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      基板傳送裝置及基板曝邊方法

      文檔序號(hào):9658334閱讀:316來源:國知局
      基板傳送裝置及基板曝邊方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001 ]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基板傳送裝置及基板曝邊方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]在顯示技術(shù)領(lǐng)域,液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)與有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(Organic Light Emitting D1de,0LED)等平板顯示器已經(jīng)逐步取代CRT顯示器,廣泛地應(yīng)用于液晶電視、手機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、計(jì)算機(jī)屏幕或筆記本電腦屏幕等。
      [0003]以LCD的顯示面板為例,其結(jié)構(gòu)是由一彩色濾光片基板(ColorFilter,CF)、一薄膜晶體管陣列基板(Thin Film Transistor Array Substrate,TFT Array Substrate)以及一配置于兩基板間的液晶層(Liquid Crystal Layer)所構(gòu)成,工作原理是通過在TFT基板與CF基板上施加驅(qū)動(dòng)電壓來控制液晶層的液晶分子的旋轉(zhuǎn),將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。在LCD顯示面板與0LED顯示面板的制造過程中,會(huì)經(jīng)常用到光刻制程:具體為在涂有光刻膠的基板上方放置掩膜板,然后利用曝光機(jī)對(duì)基板進(jìn)行曝光,曝光機(jī)通過開啟超高壓水銀燈發(fā)出UV紫外光線,將掩膜板上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的基板表面上,基于掩膜板的圖案,光刻膠會(huì)有被曝光的部分和未被曝光的部分;再利用顯影液對(duì)光刻膠進(jìn)行顯影,即可去除光刻膠被曝光的部分,保留光刻膠未被曝光的部分,或者去除光刻膠未被曝光的部分,保留光刻膠被曝光的部分,從而使光刻膠形成所需的圖形;最后進(jìn)行蝕刻,在基板上形成相應(yīng)的圖案。
      [0004]在光刻制程中,基板的四周邊緣經(jīng)常會(huì)有光阻(即光刻膠)殘留,一般會(huì)通過曝邊機(jī)對(duì)基板的四周邊緣進(jìn)行曝光,以將殘留的光阻去除。曝邊機(jī)通常在生產(chǎn)線中單獨(dú)設(shè)置,而曝邊機(jī)價(jià)格比較昂貴,這就造成了機(jī)臺(tái)成本的上升。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本發(fā)明的目的在于提供一種基板傳送裝置,能夠在對(duì)基板進(jìn)行傳送的同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)基板的四周邊緣進(jìn)行曝光,以除去基板四周邊緣殘留的光阻,無需額外購買一臺(tái)曝邊機(jī),節(jié)省機(jī)臺(tái)成本。
      [0006]本發(fā)明的另一目的在于提供一種基板曝邊方法,能夠?qū)崿F(xiàn)在傳送基板的同時(shí)對(duì)基板進(jìn)行曝邊,除去基板四周邊緣殘留的光阻,節(jié)省機(jī)臺(tái)成本。
      [0007]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種基板傳送裝置,包括傳送平臺(tái)、相對(duì)設(shè)于傳送平臺(tái)兩側(cè)上方的第一、第二曝邊模組、及沿傳送平臺(tái)的傳送方向間隔設(shè)于傳送平臺(tái)下方的第一、第二定位柱;
      [0008]所述傳送平臺(tái)用于傳送基板;所述基板具有第一、第二、第三、第四邊緣,所述第一邊緣與第四邊緣相對(duì)且與傳送平臺(tái)的傳送方向垂直,所述第二邊緣與第三邊緣相對(duì),且與傳送平臺(tái)的傳送方向一致;所述第一、第二、第三、第四邊緣上具有待曝光的殘留光阻;
