本實(shí)用新型主要涉及色母粒生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種色母粒篩選裝置。
背景技術(shù)：
色母粒由于在生產(chǎn)工藝中冷卻不充分、干燥不徹底、切粒機(jī)構(gòu)精度低等原因，導(dǎo)致其顆粒大小不一，而且存在顆粒過(guò)大或過(guò)小的雜質(zhì)，或含有金屬類雜質(zhì)，直接影響后期配料計(jì)量，導(dǎo)致誤差。市場(chǎng)上有一些針對(duì)色母粒的顆粒大小進(jìn)行分篩的裝置，但結(jié)構(gòu)復(fù)雜、操作繁瑣、收料分料不準(zhǔn)，回收色母粒不充分，無(wú)法去除金屬類雜質(zhì)等缺陷。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型提供一種色母粒篩選裝置，能夠快速收集合格色母料，去除金屬類雜質(zhì)，為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：本實(shí)用新型包括有：料筒，其特征在于，所述料筒內(nèi)壁設(shè)置有磁鐵，所述料筒內(nèi)水平卡設(shè)有粗篩選層，所述粗篩選層垂直固定有振動(dòng)桿，所述振動(dòng)桿穿過(guò)料筒頂部，所述振動(dòng)桿頂部連接有電機(jī)，所述電機(jī)設(shè)置在料筒外部；所述料筒下方垂直連接有出料通道，所述出料通道設(shè)置有水平通孔，所述水平通孔一端安裝有吹風(fēng)裝置；所述出料通道下方設(shè)置有合格品回收箱。
優(yōu)選的，所述水平通孔另一端連接有細(xì)料回收箱。
優(yōu)選的，所述水平通孔靠近細(xì)料回收箱一側(cè)的孔徑大于靠近吹風(fēng)裝置一側(cè)的孔徑。
優(yōu)選的，所述料筒上方設(shè)置有進(jìn)料孔。
優(yōu)選的，所述料筒呈圓錐形。
優(yōu)選的，所述粗篩選層內(nèi)設(shè)置有篩孔，所述篩孔直徑與合格色母粒寬度相同。
本實(shí)用新型的有益效果：本實(shí)用新型在料筒內(nèi)設(shè)置磁鐵，并在出料口處設(shè)置吹風(fēng)裝置，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)便，工作時(shí)能有效去除金屬類雜質(zhì)，分料準(zhǔn)確，回收色母粒方便快捷，提高工作效率。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖中：
1、料筒，11、磁鐵，12、進(jìn)料孔；
2、粗篩選層；
3、振動(dòng)桿；
4、電機(jī)；
5、出料通道，51、水平通孔；
6、吹風(fēng)裝置；
7、合格品回收箱；
8、細(xì)料回收箱。
具體實(shí)施方式
如圖1所示可知，本實(shí)用新型一種色母粒篩選裝置，包括有：料筒1，其特征在于，所述料筒1內(nèi)壁設(shè)置有磁鐵11，所述料筒1內(nèi)水平卡設(shè)有粗篩選層2，所述粗篩選層2垂直固定有振動(dòng)桿3，所述振動(dòng)桿3穿過(guò)料筒1頂部，所述振動(dòng)桿3頂部連接有電機(jī)4，所述電機(jī)4設(shè)置在料筒1外部；所述料筒1下方垂直連接有出料通道5，所述出料通道5設(shè)置有水平通孔51，所述水平通孔51一端安裝有吹風(fēng)裝置6；所述出料通道5下方設(shè)置有合格品回收箱7。
在本實(shí)施中優(yōu)選的，水平通孔51另一端連接有細(xì)料回收箱8。
在本實(shí)施中優(yōu)選的，水平通孔51靠近細(xì)料回收箱8一側(cè)的孔徑大于靠近吹風(fēng)裝置6一側(cè)的孔徑。
在本實(shí)施中優(yōu)選的，料筒1上方設(shè)置有進(jìn)料孔12。
在本實(shí)施中優(yōu)選的，料筒1呈圓錐形。
在本實(shí)施中優(yōu)選的，粗篩選層2內(nèi)設(shè)置有篩孔，所述篩孔直徑與合格色母粒寬度相同。
在使用中，經(jīng)切粒機(jī)生產(chǎn)的色母粒通過(guò)進(jìn)料口進(jìn)入料筒，經(jīng)過(guò)粗篩選層的篩選，以及振動(dòng)裝置的運(yùn)作，較大顆粒的色母粒滯留在粗篩選層上方，金屬雜質(zhì)被磁鐵吸附，合格色母粒和細(xì)料下落，通過(guò)出料通道時(shí)，在吹風(fēng)裝置的作用下，細(xì)料被吹至細(xì)料回收箱，合格色母料直接垂直下落至合格品回收箱收集。
上述實(shí)施例僅例示性說(shuō)明本專利申請(qǐng)的原理及其功效，而非用于限制本專利申請(qǐng)。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本專利申請(qǐng)的精神及范疇下，對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在未脫離本專利申請(qǐng)所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本專利請(qǐng)的權(quán)利要求所涵蓋。