本實(shí)用新型涉及模具領(lǐng)域，尤其涉及一種具有水路結(jié)構(gòu)的鑲件及具有該鑲件的模具組件。

背景技術(shù)：

模具是用來制作成型產(chǎn)品的工具，廣泛用于沖裁、模鍛、冷鐓、擠壓、粉末冶金件壓制、壓力鑄造，以及工程塑料、橡膠、陶瓷等產(chǎn)品的壓塑或注塑成形加工中。模具組件屬于精密工具，其形狀復(fù)雜并承受坯料的脹力，對結(jié)構(gòu)強(qiáng)度、剛度、表面硬度、表面粗糙度和加工精度都有較高的要求。

模具中通常設(shè)置水路來控制模具的溫度，以便更好的控制產(chǎn)品在模具中的冷卻及收縮，從而控制產(chǎn)品尺寸及表面要求。水路通常設(shè)在模板及相應(yīng)的模仁上，但當(dāng)水路比較復(fù)雜時(shí)，受模仁空間的限制往往無法直接在模仁上鉆孔來形成水路，或者因水路加工深度大、結(jié)構(gòu)復(fù)雜而導(dǎo)致加工成本太高。另一種方式是在鑲件及模板上開設(shè)相連通的水路，但由于鑲件底部與模板之間并非完全密合，因此須使用密封圈以防止水滲入模具，由于密封圈是軟的，若鑲件作用于密封圈的力不平衡，則容易導(dǎo)致密封失效而滲水。

因此，有必要提供一種具有水路結(jié)構(gòu)并能保證與模板之間的密封性的鑲件，以解決上述現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種具有水路結(jié)構(gòu)并能保證與模板之間的密封性的鑲件。

本實(shí)用新型的另一目的在于提供一種能保證鑲件與模板之間的密封性的模具組件。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：提供一種鑲件，其裝設(shè)于模仁上并與模板相配合，該鑲件包括一底面、第一水路、第一掛臺及第二掛臺；底面用于抵壓設(shè)于模板上的密封圈；第一水路開設(shè)于鑲件內(nèi)并貫穿底面；第一掛臺垂直凸設(shè)于鑲件的一側(cè)面并具有與底面在同一平面的第一抵壓面；第二掛臺垂直凸設(shè)于鑲件的另一側(cè)面并具有與底面在同一平面的第二抵壓面，且第二掛臺、第一掛臺向相反方向凸伸。

較佳地，第一掛臺還具有一與第一抵壓面相平行的第一抵觸面，第一抵觸面用于和模仁相抵觸。

較佳地，第一抵壓面、第一抵觸面之間的間距為6.0mm。

較佳地，第二掛臺還具有一與第二抵壓面相平行的第二抵觸面，第二抵觸面用于和模仁相抵觸。

較佳地，第二抵壓面、第二抵觸面之間的間距為6.0mm。

較佳地，鑲件還包括一成型部，成型部露出模仁用于安裝至成型腔。

對應(yīng)地，本實(shí)用新型還提供一種模具組件，其包括一模板、一模仁、如上的鑲件及密封結(jié)構(gòu)；模板具有一安裝面及貫穿安裝面的第二水路；模仁設(shè)于安裝面上，且模仁上貫穿地開設(shè)有安裝槽；鑲件裝設(shè)于安裝槽內(nèi)，且其底面抵觸于安裝面，鑲件上的第一水路與第二水路相連通；密封結(jié)構(gòu)設(shè)于底面與安裝面之間并位于水路的周圍。

較佳地，密封結(jié)構(gòu)包括開設(shè)于安裝面上的密封槽及裝設(shè)于密封槽內(nèi)的密封圈，鑲件的底面抵壓于密封圈上。

較佳地，安裝槽的內(nèi)壁上凹設(shè)有定位槽，第一掛臺、第二掛臺對應(yīng)卡合于定位槽內(nèi)，且第一抵觸面、第二抵觸面與定位槽的壁面相抵觸。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實(shí)用新型的鑲件，其兩相對的側(cè)面上分別垂直凸設(shè)有向相反方向凸伸的第一掛臺及第二掛臺，第一掛臺具有與底面在同一平面的第一抵壓面，第二掛臺并具有與底面在同一平面的第二抵壓面；當(dāng)該鑲件裝設(shè)于模仁上后，其底面抵觸于模板的表面并抵壓于密封圈上，由于具有第一掛臺及第二掛臺，使鑲件兩側(cè)的受力平衡，從而使抵壓在密封圈的力更平衡，達(dá)到較好的密封效果，保證鑲件與模板之間密封性。對應(yīng)地，具有該鑲件的模具組件也具有相同的技術(shù)效果。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型模具組件的俯視圖。

圖2是沿圖1中A-A線的剖視圖。

圖3是圖2中B部分的放大示意圖。

圖4是圖1中鑲件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是圖4另一角度的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6是圖4的側(cè)視圖。