      [0009]所述第一定位柱位于第一、第二曝邊模組之間;所述第一、第二定位柱能夠相對(duì)于傳送平臺(tái)上升與下降;所述第一、第二定位柱之間的距離與基板在傳送方向上的尺寸相適應(yīng);
      [0010]當(dāng)基板??坑诘谝欢ㄎ恢帟r(shí),基板的第一邊緣位于第一、第二曝邊模組的下方;當(dāng)傳送平臺(tái)帶動(dòng)基板經(jīng)過第一定位柱向第二定位柱移動(dòng)時(shí),基板的第二、第三邊緣分別經(jīng)過第一、第二曝邊模組的下方;當(dāng)基板停靠于第二定位柱處時(shí),基板的第四邊緣位于第一、第二曝邊模組的下方;從而實(shí)現(xiàn)在基板的傳送過程中通過第一、第二曝邊模組對(duì)基板的第一、第二、第三、第四邊緣的殘留光阻進(jìn)行曝光。
      [0011]所述第一、第二曝邊模組的光源均為水銀燈。
      [0012]所述傳送平臺(tái)包括相互間隔且平行的數(shù)個(gè)轉(zhuǎn)軸、及分別設(shè)于所述數(shù)個(gè)轉(zhuǎn)軸上的多個(gè)滾輪。
      [0013]所述第一、第二定位柱分別位于相鄰的兩個(gè)轉(zhuǎn)軸之間。
      [0014]所述第一、第二定位柱各連接一氣缸,通過所述氣缸控制所述第一、第二定位柱上升與下降。
      [0015]本發(fā)明還提供一種基板曝邊方法,包括如下步驟:
      [0016]步驟1、提供一基板傳送裝置及基板;
      [0017]所述基板傳送裝置包括傳送平臺(tái)、相對(duì)設(shè)于傳送平臺(tái)兩側(cè)上方的第一、第二曝邊模組、及沿傳送平臺(tái)的傳送方向間隔設(shè)于傳送平臺(tái)下方的第一、第二定位柱;
      [0018]所述第一定位柱位于第一、第二曝邊模組之間;所述第一、第二定位柱能夠相對(duì)于傳送平臺(tái)上升與下降;所述第一、第二定位柱之間的距離與基板在傳送方向上的尺寸相適應(yīng);
      [0019]所述基板具有第一、第二、第三、第四邊緣,所述第一邊緣與第四邊緣相對(duì)且與傳送平臺(tái)的傳送方向垂直,所述第二邊緣與第三邊緣相對(duì)且與傳送平臺(tái)的傳送方向一致;所述第一、第二、第三、第四邊緣上具有待曝光的殘留光阻;
      [0020]步驟2、將所述基板放置于所述傳送平臺(tái)上進(jìn)行傳送,并控制第一定位柱上升;
      [0021 ]步驟3、所述基板被第一定位柱截住,??坑诘谝欢ㄎ恢?,控制第一曝邊模組或第二曝邊模組對(duì)基板的第一邊緣進(jìn)行曝光;
      [0022]步驟4、所述基板的第一邊緣曝光完畢后,控制第一定位柱下降,傳送平臺(tái)繼續(xù)傳送基板,在傳送過程中分別通過第一、第二曝邊模組對(duì)基板的第二、第三邊緣進(jìn)行曝光,并控制第二定位柱上升;
      [0023]步驟5、所述基板的第二、第三邊緣曝光完畢,基板被第二定位柱截住,??坑诘诙ㄎ恢帲刂频谝黄剡吥=M或第二曝邊模組對(duì)基板的第四邊緣進(jìn)行曝光;
      [0024]步驟6、所述基板的第四邊緣曝光完畢,控制第二定位柱下降,通過傳送平臺(tái)將曝邊后的基板傳送至下一制程。
      [0025]所述第一、第二曝邊模組的光源均為水銀燈。
      [0026]所述傳送平臺(tái)包括相互間隔且平行的數(shù)個(gè)轉(zhuǎn)軸、及分別設(shè)于所述數(shù)個(gè)轉(zhuǎn)軸上的多個(gè)滾輪。
      [0027]所述第一、第二定位柱分別位于相鄰的兩個(gè)轉(zhuǎn)軸之間。
      [0028]所述第一、第二定位柱各連接一氣缸,通過所述氣缸控制所述第一、第二定位柱上升與下降。
      [0029]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明提供的一種基板傳送裝置,在傳送平臺(tái)的上方設(shè)有第一、第二曝邊模組,在傳送平臺(tái)的下方設(shè)有第一、第二定位柱,在基板的傳送過程中可配合第一、第二定位柱,通過第一、第二曝邊模組對(duì)基板的四周邊緣進(jìn)行曝光,以除去基板四周邊緣殘留的光阻,無需額外購買一臺(tái)曝邊機(jī),節(jié)省機(jī)臺(tái)成本。本發(fā)明提供的一種基板曝邊方法,通過設(shè)置在基板傳送裝置中的第一、第二曝邊模組和第一、第二定位柱的相互配合,實(shí)現(xiàn)在傳送基板的同時(shí)對(duì)基板進(jìn)行曝邊,除去基板四周邊緣殘留的光阻,節(jié)省機(jī)臺(tái)成本。
