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      一種背光模組的上料裝置的制作方法

      文檔序號:12446911閱讀:164來源:國知局
      一種背光模組的上料裝置的制作方法

      本發(fā)明屬于背光模組設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種背光模組的上料裝置。



      背景技術(shù):

      背光模組為液晶顯示器面板的關(guān)鍵零組件之一,上料裝置也是必不可缺少的部分。隨著液晶顯示技術(shù)的不斷發(fā)展,液晶顯示器特別是彩色液晶顯示器的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬。受液晶顯示器的市場拉動,背光源產(chǎn)業(yè),呈現(xiàn)一派繁榮景象。在自動化加工、裝配生產(chǎn)線中,工件的自動上料是最重要的環(huán)節(jié)??梢哉f全自動化的90%在于能否實現(xiàn)工件的自動上料。當然,在很多情況下,并非自動化程度越高越好。背光源和液晶顯示屏組合在一起構(gòu)成了液晶顯示模塊。隨著LED的技術(shù)不斷發(fā)展, LED背光源的市場占有率迅速擴大。為了更好地發(fā)展,背光模組的上料裝置也需要更大的進步,如何能在有人、無人情況下更安全、快捷、有效率的工作,變得越來越值得思考與關(guān)注,相信會在不久的未來,真正的實現(xiàn)全自動,智能機器能夠應(yīng)對一些只有人才能應(yīng)對的情況,所以要加速發(fā)展上料裝置,提高上料裝置的自動化能力,同時也要注重防污方面,更能夠提高產(chǎn)品的壽命,使資源最大化利用。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的在于提供一種背光模組的上料裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

      為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種背光模組的上料裝置,包括上料裝置本體、控制裝置、用料倉、薄片上料裝置和薄片下料裝置,所述上料裝置本體下方設(shè)置有支撐腳,所述用料倉的右端有廢料倉,所述薄片上料裝置和連接桿固定連接,所述上料裝置本體兩側(cè)設(shè)置有伸縮臂,所述控制裝置固定在上料裝置本體表面上,所述薄片上料裝置下方設(shè)置有取料元件,所述薄片下料裝置下方設(shè)置有卸料元件,所述伸縮臂一端連接有轉(zhuǎn)鈕,所述取料元件內(nèi)部設(shè)置有真空管,所述薄片上料裝置內(nèi)部安裝有薄片夾和控制線,所述薄片夾下方設(shè)置有薄片夾控制裝置。

      優(yōu)選的,所述用料倉和廢料倉位于上料裝置本體內(nèi)部。

      優(yōu)選的,所述薄片下料裝置內(nèi)部設(shè)有薄片夾、薄片夾控制裝置和控制線。

      優(yōu)選的,所述轉(zhuǎn)鈕的旋轉(zhuǎn)角度為0度到360度。

      優(yōu)選的,所述薄片下料裝置內(nèi)部設(shè)置有真空管。

      為增強薄片夾的耐用性能,所述薄片夾表面設(shè)置有耐磨層,耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照1-3:2-4:2-4:0.1-0.2:0.4-0.6的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。

      進一步地,所述耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照2:3:2:0.15:0.5的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。

      本發(fā)明的技術(shù)效果和優(yōu)點:該背光模組的上料裝置,與傳統(tǒng)背光模組的上料裝置相比,結(jié)構(gòu)簡單化,但是功能更強大,自動化程度更高,通過設(shè)有轉(zhuǎn)鈕和伸縮臂,使薄片上料裝置可以自由活動,方便了工作,提高工作效率,節(jié)省了財力和人力,真空管可以很好地吸附薄片,避免一些堅硬結(jié)構(gòu)使薄膜受到損傷,薄片夾帶有軟膜也能夠減少薄膜的破損度,支撐座使上料裝置更加穩(wěn)定地工作,同時也讓上料裝置本體不接觸地面,減少了灰塵的附著,該背光模組的上料裝置通過一系列結(jié)構(gòu)進行高效工作,構(gòu)造簡單,節(jié)省材料和空間,具有很高的實用性。薄片夾表面設(shè)置有耐磨層,大大增強薄片夾的耐用性能。

