本實(shí)用新型涉及橡膠加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種無轉(zhuǎn)子硫化儀。
背景技術(shù):
硫化是橡膠制品加工過程的最后一個(gè)工序,在這個(gè)工序中,橡膠經(jīng)歷著一系列復(fù)雜的化學(xué)變化,使塑性的橡膠變?yōu)閺椥缘幕蛴捕鹊南鹉z,從而獲取更完善的物料機(jī)械性能和化學(xué)性能,使橡膠成為更有價(jià)值的材料,因此,橡膠對(duì)硫化制品制造和應(yīng)用都有十分重要的作用。
傳統(tǒng)的橡膠硫化是通過有轉(zhuǎn)子的硫化儀進(jìn)行硫化的,傳統(tǒng)的轉(zhuǎn)子硫化測(cè)試儀結(jié)構(gòu)主要由機(jī)體、升降氣缸、上模腔、下模腔、轉(zhuǎn)子、轉(zhuǎn)矩測(cè)量裝置,溫度控制裝置等組成,這種有轉(zhuǎn)子的硫化測(cè)試儀結(jié)構(gòu)中,具有模腔結(jié)構(gòu)不合理,機(jī)械結(jié)構(gòu)過于復(fù)雜,加熱慢及溫度難以控制等缺點(diǎn)。
為此,急需提供一種無轉(zhuǎn)子硫化儀來克服上述缺陷。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型提供一種無轉(zhuǎn)子硫化儀,具有結(jié)構(gòu)設(shè)置合理,加熱速度較快,溫控好及使用方便等特點(diǎn)。
為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案為:
一種無轉(zhuǎn)子硫化儀,包括機(jī)體,設(shè)置在所述機(jī)體內(nèi)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),及設(shè)置在所述機(jī)體內(nèi)、且設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上的模腔機(jī)構(gòu),還包括設(shè)置在所述機(jī)體一側(cè)的放置機(jī)構(gòu);所述模腔機(jī)構(gòu)包括:設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上方的上模結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述機(jī)體內(nèi)、且設(shè)置在所述上模結(jié)構(gòu)下的下模結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述機(jī)體內(nèi)、且設(shè)置在所述上模結(jié)構(gòu)上的氣缸結(jié)構(gòu),及設(shè)置在所述上模結(jié)構(gòu)和所述下模結(jié)構(gòu)兩側(cè)的立柱結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選地,所述放置機(jī)構(gòu)包括:設(shè)置在所述機(jī)體上的固定座,與所述固定座可活動(dòng)連接的松緊調(diào)節(jié)件。
優(yōu)選地,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括:與所述機(jī)體連接的電機(jī)支板,設(shè)置在所述電機(jī)支板上的偏心盤軸,設(shè)置在所述偏心盤軸上的偏心盤及圓盤,所述圓盤設(shè)置在所述偏心盤下方,及設(shè)置在所述偏心盤上、一端與所述偏心盤軸連接、另一端與所述下模結(jié)構(gòu)連接的擺桿。
優(yōu)選地,所述下模結(jié)構(gòu)包括:與所述立柱結(jié)構(gòu)連接的下支撐圓盤,設(shè)置在所述下支撐圓盤上的主軸,設(shè)置在所述下支撐圓盤下、且與所述主軸下端連接的主軸支撐座,設(shè)置在所述主軸上的雙列向心推力承軸,設(shè)置在所述主軸上的鉑電阻,設(shè)置在所述下支撐圓盤上的下模外罩,及設(shè)置在所述下模外罩上、且設(shè)置在所述鉑電阻上的密封圈。
優(yōu)選地,所述上模結(jié)構(gòu)包括:設(shè)置在所述機(jī)體上的第二支撐組件,設(shè)置在所述第二支撐組件上的過渡盤,設(shè)置在所述過渡盤上的加熱組件,及設(shè)置在所述加熱組件上的定位組件。
優(yōu)選地,所述第二支撐組件包括:模腔定位板,及設(shè)置在所述模腔定位板兩側(cè)的上模外罩。
