一種壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明屬于導電薄膜模具輥加工技術領域，特別涉及一種壓印電極微柵薄膜的模 具輥制作方法。
【背景技術】
[0002] 導電薄膜是伴隨磁控濺射技術的發(fā)展才出現(xiàn)的新材料，其能實現(xiàn)一些特定的電子 和物理性能，方阻在5-500ohm，厚度在0.05-0.25mm，能夠彎曲甚至折疊同時還保持其固有 的電性能；因而，成為平板顯示和觸控屏顯示的關鍵部件。
[0003] 傳統(tǒng)的導電薄膜均是平面壓印技術，其幅面由印制板尺寸決定，在后期分切使用 時其利用率較低，大大浪費的資源，提升了成本； 改進后采用圓壓圓，卷對卷壓印方式，由具有電極微柵圖形的模具輥通過結合紫外壓 印或熱壓印技術制作，制得無接縫超大幅面導電薄膜，導電薄膜長度達到2000m以上，幅寬 超過2m;其突破了幅面限制，解決了易斷裂、電阻高等問題，且在生產(chǎn)過程中無重金屬污染， 導電材料利用率高。
[0004] 雖然圓壓圓，卷對卷壓印方式能顯著提高導電薄膜的生產(chǎn)率和幅面，然而這種壓 印方式也存在一定的缺陷：制備具有電極微柵圖形的模具輥相對較困難，一般制作工藝中 圖形采用掩模曝光刻蝕方式制作至模具輥上，導致模具輥表面電極微柵圖形不清晰及均勻 不一致，進而不能滿足壓印要求且這種工藝還存在制作成本高及投入產(chǎn)出率低的問題，同 時這種工藝很難在橫向幅寬上有很大突破，縱向圖形拼接也很難做到無縫拼接。
[0005] 因此，研發(fā)一種能夠使模具輥表面電極微柵圖形清晰一致、降低制作成本及提高 投入產(chǎn)出率的壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法是非常有必要的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種能夠使模具輥表面電極微柵圖形清晰一致、 降低制作成本及提高投入產(chǎn)出率的壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法。
[0007] 為解決上述技術問題，本發(fā)明的技術方案為:一種壓印電極微柵薄膜的模具輥制 作方法，其創(chuàng)新點在于:所述制作方法具體步驟如下： (1) 在模具輥的外表面涂覆一層厚度為2-5μπι的掩蔽膠； (2) 通過激光直寫裝置直寫光蝕掉掩蔽膠層，直至模具輥金屬表面，在模具輥上形成寬 度為3-5um，高度為2-5μπι的槽狀電極微柵圖形，使用3W短波長266nm激光，線掃描速度 500mm/秒，數(shù)毫秒即可蝕去掩蔽膠； (3) 采用超聲水清洗處理光蝕后的模具輥，去除殘留在電極微柵圖形上的掩蔽膠以及 模具輥表面輕微的金屬氧化物殘渣，超聲功率控制在1500~2000W范圍內(nèi)，超聲頻率控制在 20~130KHZ范圍內(nèi)，模具輥旋轉速度20~120轉/分鐘，采用電阻大于12兆歐，且溫度在20~ 40 °C范圍內(nèi)的純水進行清洗100~150s; (4) 通過電沉積處理，處理后，在模具輥上形成凸起的電極微柵圖形紋路。
[0008] 進一步地，所述步驟(4)中的電沉積處理為電沉積鎳或電沉積銅中的一種，采用氟 硼酸銅鹽溶液沉積金屬銅溫度25至50攝氏度，陰極電流密度5至30安培/平方分米，輥筒旋 轉速度20至60轉/分鐘，沉積金屬銅到需要厚度;采用氟硼酸鎳型溶液，工作溫度45至55攝 氏度，陰極電流密度2.5至10安培/平方分米，輥筒旋轉速度20至60轉/分鐘，沉積金屬鎳到 需要厚度。
[0009] 本發(fā)明的優(yōu)點在于： (1) 本發(fā)明壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法，通過制作過程中激光光蝕、超聲清洗 及電沉積各特定工藝條件參數(shù)的控制，進而使制得的模具輥表面電極微柵圖形清晰一致； 且通過該制作方法，制得的模具輥的投入產(chǎn)出率高，但制作成本低； (2) 本發(fā)明壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法，采用激光直寫刻蝕技術，其是先進的 柔性制作方式，做好圖形編碼即可方便的制作模具輥，進而大大提高了生產(chǎn)效率； (3) 本發(fā)明壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法，電沉積處理可通過電沉積鎳和電沉 積銅兩種方式實現(xiàn)，這樣使得電沉積處理更具有選擇性;且金屬鎳的機械強度和硬度比金 屬銅更為優(yōu)異，因而制得的模具輥的使用壽命會大幅提高。
【附圖說明】
[0010]下面結合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細的說明。
[0011] 圖1~圖5是本發(fā)明壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法的過程示意圖。
【具體實施方式】
[0012] 下面的實施例可以使本專業(yè)的技術人員更全面地理解本發(fā)明，但并不因此將本發(fā) 明限制在所述的實施例范圍之中。
[0013] 實施例1 本實施例壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法，該制作方法具體步驟如下： (1)如圖1所示，在模具輥的外表面涂覆一層厚度為2μπι的掩蔽膠； (2 )如圖2所示，通過激光直寫裝置直寫光蝕掉掩蔽膠層，直至模具輥金屬表面，在模具 輥上形成寬度為5um，高度為2μπι的槽狀電極微柵圖形2,使用3W短波長266nm激光，線掃描速 度500mm/秒，數(shù)毫秒即可蝕去掩蔽膠； (3) 如圖3所示，采用超聲水清洗處理光蝕后的模具輥，去除殘留在電極微柵圖形上的 掩蔽膠以及模具輥表面輕微的金屬氧化物殘渣3,超聲功率控制在1500~2000W范圍內(nèi)，超 聲頻率控制在20~130KHZ范圍內(nèi)，模具輥旋轉速度20~120轉/分鐘，采用電阻大于12兆歐， 且溫度在20~40 °C范圍內(nèi)的純水進行清洗100~150s; (4) 如圖4所示，通過電沉積鎳4處理，即采用氟硼酸鎳型溶液，工作溫度45至55攝氏度， 陰極電流密度2.5至10安培/平方分米，輥筒旋轉速度20至60轉/分鐘，沉積金屬鎳到需要 厚度;處理后，如圖5所示，在模具輥上形成凸起的電極微柵圖形紋路5。
[0014] 實施例2 本實施例壓印電極微柵薄膜的模具輥制作方法，該制作方法具體步驟如下： (1)如圖1所示，在模具輥的外表面涂覆一層厚度為3μπι的掩蔽膠； (2 )如圖2所示，通過激光直寫裝置直寫光蝕掉掩蔽膠層，直至模具輥金屬表面，在模具 輥上形成寬度為4um，高度為3μπι的槽狀電極微柵圖形2,使用3W短波長266nm激光，線掃描速 度500mm/秒，數(shù)毫秒即可蝕去掩蔽膠； (3) 如圖3所示，采用超聲水清洗處理光蝕