      【附圖說明】
      [0030]為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容,請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖,然而附圖僅提供參考與說明用,并非用來對(duì)本發(fā)明加以限制。
      [0031]附圖中,
      [0032]圖1為本發(fā)明的基板傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0033]圖2為待曝邊的基板的俯視不意圖;
      [0034]圖3為本發(fā)明的基板傳送裝置的基板曝邊方法的步驟3的示意圖;
      [0035]圖4為本發(fā)明的基板傳送裝置的基板曝邊方法的步驟5的示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0036]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果,以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
      [0037]請(qǐng)參閱圖1、圖2,本發(fā)明首先提供一種基板傳送裝置,包括傳送平臺(tái)1、相對(duì)設(shè)于傳送平臺(tái)1兩側(cè)上方的第一、第二曝邊模組21、22、及沿傳送平臺(tái)1的傳送方向間隔設(shè)于傳送平臺(tái)1下方的第一、第二定位柱31、32。
      [0038]所述傳送平臺(tái)1用于傳送基板4。所述基板4具有第一、第二、第三、第四邊緣41、42、43、44,所述第一邊緣41與第四邊緣44相對(duì)且與傳送平臺(tái)1的傳送方向垂直,所述第二邊緣
      42與第三邊緣43相對(duì)且與傳送平臺(tái)1的傳送方向一致;所述第一、第二、第三、第四邊緣41、
      42、43、44上具有待曝光的殘留光阻。
      [0039]所述第一定位柱31位于第一、第二曝邊模組21、22之間;所述第一、第二定位柱31、32能夠相對(duì)于傳送平臺(tái)1上升與下降。所述第一、第二定位柱31、32之間的距離與基板4在傳送方向上的尺寸相適應(yīng)。
      [0040]具體地,當(dāng)基板4??坑诘谝欢ㄎ恢?1處時(shí),基板4的第一邊緣41位于第一、第二曝邊模組21、22的下方;當(dāng)傳送平臺(tái)1帶動(dòng)基板4經(jīng)過第一定位柱31向第二定位柱32移動(dòng)時(shí),基板4的第二、第三邊緣42、43分別經(jīng)過第一、第二曝邊模組21、22的下方;當(dāng)基板4??坑诘诙ㄎ恢?2處時(shí),基板4的第四邊緣44位于第一、第二曝邊模組21、22的下方;從而實(shí)現(xiàn)在基板4的傳送過程中通過第一、第二曝邊模組21、22對(duì)基板4的第一、第二、第三、第四邊緣41、42、
      43、44的殘留光阻進(jìn)行曝光。
      [0041]具體地,所述第一、第二曝邊模組21、22的光源均為水銀燈,可發(fā)出UV紫外光線對(duì)光阻進(jìn)行曝光。
      [0042]具體地,所述傳送平臺(tái)1包括相互間隔且平行的數(shù)個(gè)轉(zhuǎn)軸11、及分別設(shè)于所述數(shù)個(gè)轉(zhuǎn)軸11上的多個(gè)滾輪12。所述第一、第二定位柱31、32分別位于相鄰的兩個(gè)轉(zhuǎn)軸11之間。
      [0043]具體地,所述第一、第二定位柱31、32各連接一氣缸(未圖示),通過所述氣缸控制所述第一、第二定位柱31、32上升與下降。
      [0044]上述基板傳送裝置在傳送平臺(tái)1的上方設(shè)有第一、第二曝邊模組21、22,在傳送平臺(tái)1的下方設(shè)有第一、第二定位柱31、32,在基板4的傳送過程中可配合第一、第二定位柱31、32,通過第一、第二曝邊模組21、22對(duì)基板4的
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