本發(fā)明涉及一種真空吸附滑動裝置。
背景技術(shù):
在一些生產(chǎn)設(shè)備或生產(chǎn)線上,對一些板狀零部件需要進(jìn)行運送或移動。而真空輸運的方法就是一種可采用的方式。有些板狀零部件如果人工用手操作會對板面造成污染或損傷,影響板的質(zhì)量,包括可能的靜電危害。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種真空吸附滑動裝置,該真空吸附滑動裝置可以利用真空吸附來輸運一些板形的零部件,對所輸運零部件的表面損傷小,沒有靜電危害,并且滑塊可以在滑軌上滑動,便于上料。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種真空吸附滑動裝置,包括滑塊和升降板,所述升降板位于所述滑塊的上方,所述升降板與所述滑塊平行,所述滑塊的頂面上設(shè)置有一凹槽,所述真空吸附滑動裝置所吸附的被吸附板設(shè)置在所述凹槽內(nèi),所述升降板上垂直設(shè)置有兩根升降桿,所述兩根升降桿的底端均設(shè)置有吸嘴,所述升降板上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板進(jìn)行升降和水平運動的驅(qū)動裝置,所述滑塊設(shè)置有滑槽,所述滑槽與所述滑軌配合使所述滑塊可以在所述滑軌上滑動。
在本發(fā)明一個較佳實施例中,所述升降桿為中空的管狀,所述升降桿的頂端連接有氣管,所述氣管內(nèi)充有負(fù)壓氣體。
在本發(fā)明一個較佳實施例中,所述滑塊上設(shè)置有定位銷,所述被吸附板上設(shè)置有定位孔,所述定位銷與定位孔間隙配合。
在本發(fā)明一個較佳實施例中,所述吸嘴與所述升降桿的所述中空部分連通。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的真空吸附滑動裝置可以利用真空吸附來輸運一些板形的零部件,對所輸運零部件的表面損傷小,沒有靜電危害,并且滑塊可以在滑軌上滑動,便于上料。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖,其中:
圖1是本發(fā)明的真空吸附滑動裝置的實施例示意圖。
附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、滑塊,2、凹槽,3、被吸附板,4、升降板,5、升降桿,6、吸嘴,7、驅(qū)動裝置,8、氣管,9、滑軌,10、定位銷。
具體實施方式
下面將對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
請參閱圖1,本發(fā)明實施例包括:
一種真空吸附滑動裝置,包括滑塊1和升降板4,所述升降板4位于所述滑塊1的上方,所述升降板4與所述滑塊1平行,所述滑塊1的頂面上設(shè)置有一凹槽2,所述真空吸附滑動裝置所吸附的被吸附板3設(shè)置在所述凹槽2內(nèi),所述升降板4上垂直設(shè)置有兩根升降桿5,所述兩根升降桿5的底端均設(shè)置有吸嘴6,所述升降板4上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板4進(jìn)行升降和水平運動的驅(qū)動裝置7,所述滑塊1設(shè)置有滑槽,所述滑槽與所述滑軌9配合使所述滑塊可以在所述滑軌9上滑動。
優(yōu)選地,所述升降桿5為中空的管狀,所述升降桿5的頂端連接有氣管8,所述氣管8內(nèi)充有負(fù)壓氣體。
優(yōu)選地,所述滑塊1上設(shè)置有定位銷10,所述被吸附板3上設(shè)置有定位孔,所述定位銷10與定位孔間隙配合。
優(yōu)選地,所述吸嘴6與所述升降桿5的所述中空部分連通。
驅(qū)動裝置7驅(qū)動升降板4下降,升降板4帶動升降桿5和吸嘴6下降,吸嘴6壓住被吸附板3,在氣管8內(nèi)負(fù)壓氣體的作用下吸嘴6將被吸附板3吸附住。驅(qū)動裝置7驅(qū)動升降板4上升將被吸附板3提起并可以移走。整個過程不需要人工的手接觸被吸附板3,不會對被吸附板3造成表面污染或是靜電損害。
定位銷10對被吸附板3起定位作用,滑塊1在滑軌9上滑動,可以將滑塊1滑動到上料位置進(jìn)行上料,安放被吸附板3。
以上所述僅為本發(fā)明的實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。