1.一種連續(xù)式真空蒸餾用的保溫熔爐，其特征在于：包括保溫底板、第一活動保溫墻、第二活動保溫墻、坩堝、感應(yīng)線圈、保護殼和配電設(shè)備；
所述保溫底板上設(shè)置有相互平行的第一滑軌和第二滑軌；
所述第一活動保溫墻有相互垂直連接的兩面，所述兩面第一活動保溫墻底端分別設(shè)置有第一滑槽和第二滑槽，所述第一滑槽與所述第一滑軌滑動連接，所述第二滑槽與所述第二滑軌滑動連接；
所述第二活動保溫墻有相互垂直連接的兩面，所述兩面第二活動保溫墻底端分別設(shè)置有第三滑槽和第四滑槽，所述第三滑槽與所述第一滑軌滑動連接，所述第四滑槽與所述第二滑軌滑動連接；
所述第一活動保溫墻和第二活動保溫墻相互拼合形成圍墻；
所述坩堝設(shè)置于所述圍墻之間的所述保溫底板上；
所述感應(yīng)線圈從上到下依次環(huán)繞在所述坩堝外側(cè)壁；
所述保護殼覆蓋于所述感應(yīng)線圈外；
所述配電設(shè)備電連接所述感應(yīng)線圈。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)式真空蒸餾用的保溫熔爐，其特征在于：所述坩堝的外側(cè)壁從頂部到底部逐漸向內(nèi)側(cè)傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)式真空蒸餾用的保溫熔爐，其特征在于：所述坩堝頂部外側(cè)壁環(huán)繞設(shè)置有朝下的保護罩，所述保護罩底部設(shè)置有凹槽；所述保護殼頂部伸入所述凹槽中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的連續(xù)式真空蒸餾用的保溫熔爐，其特征在于：所述第一滑軌和第二滑軌頂部分別排列設(shè)置有滾輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的連續(xù)式真空蒸餾用的保溫熔爐，其特征在于：所述坩堝底部與保溫底板之間還設(shè)置有保溫盤，所述保溫盤的高度高于所述第一滑軌的高度和第二滑軌的高度。