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      一種負壓配氣盤的制作方法

      文檔序號:11299333閱讀:439來源:國知局
      一種負壓配氣盤的制造方法與工藝

      本實用新型涉及傘布旋轉(zhuǎn)模切機械領域,具體說是一種負壓配氣盤。



      背景技術:

      現(xiàn)有負壓配氣盤采用尼龍制作,與吸附轉(zhuǎn)移輥端面接觸面積大,存在以下問題:首先,密封性不好,吸附效果差,導致傘布吸附轉(zhuǎn)移過程容易發(fā)生松皺和跑偏,導致傘布形狀和尺寸誤差大;其次,密封性不好,漏氣導致能耗浪費嚴重;第三,使用過程中吸附轉(zhuǎn)移輥高速旋轉(zhuǎn),負壓配氣盤相對固定不動,由于接觸面積大,與吸附轉(zhuǎn)移輥端面長時間相對旋轉(zhuǎn)摩擦產(chǎn)生熱量多,導致尼龍軟化變形,密封性進一步變差。



      技術實現(xiàn)要素:

      為了克服上述現(xiàn)有技術的缺陷,本實用新型所要解決的技術問題是提供一種密封性好、吸附效果好的負壓配氣盤,以解決傘布透氣性好,不易吸附,現(xiàn)有負壓配氣盤由于與吸附轉(zhuǎn)移輥端面接觸面積大,密封性不好,吸附效果差,吸附轉(zhuǎn)移過程中傘布容易發(fā)生松皺、跑偏,傘布形狀和尺寸誤差大,能耗浪費嚴重的問題。

      為了解決上述技術問題,本實用新型采用的技術方案為:

      一種負壓配氣盤,包括盤體,所述盤體上設置有配氣孔和/或配氣槽,所述盤體上圍繞配氣孔和/或配氣槽的周邊開設有凹槽,所述凹槽內(nèi)嵌設有密封圈,所述密封圈凸出盤體的表面。

      本實用新型的有益效果在于:區(qū)別于現(xiàn)有技術,本實用新型通過在盤體上圍繞配氣孔和/或配氣槽的周邊開設凹槽,在凹槽內(nèi)裝入密封圈并使密封圈凸出盤體的表面,使得負壓配氣盤的盤體不會與吸附轉(zhuǎn)移輥的端面直接接觸,而是通過密封圈與吸附轉(zhuǎn)移輥的端面接觸,不僅接觸面積大幅減少,負壓配氣盤與吸附轉(zhuǎn)移輥端面的相對接觸旋轉(zhuǎn)摩擦產(chǎn)生的熱量也大幅減少,而且利用密封圈的彈性變形實現(xiàn)了與吸附轉(zhuǎn)移輥端面的無縫接觸,避免了漏氣問題,有效解決了傘布透氣性好,不易吸附,現(xiàn)有負壓配氣盤由于與吸附轉(zhuǎn)移輥端面接觸面積大,密封性不好,吸附效果差,吸附轉(zhuǎn)移過程中傘布容易發(fā)生松皺、跑偏,傘布形狀和尺寸誤差大,能耗浪費嚴重的問題。

      附圖說明

      圖1所示為本實用新型實施例的負壓配氣盤的結構示意圖。

      圖2所示為圖1的A-A剖視圖。

      圖3所示為本實用新型實施例的負壓配氣盤的工作示意圖。

      標號說明:

      1-盤體;2-配氣孔;3-配氣槽;4-凹槽;5-密封圈;6-吸附轉(zhuǎn)移輥;7-螺孔;8-緊固螺釘;9-盲孔;10-頂緊螺釘;11-開口。

      具體實施方式

      為詳細說明本實用新型的技術內(nèi)容、所實現(xiàn)目的及效果,以下結合實施方式并配合附圖予以說明。

      本實用新型最關鍵的構思在于:在負壓配氣盤的盤體與吸附轉(zhuǎn)移輥的端面接觸的一面設置密封圈,使負壓配氣盤與吸附轉(zhuǎn)移輥端面的接觸面積減少,并避免漏氣。

      請參照圖1至圖3所示,本實用新型提供的負壓配氣盤,包括盤體1,所述盤體1上設置有配氣孔2和/或配氣槽3,所述盤體1上圍繞配氣孔2和/或配氣槽3的周邊開設有凹槽4,所述凹槽4內(nèi)嵌設有密封圈5,所述密封圈5凸出盤體1的表面。

      通過在盤體1上圍繞配氣孔2和/或配氣槽3的周邊開設凹槽4,在凹槽4內(nèi)裝入密封圈5并使密封圈5凸出盤體1的表面,使得負壓配氣盤的盤體1不會與吸附轉(zhuǎn)移輥6的端面直接接觸,而是通過密封圈5與吸附轉(zhuǎn)移輥6的端面接觸,不僅接觸面積大幅減少,負壓配氣盤與吸附轉(zhuǎn)移輥6端面的相對接觸旋轉(zhuǎn)摩擦產(chǎn)生的熱量也大幅減少,而且利用密封圈5的彈性變形實現(xiàn)了與吸附轉(zhuǎn)移輥6端面的無縫接觸,避免了漏氣問題,有效解決了傘布透氣性好,不易吸附,現(xiàn)有負壓配氣盤由于與吸附轉(zhuǎn)移輥端面接觸面積大,密封性不好,吸附效果差,吸附轉(zhuǎn)移過程中傘布容易發(fā)生松皺、跑偏,傘布形狀和尺寸誤差大,能耗浪費嚴重的問題。

