1.隱形正畸生產(chǎn)線自動洗消系統(tǒng)，其特征在于，包括主控模塊、超聲波清洗設(shè)備、二氧化氯噴淋清洗設(shè)備、蒸餾水清洗設(shè)備、除水干燥設(shè)備和紫外線消毒柜，所述超聲波清洗設(shè)備包括控制模塊I和清洗槽，所述二氧化氯噴淋清洗設(shè)備包括控制模塊II和滾筒II，所述蒸餾水清洗設(shè)備包括控制模塊III和滾筒III，所述除水干燥設(shè)備包括控制模塊IV和滾筒IV，所述紫外線消毒柜包括控制模塊V，所述控制模塊I、控制模塊II、控制模塊III、控制模塊IV和控制模塊V均分別與主控模塊相連，所述清洗槽的內(nèi)部與所述滾筒II的入口之間設(shè)置傳送帶，所述滾筒II的排出口與所述滾筒III的入口之間設(shè)置傳送帶，所述滾筒III的排出口與所述滾筒IV的入口之間設(shè)置傳送帶，所述滾筒IV的排出口處設(shè)置有收集箱，所述傳送帶通過電動機進行驅(qū)動，所述電動機與主控模塊相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隱形正畸生產(chǎn)線自動洗消系統(tǒng)，其特征在于：所述清洗槽中設(shè)置有傳感器，所述傳感器與主控模塊相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隱形正畸生產(chǎn)線自動洗消系統(tǒng)，其特征在于：所述超聲波清洗設(shè)備為高頻超聲波清洗設(shè)備。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的隱形正畸生產(chǎn)線自動洗消系統(tǒng)，其特征在于：所述滾筒均10～15°傾斜設(shè)置，所述滾筒內(nèi)部設(shè)置有螺紋。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的隱形正畸生產(chǎn)線自動洗消系統(tǒng)，其特征在于：所述滾筒II和滾筒III的軸線處均設(shè)置有輸液管，所述輸液管上均勻設(shè)置噴孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的隱形正畸生產(chǎn)線自動洗消系統(tǒng)，其特征在于：所述除水干燥設(shè)備為高壓空氣除水紅外干燥設(shè)備，所述滾筒IV的軸線處設(shè)置有高壓氣管，所述高壓氣管上均勻設(shè)置噴孔，所述滾筒IV軸線末端設(shè)置有紅外發(fā)射器，所述滾筒IV內(nèi)壁與滾筒同軸設(shè)置阻攔網(wǎng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的隱形正畸生產(chǎn)線自動洗消系統(tǒng)的洗消方法，其特征在于，包括如下步驟：
(1)人工將清洗對象排列在清洗槽的傳送帶上，主控模塊通過控制模塊I控制超聲波清洗設(shè)備工作，將清洗對象用40～80kHz的高頻超聲波清洗3～5min，然后由主控模塊控制傳送帶傳輸至所述滾筒II內(nèi)；
(2)主控模塊通過控制模塊II控制二氧化氯噴淋清洗設(shè)備工作，滾筒II軸線處的輸液管通過噴孔向清洗對象噴灑300mg～500mg/L的二氧化氯溶液，將清洗對象浸潤于二氧化氯溶液中，浸泡時間10min，然后由滾筒II的排出口排出到傳送帶上，由主控模塊控制傳送帶傳輸至所述滾筒III內(nèi)；
(3)主控模塊通過控制模塊III控制蒸餾水清洗設(shè)備工作，滾筒III軸線處均的輸液管通過噴孔向清洗對象噴灑蒸餾水，噴淋量0.2～0.4m3/min，清洗時間3～5min，然后由滾筒III的排出口排出到傳送帶上，由主控模塊控制傳送帶傳輸至所述滾筒IV內(nèi)；
(4)主控模塊通過控制模塊IV控制除水干燥設(shè)備工作，滾筒IV軸線處均的高壓氣管通過噴孔向清洗對象噴氣，單孔噴氣量2～4m3/min；除水時間3～5min，然后用波長200～400μm紅外線干燥10～30s，然后由滾筒IV的排出口排出到收集箱內(nèi)；
(5)當收集箱內(nèi)的清洗對象到達一定數(shù)量時，將收集箱置于紫外線消毒柜中，主控模塊通過控制模塊V控制紫外線消毒柜工作，將環(huán)境溫度設(shè)定為20～25℃，紫外線波長250～285nm，照射距離1m，照射時間30～60min。