本實(shí)用新型屬于硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域，具體的說，涉及一種硅片清洗臺。

背景技術(shù)：

硅片，是一種半導(dǎo)體器件基礎(chǔ)材料，是由硅錠通過切割加工成具有一定厚度的片狀基底材料。通過在基底材料上進(jìn)行若干工序形成具有各種功能的半導(dǎo)體器件，是組成各種電子設(shè)備的基礎(chǔ)。

在對硅片的生產(chǎn)過程中，通過加工設(shè)備將硅錠切割加工成硅片之后，因?yàn)檫@時的硅錠上具有大量的粉末，因而這時就需要將硅片進(jìn)行清洗之后才能夠包裝，由于此時的硅片還是疊加在一起形成硅錠的樣子，而現(xiàn)有技術(shù)中對硅片的清洗中，人工清洗混亂，流程不清楚，無一站式的清洗設(shè)備，常常導(dǎo)致清洗不徹底，且廢水排放不規(guī)范，造成工作環(huán)境潮濕、雜亂無章。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決以上技術(shù)問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種硅片清洗臺，能對硅片有序的清洗，且工作環(huán)境干凈、干燥。

本實(shí)用新型目的是這樣實(shí)現(xiàn)的：一種硅片清洗臺，其關(guān)鍵在于：包括工作臺，所述工作臺上從右向左依次固定設(shè)有第一超聲波清洗槽、第一沖水槽、第二超聲波清洗槽、第三超聲波清洗槽和第二沖水槽，所述第一超聲波清洗槽和第二超聲波清洗槽開口的后側(cè)均通有熱水管，所述第三超聲波清洗槽開口的后 側(cè)通有冷水管，該第一超聲波清洗槽、第二超聲波清洗槽和第三超聲波清洗槽的前側(cè)下部均通有出水管，所述第一沖水槽和第二沖水槽的前側(cè)均通有進(jìn)水管，該第一沖水槽和第二沖水槽的后側(cè)底部均設(shè)有排水管。

上述第一沖水槽和第二沖水槽均包括內(nèi)槽和外槽，所述內(nèi)槽可拆卸式的安放于所述外槽內(nèi)，所述內(nèi)槽的高度低于所述外槽高度，所述進(jìn)水管接入所述內(nèi)槽內(nèi)，所述排水管接通所述外槽。內(nèi)槽的水向外槽溢流，易于清洗的雜物沉降分離。

上述內(nèi)槽分隔成至少2列單槽，該單槽通過豎板分隔成前側(cè)的長格和后側(cè)的短格，所述豎板頂端開有溢流缺口，每個所述單槽內(nèi)均對應(yīng)設(shè)有一支所述進(jìn)水管，該進(jìn)水管接通所述長格內(nèi)。每個單槽可獨(dú)立進(jìn)行清洗，使得第一、第二沖水槽能更快、更多的對硅片進(jìn)行清洗。

上述工作臺的下方設(shè)有廢水收集總管，所述出水管和排水管均連通所述廢水收集總管。利于廢水的回流收集，不污染環(huán)境，還可保證工作環(huán)境的干燥。

上述工作臺的正上方設(shè)有頂板，該頂板上均設(shè)有至少2個抽風(fēng)機(jī)。在超聲波清洗時，都會添加電子清洗劑，電子清洗劑比較刺鼻，需要及時將異味抽離工作臺，保護(hù)操作人員。

上述工作臺的前側(cè)邊緣設(shè)有加強(qiáng)板，該加強(qiáng)板的上邊緣高出所述工作臺，將工作臺的前側(cè)封擋。加強(qiáng)板能進(jìn)一步加強(qiáng)工作臺的支撐強(qiáng)度，而且還能起到封擋作用，防止飛濺或漏出的水從工作臺漏出，破壞工作環(huán)境的干燥度。

有益效果：

本實(shí)用新型一種硅片清洗臺，能對硅片有序的清洗，且工作環(huán)境干凈、干燥。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型的內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖。

其中15為盒體、1為工作臺、2為第一超聲波清洗槽、3為第一沖水槽、4為第二超聲波清洗槽、5為第三超聲波清洗槽、6為第二沖水槽、7為熱水管、8為冷水管、9為出水管、10為進(jìn)水管、11為排水管、12為內(nèi)槽、12a為長格、12b為短格、13為外槽、14為豎板、16為廢水收集總管、17為頂板、18為抽風(fēng)機(jī)、19為加強(qiáng)板。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。

實(shí)施例：

如圖1、圖2所示：一種硅片清洗臺，由工作臺1和位于工作臺正上方的頂板17組成，該頂板17上均設(shè)有3個抽風(fēng)機(jī)18。所述工作臺1的前側(cè)邊緣設(shè)有加強(qiáng)板19，該加強(qiáng)板19的上邊緣高出所述工作臺1，將工作臺1的前側(cè)封擋。

所述工作臺1上從右向左依次固定設(shè)有第一超聲波清洗槽2、第一沖水槽3、第二超聲波清洗槽4、第三超聲波清洗槽5和第二沖水槽6，所述第一超聲波清洗槽2和第二超聲波清洗槽4開口的后側(cè)均通有熱水管7，所述第三超聲波清洗槽5開口的后側(cè)通有冷水管8，該第一超聲波清洗槽2、第二超聲波清洗槽4和第三超聲波清洗槽5的前側(cè)下部均通有出水管9，所述第一沖水槽3和第二沖水槽6的前側(cè)均通有進(jìn)水管10，該第一沖水槽3和第二沖水槽6的后側(cè)底部均設(shè)有排水管11。

所述第一沖水槽3和第二沖水槽6均由內(nèi)槽12和外槽13組成，所述內(nèi)槽12可拆卸式的安放于所述外槽13內(nèi)，所述內(nèi)槽12的高度低于所述外槽13高度， 所述內(nèi)槽12分隔成2列單槽，該單槽通過豎板14分隔成前側(cè)的長格12a和后側(cè)的短格12b，所述豎板14頂端開有溢流缺口，所述進(jìn)水管10接入所述長格12a，所述排水管11接通所述外槽13。所述工作臺1的下方設(shè)有廢水收集總管16，所述出水管9和排水管11均連通所述廢水收集總管16。

工作原理：在第一超聲波清洗槽內(nèi)通入70～85℃的熱水并加入電子清洗劑，然后將疊好的硅片框提入其中清洗20分鐘左右，然后在第一沖水槽內(nèi)，用純水沖洗20分鐘，并每隔5分鐘提動并轉(zhuǎn)動一次，再在通有70～85℃的熱水的第二超聲波清洗槽內(nèi)清洗20分鐘左右，然后于通有冷水的第三超聲波清洗槽內(nèi)上下提動并清洗20分鐘，最后于第二沖水槽內(nèi)用純水沖洗，直至水質(zhì)穩(wěn)定在10M左右為止。

最后需要說明的是，上述描述僅僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本實(shí)用新型的啟示下，在不違背本實(shí)用新型宗旨及權(quán)利要求的前提下，可以做出多種類似的表示，如單槽的列數(shù)、抽風(fēng)機(jī)的個數(shù)等這樣的變換均落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。