1.用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：包含處理控制箱，處理控制箱內(nèi)設(shè)置有回收過濾組件，回收過濾組件與抽真空模塊通過處理控制箱上設(shè)置的真空泵接口連接，所述回收過濾組件與氣瓶通過處理控制箱上設(shè)置的氣瓶接口連通；所述處理控制箱上還設(shè)置有用于和回收過濾組件連接的壓力表和真空表；壓力表和真空表與控制單元電連接；所述處理控制箱內(nèi)還設(shè)置有壓縮機模塊，所述壓縮機模塊與處理控制箱上設(shè)置的GIS設(shè)備接口連通；所述壓縮機模塊與所述控制單元電連接，所述控制單元設(shè)置在處理控制箱內(nèi)；
所述壓縮機模塊設(shè)置在處理控制箱內(nèi)且靠近處理控制箱的底部；所述回收過濾組件設(shè)置在處理控制箱內(nèi)部且位于所述壓縮機上方，所述處理控制箱內(nèi)還設(shè)置有微水測試模塊和溫度控制模塊，所述微水測試模塊和溫度控制模塊設(shè)置在所述回收過濾組件的上方；
所述處理控制箱上還設(shè)置有用于和氮氣瓶連接的氮氣接口；所述氮氣接口通過管路與壓縮機模塊連接；
還包含組裝在GIS設(shè)備上且用于加熱GIS設(shè)備氣室的加熱組件，所述溫度控制模塊與所述加熱組件連接，所述控制單元與所述溫度控制模塊電連接；
所述處理控制箱和氣瓶均設(shè)置在車架上，車架底部設(shè)置行走輪；
所述處理控制箱與氣瓶通過連接器組件連通，所述連接器組件上設(shè)置有電動的調(diào)節(jié)閥，所述控制單元與所述調(diào)節(jié)閥電連接。
2.如權(quán)利要求1所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：所述處理控制箱上還設(shè)置有液晶顯示屏、指示燈、啟動按鈕、停止按鈕、USB接口和電源開關(guān)；所述液晶顯示屏、指示燈、啟動按鈕和停止按鈕都安裝在處理控制箱頂部的斜面上，所述處理控制箱的左側(cè)面和右側(cè)面的凹槽里都安裝有把手，所述箱體的后側(cè)面設(shè)有柜門，所述USB接口和電源開關(guān)安裝在箱體的后側(cè)面。
3.如權(quán)利要求2所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：所述控制單元包含PLC、放大模塊和A/D轉(zhuǎn)換模塊；所述溫度控制模塊包含溫度傳感器；所述微水測試模塊包含微水測試儀；所述壓力表、溫度傳感器和微水傳感器都與放大模塊連接，所述放大模塊與A/D轉(zhuǎn)換模塊連接，所述A/D轉(zhuǎn)換模塊與PLC連接，所述USB接口與PLC連接，所述抽真空模塊、壓縮機模塊、回收過濾組件、液晶顯示屏、指示燈、溫度傳感器、氮氣接口、氣瓶接口、真空接泵接口和GIS設(shè)備接口都與PLC連接。
4.如權(quán)利要求1所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：所述處理控制箱的后側(cè)面上安裝有排氣口、回收信號接口、真空信號接口和溫度信號接口；所述壓力表有兩個，分別設(shè)置在回收過濾組件的前方和后方管路上；所述壓力表和真空表組裝在處理控制箱表面。
5.如權(quán)利要求1所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：所述連接器組件包含氣瓶連接接頭和回收過濾組件連接接頭；所述回收過濾組件連接接頭末端與氣瓶連接接頭首端通過管路連接，所述管路上設(shè)置所述調(diào)節(jié)閥；所述回收過濾組件連接接頭為中空的管狀結(jié)構(gòu)，回收過濾組件連接接頭首端外表面帶有凸臺，回收過濾組件連接接頭的兩端均設(shè)有內(nèi)螺紋，回收過濾組件連接接頭首端的內(nèi)螺紋用于與排氣口連接，所述進氣口與所述處理控制箱的氣瓶接口連通；
氣瓶連接接頭為中空的管狀結(jié)構(gòu)，其兩端均設(shè)有內(nèi)螺紋，氣瓶連接接頭末端的內(nèi)螺紋用于與進氣口連通，所述進氣口組裝在氣瓶上，且與氣瓶內(nèi)部連通；
所述氣瓶連接接頭和回收過濾組件連接接頭為黃銅螺紋接頭；所述管路為聚四氟乙烯管。
6.如權(quán)利要求1所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：所述回收過濾組件包含通過管路依次連通的分子篩干燥單元、油氣分離單元、粉塵顆粒過濾單元和SF6分解毒氣過濾單元；所述分子篩干燥單元上設(shè)置有加熱部件，所述加熱部件為電加熱部件，所述電加熱部件與所述控制單元電連接；所述車架上還設(shè)置有配電柜；所述處理控制箱內(nèi)還設(shè)置有備用電源。
7.如權(quán)利要求6所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：所述分子篩干燥單元、油氣分離單元、粉塵顆粒過濾單元和SF6分解毒氣過濾單元設(shè)置在高壓缸套內(nèi)；所述管路兩端延伸至高壓缸套的外部，分別形成入口管路和出口管路。
8.如權(quán)利要求1所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：所述加熱組件包含均布安裝在GIS設(shè)備的GIS氣室外表面的環(huán)形加熱機構(gòu)；相鄰環(huán)形加熱機構(gòu)之間的距離為H，且H≥5mm；所述GIS氣室上設(shè)置有GIS法蘭，所述環(huán)形加熱機構(gòu)與GIS法蘭之間的距離為D，且D≥100mm；
所述環(huán)形加熱機構(gòu)中，沿著遠(yuǎn)離GIS氣室方向依次為通電后加熱的加熱片、隔熱板、保溫板和保護罩；所述加熱片的面積小于隔熱板的面積；10mm≥H≥5mm；150mm≥D≥100mm。
9.如權(quán)利要求8所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：所述加熱片與GIS氣室之間設(shè)置所述溫度控制模塊的溫度傳感器，所述加熱片上設(shè)置有接線頭，所述接線頭上連接有導(dǎo)線，所述導(dǎo)線上連接有溫度控制模塊的溫度控制儀和電源控制開關(guān)；所述導(dǎo)線的遠(yuǎn)端設(shè)置與供電電源連接的插頭；所述溫度傳感器和加熱片通過接線頭與外部的溫度控制儀和電源控制開關(guān)連接；所述環(huán)形加熱機構(gòu)包含兩個對稱的半圓形加熱組件，每個半圓形加熱組件沿著遠(yuǎn)離GIS氣室方向依次為通電后加熱的加熱片、隔熱板、保溫板和保護罩。
10.如權(quán)利要求9所述的用于750千伏GIS氣室微水超標(biāo)的處理系統(tǒng)，其特征在于：環(huán)形加熱機構(gòu)中的兩個半圓形加熱組件之間設(shè)置間隙；卡箍將兩個半圓形加熱組件相互卡緊，所述卡箍通過卡扣實現(xiàn)打開和卡緊；每個環(huán)形加熱機構(gòu)上的卡箍為兩個，分別設(shè)置在靠近環(huán)形加熱機構(gòu)的上邊緣和下邊緣；所述加熱片、隔熱板、保溫板和保護罩與GIS氣室外表面形狀一致；所述加熱片、隔熱板、保溫板和保護罩相互粘接。