      進一步的,所述凹槽4的截面形狀為矩形,所述密封圈5為O型密封圈,所述密封圈5的截面直徑大于凹槽4的深度0.5mm,所述密封圈5的截面直徑大于凹槽4的寬度0.1~0.2mm。

      從上述描述可知,凹槽4的截面形狀為矩形,不僅易于加工,加工成本低,而且O形密封圈容納在凹槽4內(nèi)后與凹槽4的底部和側面具有一定空隙,為密封圈5嵌入后以及密封圈5與吸附轉(zhuǎn)移輥6端面壓緊后產(chǎn)生的彈性變形提供變形空間。O形密封圈為標準件,易于采購,成本低,而且可根據(jù)不同凹槽任意變形,便于嵌入凹槽4中。密封圈5的截面直徑大于凹槽4深度0.5mm,使密環(huán)圈5完全嵌入凹槽4后,還高出負壓配氣盤的盤體1表面0.5mm,避免盤體1與吸附轉(zhuǎn)移輥6的端面直接接觸。密封圈5的截面直徑大于凹槽4的寬度0.1-0.2mm,使密封圈5嵌入凹槽4后與凹槽4側壁產(chǎn)生一定的擠壓力,使密封圈5固定不動,密封圈5不容易跑出凹槽4。為了進一步防止密封圈5跑出凹槽4,密封圈5與凹槽4之間添加有粘結劑。

      進一步的,所述盤體1上設置有多個螺孔7,多個螺孔7位于以盤體1中心為圓心的同一個圓上。優(yōu)選的,螺孔7的數(shù)量為4個。

      從上述描述可知,使用時通過螺孔7與緊固螺釘8的配合,可以將負壓配氣盤固定不動,并可以任意調(diào)節(jié)負壓配氣盤和吸附轉(zhuǎn)移輥6端面的間隙,使負壓配氣盤和吸附轉(zhuǎn)移輥6端面均勻接觸,各部位間隙相同。

      進一步的,所述盤體1上設置有二個盲孔9,二個盲孔9位于盤體1的同一徑向線上且以盤體1的中心對稱設置。

      從上述描述可知,使用時通過頂在盲孔9內(nèi)的二個頂緊螺釘10,可以使負壓配氣盤與吸附轉(zhuǎn)移輥6端面接觸,并產(chǎn)生一定的預緊力,使負壓配氣盤和吸附轉(zhuǎn)移輥6端面緊密接觸,而且可以根據(jù)磨損情況,適時調(diào)節(jié)負壓配氣盤和吸附轉(zhuǎn)移輥6端面的預緊力。而且由于頂緊螺釘10容納在盲孔9內(nèi),不會因旋轉(zhuǎn)、振動而造成頂緊螺釘10的頂緊位置變動,從而保持預緊力不變。

      進一步的,所述盤體1上沿徑向開設有由盤體1邊緣向盤體1中心延伸的開口11。

      從上述描述可知,通過設置開口,便于負壓配氣盤的安裝、拆卸和更換。

      請繼續(xù)參照圖1至圖3所示,本實用新型的實施例一為:

      一種負壓配氣盤,包括盤體1,所述盤體1上設置有配氣孔2、配氣槽3、開口11、四個螺孔7和二個盲孔9。所述配氣槽3呈圓弧形,所述配氣孔2和配氣槽3位于以盤體1中心為圓心的同一個圓上。所述盤體1上圍繞配氣孔2和配氣槽3的周邊開設有凹槽4,所述凹槽4的截面形狀為矩形,所述凹槽4內(nèi)嵌設有密封圈5,所述密封圈5為O型密封圈,所述密封圈5的截面直徑大于凹槽4的深度0.5mm,使得密封圈5凸出盤體1的表面0.5mm,所述密封圈5的截面直徑大于凹槽4的寬度0.1~0.2mm,使得密封圈5嵌入凹槽4后與凹槽4側壁產(chǎn)生一定的擠壓力。為了進一步防止密封圈5跑出凹槽4,密封圈5與凹槽4之間添加有粘結劑。所述開口11沿盤體的徑向由盤體1邊緣向盤體1中心延伸,以便于負壓配氣盤的安裝、拆卸和更換。所述開口11的兩側分別對稱地設置有二個螺孔7和一個盲孔9,盲孔9位于二個螺孔7之間。開口11兩側的二個盲孔9位于盤體1的同一徑向線上且以盤體1的中心對稱設置,開口11兩側的四個螺孔7位于以盤體1中心為圓心的同一個圓上。

      綜上所述,本實用新型提供的負壓配氣盤,密封性能好,吸附效果好,有效解決了傘布透氣性好,不易吸附,現(xiàn)有負壓配氣盤由于與吸附轉(zhuǎn)移輥端面接觸面積大,密封性不好,吸附效果差,吸附轉(zhuǎn)移過程中傘布容易發(fā)生松皺、跑偏,傘布形狀和尺寸誤差大,能耗浪費嚴重的問題。

      以上所述僅為本實用新型的實施例,并非因此限制本實用新型的專利范圍,凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等同變換,或直接或間接運用在相關的技術領域,均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。

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