優(yōu)選地,所述加熱組件包括:設(shè)置在所述過渡盤和所述定位組件之間的陶瓷隔熱圈,設(shè)置在所述陶瓷隔熱圈下的石棉墊圈,設(shè)置在所述石棉墊圈下的發(fā)熱盤,及設(shè)置在所述發(fā)熱盤下的第一腔膜。
優(yōu)選地,所述定位組件包括:設(shè)置在所述過渡盤上的定位膠木圈,設(shè)置在所述定位膠木圈兩側(cè)的導(dǎo)向盤,及設(shè)置在所述定位膠木圈、及設(shè)置在所述導(dǎo)向盤下的傳感器。
優(yōu)選地,所述氣缸結(jié)構(gòu)包括:設(shè)置在所述模腔機(jī)構(gòu)上的上支撐板,設(shè)置在所述模腔機(jī)構(gòu)兩側(cè)上的支架,設(shè)置在所述上支撐板上的氣缸主體,及設(shè)置在所述氣缸主體兩端、且與所述支架連接的鏈輪。
優(yōu)選地,所述機(jī)體內(nèi)設(shè)置有支架支撐條,所述支架支撐條設(shè)置在支架上底板和支架下底板之間。
本實(shí)用新型的一種無轉(zhuǎn)子硫化儀,設(shè)置所述機(jī)體,在所述機(jī)體內(nèi)設(shè)置所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述模腔機(jī)構(gòu),所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)時(shí)驅(qū)動(dòng)所述模腔機(jī)構(gòu)工作,完成硫化的功能,所述機(jī)體一側(cè)設(shè)置所述放置機(jī)構(gòu),便于用戶在所述放置機(jī)構(gòu)上放置常用物品,提高了本實(shí)用新型使用的便捷性。進(jìn)一步地,本實(shí)用新型還具有結(jié)構(gòu)設(shè)置合理,加熱速度較快,溫控好及使用方便等特點(diǎn)。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型一種無轉(zhuǎn)子硫化儀的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖,具體闡明本實(shí)用新型的實(shí)施方式,附圖僅供參考和說明使用,不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型專利保護(hù)范圍的限制。
請(qǐng)參考圖1,本實(shí)用新型一種無轉(zhuǎn)子硫化儀,包括:機(jī)體1、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2、模腔機(jī)構(gòu)3及放置機(jī)構(gòu)4,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2設(shè)置在所述機(jī)體1內(nèi),所述模腔機(jī)構(gòu)3設(shè)置在所述機(jī)體1上、且設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2上,所述放置機(jī)構(gòu)4設(shè)置在所述機(jī)體1一側(cè)上。
具體地,所述機(jī)體1內(nèi)設(shè)置有支架上底板11、支架下底板12和支架支撐條13,所述支架支撐條13設(shè)置在所述支架上底板11和所述支架下底板12之間。
所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2包括:與所述機(jī)體1連接的電機(jī)支板21,設(shè)置在所述電機(jī)支板21上的偏心盤軸22,設(shè)置在所述偏心盤軸22上的偏心盤23及圓盤24,所述圓盤24設(shè)置在所述偏心盤23下方,及設(shè)置在所述偏心盤23上、一端與所述偏心盤軸22連接、另一端與所述模腔機(jī)構(gòu)3連接的擺桿25。
所述模腔機(jī)構(gòu)3包括:設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2上方的上模結(jié)構(gòu)31,設(shè)置在所述機(jī)體1內(nèi)、且設(shè)置在所述上模結(jié)構(gòu)31下的下模結(jié)構(gòu)32,設(shè)置在所述機(jī)體1內(nèi)、且設(shè)置在所述上模結(jié)構(gòu)31上的氣缸結(jié)構(gòu)33,及設(shè)置在所述上模結(jié)構(gòu)31和所述下模結(jié)構(gòu)32兩側(cè)的立柱結(jié)構(gòu)34。