本實(shí)用新型涉及一種集合滅菌和節(jié)水功能的洗滌槽。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的洗滌槽，對于物品的清洗只能夠通過多次沖洗，才能夠達(dá)到清洗的目的，所存在的不知之處是浪費(fèi)水，其次，由于洗滌槽的下水管中容易滋生細(xì)菌，又沒有很好可以除去這些細(xì)菌的辦法，造成洗滌槽容易產(chǎn)生異味。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是，提供一種集合滅菌和節(jié)水功能的洗滌槽，其優(yōu)點(diǎn)是節(jié)約水，滅菌，除味。

為解決上述技術(shù)問題，本提供的技術(shù)方案為：一種集合滅菌和節(jié)水功能的洗滌槽，它包括水槽臺；水槽，設(shè)于水槽臺上；下水管；與水槽的底部相連；它還包括超聲波發(fā)生裝置，設(shè)于水槽臺上且其超聲波振子延伸至所述水槽內(nèi)；水位檢測裝置，設(shè)于水槽內(nèi)與超聲波發(fā)生裝置相連根據(jù)其獲得的水位信息打開和關(guān)閉所述超聲波發(fā)生裝置；等離子發(fā)生裝置，其等離子輸出端口與下水管連通。

采用以上結(jié)構(gòu)后，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)：其核心結(jié)構(gòu)包括超聲波發(fā)生裝置，設(shè)于水槽臺上且其超聲波振子延伸至所述水槽內(nèi)；水位檢測裝置，設(shè)于水槽內(nèi)與超聲波發(fā)生裝置相連根據(jù)其獲得的水位信息打開和關(guān)閉所述超聲波發(fā)生裝置；臭氧發(fā)生裝置，其輸出端口與下水管相連；通過增設(shè)超聲波發(fā)生裝置，借助其超聲波振子，利用超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用對置于水槽內(nèi)的待清洗的物品直接、間接的作用，使物品表面的污物層被分散、乳化、剝離而達(dá)到清洗目的，不需要再反復(fù)沖洗，達(dá)到節(jié)約用水的目的；其次，借助臭氧發(fā)生裝置，能夠殺死下水管中的細(xì)菌，達(dá)到滅菌的作用，除去異味，再借助等離子發(fā)生裝置，殺死水槽中的細(xì)菌，并且在啟動等離子發(fā)生裝置，通過在水槽上蓋上水槽蓋板，提高了。

作為一種優(yōu)選，所述超聲波發(fā)生裝置還包括殼體、設(shè)于殼體內(nèi)用于驅(qū)動超聲波振子的驅(qū)動電路和連接驅(qū)動電路與超聲波振子的超聲波傳送體，其中，所述超聲波傳送體包括穿設(shè)于水槽的側(cè)壁的橫部以及與橫部相連的豎直部，所述超聲波振子設(shè)于所述豎直部上。采用這樣子設(shè)計的目的是，超聲波發(fā)生裝置的結(jié)構(gòu)簡單，造價成本低，便于安裝。

作為一種優(yōu)選，所述超聲波振子的數(shù)量為兩個且呈上下間隔地設(shè)于所述超聲波傳送體的豎直部上。采用這樣子設(shè)計的目的是，有助于提高清洗效果。

作為一種優(yōu)選，所述水位檢測裝置包括水位傳感器和與水位傳感器相連的控制器，所述控制器與驅(qū)動電路的啟閉端相連，所述控制器中設(shè)定有第一水位閾值和第二水位閾值。采用這樣子設(shè)計的目的是，體現(xiàn)了人性化設(shè)計，在不同的水位情況下，通過控制器啟動不同位置的超聲波振子。

作為一種優(yōu)選，所述豎直部上的一所述超聲波振子靠近水槽的底部。采用這樣子設(shè)計的目的是，有助于提高清洗效果。

作為一種優(yōu)選，所述水槽蓋板的邊沿設(shè)有間隔分布的磁塊，所述水槽的邊沿設(shè)有與磁塊一一對應(yīng)且磁性配合的鐵塊。采用這樣子設(shè)計的目的是，能夠更好地實(shí)現(xiàn)磁接配合。

作為一種優(yōu)選，所述等離子發(fā)生裝置包括具有圓柱形腔室的圓柱電極、置于圓柱形腔室以便將圓柱形腔室隔成具有進(jìn)氣口的第一腔室和具有排氣口的第二腔室的孔板、置于所述第二腔室內(nèi)部并位于所述圓柱電極的中心軸處的桿狀電極以及其設(shè)置在所述第一腔室處并且能夠施加與所述圓柱電極不同的電勢的子電極，該等離子發(fā)生裝置在所述圓柱電極與所述桿狀電極之間施加電場以產(chǎn)生等離子體，所述圓柱電極和所述子電極之間分離地施加電場以產(chǎn)生與在所述桿狀電極和所述圓柱電極之間產(chǎn)生的等離子體分離的等離子體，在所述桿狀電極和所述圓柱電極之間產(chǎn)生的等離子體包括輝光放電，并且在所述圓柱電極和所述子電極之間產(chǎn)生的等離子體包括弧光放電，以及具有彼此分離且通過所述孔板的孔連接的所述第一腔室和所述第二腔室的等離子體區(qū)域；其中，第二腔室的排氣口與下水管連通。采用這樣子設(shè)計的目的是，展示了具體的等離子發(fā)生裝置結(jié)構(gòu)，該類等離子發(fā)生裝置運(yùn)行穩(wěn)定，壽命較高。