圖7是圖4的俯視圖。

【符號說明】

模具組件1 鑲件100

第一水路110 主體部120

底面121 第一側(cè)面122

第二側(cè)面123 第一掛臺124

第一抵壓面1241 第一抵觸面1242

第二掛臺125 第二抵壓面1251

第二抵觸面1252 成型部130

模仁200 安裝槽210

定位槽220 模板300

第二水路310 安裝面320

密封結(jié)構(gòu)400 密封槽410

密封圈420

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在參考附圖描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號代表類似的元件。

首先結(jié)合圖1-7所示，本實(shí)用新型所提供的模具組件1，其包括鑲件100、模仁200、模板300及設(shè)于鑲件100與模板300之間的密封結(jié)構(gòu)400。其中，鑲件100裝設(shè)于模仁200上并具有貫穿其底部的第一水路110，模仁200裝設(shè)于模板300上并使鑲件100與模板300相抵觸，且模板300上開設(shè)有與第一水路110相連通的第二水路310，密封結(jié)構(gòu)400設(shè)于鑲件100與模板300之間，用于防止水滲入模具內(nèi)。

參看圖2-3所示，模板300具有一安裝面320，第二水路310貫穿該安裝面320；模仁200裝設(shè)于該安裝面320上，且模仁200上貫穿地開設(shè)有安裝槽210，安裝槽210的內(nèi)壁上凹設(shè)有定位槽220；鑲件100裝設(shè)于安裝槽210內(nèi)并與定位槽220相卡合，定位槽220用于對鑲件100進(jìn)行限位(詳見后述)，鑲件100的底面抵觸于安裝面320，鑲件100上的第一水路110與第二水路310相對應(yīng)連通，密封結(jié)構(gòu)400設(shè)于鑲件100的底面與安裝面320之間。

如圖3所示，密封結(jié)構(gòu)400包括開設(shè)于安裝面320上的密封槽410及裝設(shè)于密封槽410內(nèi)的密封圈420，密封槽410圍繞第二水路310開設(shè)于安裝面320上，鑲件100的底面抵觸于安裝面320上后可抵壓該密封圈420，通過鑲件100壓平該密封圈420來達(dá)到密封水路的效果。

下面結(jié)合圖2-7所示，鑲件100包括還一主體部120及設(shè)于主體部120上方的成型部130，該主體部120用于裝設(shè)至模仁200上的安裝槽210內(nèi)，成型部130露出模仁200用于安裝至成型腔(圖未示)。

參看圖4-7所示，該主體部120具有一底面121及與該底面121相連接并相對的第一側(cè)面122及第二側(cè)面123，第一側(cè)面122上垂直凸設(shè)有第一掛臺124，第二側(cè)面123上垂直凸設(shè)有第二掛臺125，第一掛臺124、第二掛臺125向相反方向凸伸(見圖6)。結(jié)合圖3所示，第一水路110貫穿主體部120的底面121，第一掛臺124、第二掛臺125用于和定位槽220相卡合，以對鑲件100進(jìn)行限位，并使鑲件100的兩側(cè)受力平衡，即，使密封圈420受到的抵壓力更均衡，從而保證密封效果。

如圖4-6所示，第一掛臺124具有一與底面121在同一平面的第一抵壓面1241及與第一抵壓面1241相平行的第一抵觸面1242，第一抵壓面1241、第一抵觸面1242之間的間距h1為6.0mm，第一抵壓面1241用于抵觸安裝面320，第一抵觸面1242用于和定位槽220的壁面相抵觸。對應(yīng)地，第二掛臺125具有一與底面121在同一平面的第二抵壓面1251及與第二抵壓面1251相平行的第二抵觸面1252，第二抵壓面1251、第二抵觸面1252之間的間距h2為6.0mm，第二抵壓面1251用于抵觸安裝面320，第二抵觸面1252用于和定位槽220的壁面相抵觸。

可理解地，第一掛臺124、第二掛臺125的高度均不以此為限，可根據(jù)需要靈活設(shè)置。

綜上，由于本實(shí)用新型的鑲件100，其相對的第一側(cè)面122、第二側(cè)面123上分別垂直凸設(shè)有向相反方向凸伸的第一掛臺124及第二掛臺125，第一掛臺124具有與底面121在同一平面的第一抵壓面1241，第二掛臺125具有與底面121在同一平面的第二抵壓面1251；當(dāng)該鑲件100裝設(shè)于模仁200上后，其底面121抵觸于模板300的安裝面320并抵壓于密封圈420上，由于具有第一掛臺124及第二掛臺125，使鑲件100的兩側(cè)受力更平衡，從而使抵壓在密封圈420的力平衡，達(dá)到較好的密封效果，保證鑲件100與模板300之間的密封性。

對應(yīng)地，具有該鑲件100的模具組件1也具有相同的技術(shù)效果。

以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本實(shí)用新型之權(quán)利范圍，因此依本實(shí)用新型申請專利范圍所作的等同變化，仍屬本實(shí)用新型所涵蓋的范圍。