）傳感器殼體60具有填充凹槽部58的填充部分63。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，利用填充部分63加強第1周壁61以及第2周壁62。因此，能夠在扭矩檢測裝置20的環(huán)境溫度發(fā)生變化時，抑制第1周壁61以及第2周壁62因傳感器殼體60的熱收縮而變形。由此，抑制各集磁環(huán)41、42的內(nèi)徑因各集磁環(huán)41、42的熱膨脹而變形。因此，抑制因各集磁環(huán)41、42的內(nèi)徑變化引起的磁傳感器31的輸出電壓的變化。圖10表示本實施方式的扭矩檢測裝置20。扭矩檢測裝置20相對于圖5所示的第1實施方式的扭矩檢測裝置20的不同點，主要有如下不同點。即，保持架50的第2保持部分53以及凹槽部58的形狀不同。此外，不具有傳感器殼體60的填充部分63。以下，對與第1實施方式的扭矩檢測裝置20不同的點進行詳細說明，對于與第1實施方式共通的結(jié)構(gòu)，標記相同的符號，省略其說明的一部分或全部。保持架50在第2保持部分53不具有貫通孔53A。保持架50在凹槽部58具有貫通孔58A。貫通孔58A沿徑向ZB貫通保持架50。貫通孔58A的軸向ZA的尺寸與第2保持部分53的軸向ZA的尺寸相等。貫通孔58A的周向ZC的尺寸與凹槽部58的周向ZC的尺寸相等。貫通孔58A在軸向ZA上形成在第1集磁環(huán)41以及第2集磁環(huán)42之間。然而，由于傳感器殼體60的成形時的樹脂壓，有時與貫通孔58A對應(yīng)的磁屏蔽體43的部分向內(nèi)方向ZB1變形。另一方面，貫通孔58A形成在與各集磁環(huán)41、42的分離部分41C、42C對應(yīng)的凹槽部58。此外，貫通孔58A在軸向ZA上形成在第1集磁環(huán)41以及第2集磁環(huán)42之間。由此，各集磁環(huán)41、42不配置在與貫通孔58A對應(yīng)的磁屏蔽體43的部分。因此，磁屏蔽體43因樹脂壓而變形時對各集磁環(huán)41、42的磁影響小。因此，抑制磁傳感器31的輸出電壓因磁屏蔽體43的變形而變化。本實施方式的電動動力轉(zhuǎn)向裝置1除第1實施方式的電動動力轉(zhuǎn)向裝置1的（1）以及（2）的效果之外，還起到以下的效果。（4）貫通孔58A在凹槽部58中形成在軸向ZA上、第1集磁環(huán)41與第2集磁環(huán)42之間。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，抑制因與貫通孔58A對應(yīng)的磁屏蔽體43的部分的變形引起的磁傳感器31的輸出電壓的變化。本發(fā)明包含與第1以及第2實施方式不同的實施方式。以下，示出作為本發(fā)明的其他實施方式的第1以及第2實施方式的變形例。其中，以下各變形例還可相互組合。第1實施方式的保持架50在與凹槽部58在周向ZC上相鄰的部分具有貫通孔53A。另一方面，變形例的保持架50也可以在周向ZC從凹槽部58分離的部分具有貫通孔53A。第1實施方式的保持架50在第2保持部分53具有兩個貫通孔53A。另一方面，變形例的保持架50在第2保持部分53具有一個貫通孔53A。此外，其他變形例的保持架50也可以在第2保持部分53具有三個以上的貫通孔53A。第1實施方式的保持架50在第2保持部分53具有貫通孔。另一方面，變形例的保持架50可以在第1保持部分52具有貫通孔53A。貫通孔53A在傳感器殼體60的成形時不會被埋沒。因此，成形保持架50或傳感器殼體60的模具具有傳感器殼體60的樹脂不流入貫通孔53A的部分。第1實施方式的保持架50在軸向ZA上的、第1集磁環(huán)41與第2集磁環(huán)42之間的部分具有貫通孔53A。另一方面，變形例的保持架50也可以在比第1集磁環(huán)41靠上方向ZA1的部分具有貫通孔53A。貫通孔53A在傳感器殼體60的成形時不會被埋沒。因此，成形保持架50或者傳感器殼體60的模具具有傳感器殼體60的樹脂不流入貫通孔53A的部分。此外，其他變形例的保持架50也可以在比第2集磁環(huán)42靠下方向ZA2的部分具有貫通孔53A。貫通孔53A在傳感器殼體60的成形時不會被埋沒。因此，成形保持架50或者傳感器殼體60的模具具有傳感器殼體60的樹脂不流入貫通孔53A的部分。第1實施方式的傳感器殼體60具有填充部分63。另一方面，變形例的傳感器殼體60也可以不具有填充部分63。第1實施方式的傳感器殼體60具有第1周壁61以及第2周壁62。另一方面，變形例的傳感器殼體60也可以不具有第1周壁61以及第2周壁62。第2實施方式的保持架50在凹槽部58具有一個貫通孔58A。另一方面，變形例的保持架50可以在凹槽部58具有多個貫通孔58A。第2實施方式的保持架50在軸向ZA上的第1集磁環(huán)41以及第2集磁環(huán)42之間具有貫通孔58A。另一方面，變形例的保持架50可以在軸向ZA比第1集磁環(huán)41的下端部靠上方向ZA1的部分具有貫通孔58A。此外，其他變形例的保持架50可以在軸向ZA上比第2集磁環(huán)42的上端部靠下方向ZA2的部分具有貫通孔58A。第2實施方式的保持架50在凹槽部58具有貫通孔58A。另一方面，變形例的保持架50也可以在周向ZC上與凹槽部58不同的部分具有貫通孔58A。此外，其他變形例的保持架50除凹槽部58的貫通孔58A之外，還可以在保持凸部51具有貫通孔53A。第1以及第2實施方式的第1集磁環(huán)41具有分離部分41C。另一方面，變形例的第1集磁環(huán)41也可以不具有分離部分41C。即，變形例的第1集磁環(huán)41也可以具有圓環(huán)形狀。第1以及第2實施方式的第2集磁環(huán)42具有分離部分42C。另一方面，變形例的第2集磁環(huán)42可以不具有分離部分42C。即，變形例的第2集磁環(huán)42也可以具有圓環(huán)形狀。第1以及第2實施方式的集磁單元40在保持架50的保持凸部51安裝有各集磁環(huán)41、42。另一方面，變形例的集磁單元40也可以使保持架50與各集磁環(huán)41、42成形為一體。保持架50還可以不具有保持凸部51。第1以及第2實施方式的保持架50具有凹槽部58。另一方面，變形例的保持架50還可以不具有凹槽部58。第1以及第2實施方式的扭矩檢測裝置20具有兩個磁傳感器31。另一方面，變形例的扭矩檢測裝置20還可以具有一個磁傳感器31。第1集磁環(huán)41還可以具有一個集磁突起41B。第2集磁環(huán)42還可以具有一個集磁突起42B。此外，其他變形例的扭矩檢測裝置20，作為磁傳感器31可以具有霍爾元件或MR元件等磁檢測元件，來替代霍爾IC。具有本發(fā)明的傳感器單元30的扭矩檢測裝置20還可以適用到除第1以及第2實施方式所示例的電動動力轉(zhuǎn)向裝置1以外的結(jié)構(gòu)的電動動力轉(zhuǎn)向裝置。