      附圖說明

      圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2為本發(fā)明的取料元件結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖3為本發(fā)明的薄片上料裝置內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖中:1轉(zhuǎn)鈕、2薄片上料裝置、3取料元件、4伸縮臂、5上料裝置本體、6用料倉、7薄片下料裝置、8控制裝置、9廢料倉、10卸料元件、11支撐腳、12真空管、13薄片夾、14薄片夾控制裝置、15控制線。

      具體實施方式

      下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。

      實施例1

      本實施例提供了如圖1-3所示的一種背光模組的上料裝置,包括上料裝置本體5、控制裝置8、用料倉6、薄片上料裝置2和薄片下料裝置7,所述上料裝置本體5下方設(shè)置有支撐腳11,所述用料倉6的右端有廢料倉9,所述用料倉6和廢料倉9位于上料裝置本體5內(nèi)部,且可以通過控制裝置來實現(xiàn)打開和關(guān)閉,所述薄片上料裝置2和連接桿固定連接,所述上料裝置本體5兩側(cè)設(shè)置有伸縮臂4,所述控制裝置8固定在上料裝置本體5表面上,所述薄片上料裝置2下方設(shè)置有取料元件3,所述薄片下料裝置7下方設(shè)置有卸料元件10,所述薄片下料裝置7內(nèi)部設(shè)置有真空管12,所述伸縮臂4一端連接有轉(zhuǎn)鈕1,所述轉(zhuǎn)鈕1的旋轉(zhuǎn)角度為0度到360度,所述取料元件3內(nèi)部有真空管12,所述薄片上料裝置2內(nèi)部安裝有薄片夾13和控制線15,所述薄片下料裝置內(nèi)部設(shè)有薄片夾13、薄片夾控制裝置14和控制線15,所述薄片夾13下方設(shè)置有薄片夾控制裝置14。

      為增強薄片夾的耐用性能,所述薄片夾表面設(shè)置有耐磨層,耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照1-3:2-4:2-4:0.1-0.2:0.4-0.6的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。本實施例中所述耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照2:3:2:0.15:0.5的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。具體的,耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照2g:3g:2g:0.15g:0.5g的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。

      工作原理:在進行上料時,通過控制裝置8進行工作,先進行卸料,控制薄片下料裝置7的薄片夾控制裝置14,將廢舊薄片用薄片夾13夾取出,然后控制卸料元件10使真空管12黏住薄片,接著打開廢料倉9,真空管12讓廢舊薄片掉落,關(guān)閉廢料倉9,繼續(xù)控制用料倉6打開,控制取料元件3取出新薄片,由真空管12黏住新薄片,關(guān)閉用料倉6,在到達指定位置時,控制薄片上料裝置2的薄片夾控制裝置14,讓薄片夾13夾住新薄片,通過控制轉(zhuǎn)鈕1轉(zhuǎn)動和伸縮臂4伸縮變換找到合適的安裝位置,接著,慢慢安裝好新薄片,打開液晶顯示器,進行正常的工作、生活和學習。

      實施例2

      本實施例提供了的一種背光模組的上料裝置,其結(jié)構(gòu)與工作原理與實施例1相同,不同之處在于,所述薄片夾表面設(shè)置有耐磨層,耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照1:2:2:0.1:0.4的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。具體的,耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照1g:2g:2g:0.1g:0.4g的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。

      實施例3

      本實施例提供了的一種背光模組的上料裝置,其結(jié)構(gòu)與工作原理與實施例1、2相同,不同之處在于,所述薄片夾表面設(shè)置有耐磨層,耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照3:4:4:0.2:0.6的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。具體的,耐磨層由新戊二醇、1,4- 丁二醇、2,6- 萘二羧酸、莫來石、二氧化硅按照3g:4g:4g:0.2g:0.6g的重量比例均勻混合,均勻涂布于薄片夾表面干燥而成。

      最后應(yīng)說明的是:以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已,并不用于限制本發(fā)明,盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明,對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改,或者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。

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