作為一種優(yōu)選，所述等離子發(fā)生裝置還包括置于圓柱電極兩端的絕緣體，所述進(jìn)氣口和排氣口設(shè)于絕緣體上。采用這樣子設(shè)計的目的是，進(jìn)一步地展示了具體的等離子發(fā)生裝置結(jié)構(gòu)，提高等離子發(fā)生裝置運(yùn)行的穩(wěn)定性。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)的平面示意圖。

圖2是本實(shí)用新型的控制電路模塊圖。

圖3是本實(shí)用新型的等離子發(fā)生裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中所述：1、水槽臺；2、水槽；201、下水管；202、鐵塊；3、超聲波發(fā)生裝置；301、殼體；302、超聲波振子；303、驅(qū)動電路；304、超聲波傳送體；3041、橫部；3042、豎直部；401、水位傳感器；402、控制器；501、第一水位閾值；502、第二水位閾值；6、等離子發(fā)生裝置；6011、第一腔室；6012、第二腔室；602、圓柱電極；603、孔板；604、桿狀電極；605、子電極；7、水槽蓋板；701、磁塊；801、進(jìn)氣口；802、排氣口；9、絕緣體；10、電源。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本做進(jìn)一步的詳細(xì)說明。

如附圖1、圖2和圖3所示，本實(shí)用新型一種集合滅菌和節(jié)水功能的洗滌槽，它包括水槽臺1；水槽2，設(shè)于水槽臺1上；下水管201；與水槽2的底部相連；它還包括超聲波發(fā)生裝置3，設(shè)于水槽臺1上且其超聲波振子302延伸至所述水槽2內(nèi)；水位檢測裝置4，設(shè)于水槽2內(nèi)與超聲波發(fā)生裝置3相連根據(jù)其獲得的水位信息打開和關(guān)閉所述超聲波發(fā)生裝置3；等離子發(fā)生裝置6，其等離子輸出端口與下水管201連通。

所述超聲波發(fā)生裝置3還包括殼體301、設(shè)于殼體301內(nèi)用于驅(qū)動超聲波振子302的驅(qū)動電路303和連接驅(qū)動電路303與超聲波振子302的超聲波傳送體304，其中，所述超聲波傳送體304包括穿設(shè)于水槽2的側(cè)壁的橫部3041以及與橫部3041相連的豎直部3042，所述超聲波振子302設(shè)于所述豎直部3042上。

所述超聲波振子302的數(shù)量為兩個且呈上下間隔地設(shè)于所述超聲波傳送體304的豎直部3042上。

所述水位檢測裝置4包括水位傳感器401和與水位傳感器401相連的控制器402，所述控制器402與驅(qū)動電路303的啟閉端相連，所述控制器402中設(shè)定有第一水位閾值501和第二水位閾值502。

所述豎直部3042上的一所述超聲波振子302靠近水槽2的底部。

所述水槽蓋板7的邊沿設(shè)有間隔分布的磁塊701，所述水槽2的邊沿設(shè)有與磁塊701一一對應(yīng)且磁性配合的鐵塊202。

所述等離子發(fā)生裝置6包括具有圓柱形腔室的圓柱電極602、置于圓柱形腔室以便將圓柱形腔室隔成具有進(jìn)氣口801的第一腔室6011和具有排氣口802的第二腔室6012的孔板603、置于所述第二腔室6012內(nèi)部并位于所述圓柱電極602的中心軸處的桿狀電極604以及其設(shè)置在所述第一腔室6011處并且能夠施加與所述圓柱電極602不同的電勢的子電極605，該等離子發(fā)生裝置6在所述圓柱電極602與所述桿狀電極604之間施加電場以產(chǎn)生等離子體，所述圓柱電極602和所述子電極605之間分離地施加電場以產(chǎn)生與在所述桿狀電極604和所述圓柱電極602之間產(chǎn)生的等離子體分離的等離子體，在所述桿狀電極604和所述圓柱電極602之間產(chǎn)生的等離子體包括輝光放電，并且在所述圓柱電極602和所述子電極605之間產(chǎn)生的等離子體包括弧光放電，以及具有彼此分離且通過所述孔板603的孔連接的所述第一腔室6011和所述第二腔室6012的等離子體區(qū)域；其中，第二腔室6012的排氣口802與下水管201連通，其中，所述等離子發(fā)生裝置6還包括負(fù)責(zé)供電的電源10。

所述等離子發(fā)生裝置6還包括置于圓柱電極602兩端的絕緣體9，所述進(jìn)氣口801和排氣口802設(shè)于絕緣體9上。

以上僅就本的最佳實(shí)施例作了說明，但不能理解為是對權(quán)利要求的限制。本不僅限于以上實(shí)施例，凡在本獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)所作的各種變化均在本的保護(hù)范圍內(nèi)。