所述上模結(jié)構(gòu)31包括:設(shè)置在所述機(jī)體1上的第二支撐組件311,設(shè)置在所述第二支撐組件311上的過渡盤312,設(shè)置在所述過渡盤312上的加熱組件313,及設(shè)置在所述加熱組件313上的定位組件314。所述第二支撐組件311包括:模腔定位板3111,及設(shè)置在所述模腔定位板3111兩側(cè)的上模外罩3112。所述加熱組件313包括:設(shè)置在所述過渡盤312和所述定位組件314之間的陶瓷隔熱圈3131,設(shè)置在所述陶瓷隔熱圈3131下的石棉墊圈3132,設(shè)置在所述石棉墊圈3131下的發(fā)熱盤3133,及設(shè)置在所述發(fā)熱盤3133下的第一腔膜3134。所述定位組件314包括:設(shè)置在所述過渡盤312上的定位膠木圈3141,設(shè)置在所述定位膠木圈3141兩側(cè)的導(dǎo)向盤3142,及設(shè)置在所述定位膠木圈3141、及設(shè)置在所述導(dǎo)向盤3142下的傳感器3143。所述下模結(jié)構(gòu)32包括:與所述立柱結(jié)構(gòu)34連接的下支撐圓盤321,設(shè)置在所述下支撐圓盤321上的主軸322,設(shè)置在所述下支撐圓盤321下、且與所述主軸322下端連接的主軸支撐座323,設(shè)置在所述主軸322上的雙列向心推力承軸324,設(shè)置在所述主軸322上的鉑電阻325,設(shè)置在所述下支撐圓盤321上的下模外罩326,及設(shè)置在所述下模外罩326上、且設(shè)置在所述鉑電阻325上的密封圈327。所述氣缸結(jié)構(gòu)33包括:設(shè)置在所述模腔機(jī)構(gòu)3上的上支撐板331,設(shè)置在所述模腔機(jī)構(gòu)3兩側(cè)上的支架332,設(shè)置在所述上支撐板331上的氣缸主體333,及設(shè)置在所述氣缸主體333兩端、且與所述支架332連接的鏈輪334。需要說明的是,所述擺桿25一端與所述偏心盤軸22連接、另一端與所述下模結(jié)構(gòu)32連接。所述圓盤24為鑲鐵圓盤。
所述放置機(jī)構(gòu)4包括:設(shè)置在所述機(jī)體1上的固定座41,與所述固定座41可活動(dòng)連接的松緊調(diào)節(jié)件42。所述固定座41的兩側(cè)邊上設(shè)置有固定桿,通過所述固定桿的設(shè)置,使得所述放置機(jī)構(gòu)4具有穩(wěn)固性更好的特點(diǎn)。用戶可通過調(diào)節(jié)所述松緊調(diào)節(jié)件42,從而固定或拿取常用物品。
從以上描述可以看出,本實(shí)用新型的一種無轉(zhuǎn)子硫化機(jī),在所述機(jī)體1內(nèi)設(shè)置所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2驅(qū)動(dòng)所述模腔機(jī)構(gòu)3工作,實(shí)現(xiàn)硫化的功能,使得本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)設(shè)置簡(jiǎn)單合理的特點(diǎn),在所述機(jī)體1上設(shè)置所述放置機(jī)構(gòu)4,使得本實(shí)用新型具有使用方便的特點(diǎn)。進(jìn)一步地,在所述模腔機(jī)構(gòu)3內(nèi)設(shè)置所述上模結(jié)構(gòu)31、下模結(jié)構(gòu)32、氣缸結(jié)構(gòu)33和所述立柱結(jié)構(gòu)34,無需設(shè)置轉(zhuǎn)子,通過所述氣缸結(jié)構(gòu)33驅(qū)動(dòng)所述上模結(jié)構(gòu)31運(yùn)動(dòng)與所述下模結(jié)構(gòu)32相接,完成加熱的功能、提高了加熱速度,同時(shí),所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2驅(qū)動(dòng)所述模腔機(jī)構(gòu)3轉(zhuǎn)動(dòng),更好地完成硫化的功能,提高了硫化質(zhì)量。進(jìn)一步地,所述模腔機(jī)構(gòu)3內(nèi)設(shè)置有所述傳感器3143,實(shí)時(shí)反饋數(shù)據(jù),更進(jìn)一步地提高了溫控性能。
以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例,不能以此來限定本實(shí)用新型的權(quán)利保護(hù)范圍,因此依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化,仍屬本實(shí)用新型所涵蓋的范圍。