本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種紫外光清洗基板的方法及系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

在顯示器的制備過程中，基板的清洗是其中的一項重要工藝，直接影響產(chǎn)品的品質(zhì)。為了去除基板表面黏附的有機物，保證基板的潔凈，目前得到廣泛應(yīng)用的一種清洗基板的方法是利用有機物的光敏氧化作用通過紫外光對基板進行清洗。紫外光表面清洗技術(shù)是非接觸式高清潔干法表面處理技術(shù)，其特點是：清洗后的潔凈度能夠到達原子級，它借助光和氣的作用把玻璃表面黏附的各類有機物徹底清除干凈，由于不直接接觸表面就不會造成基板表面的損傷，同時不會對環(huán)境造成污染。

在清洗過程中，通常采用統(tǒng)一的紫外光輻射量(輻射量(累積光量)＝照度×照射時間)對同一張基板進行清洗，但由于基板的特異性，不同類型的基板表面的有機物殘留量的分布，以及同一張基板表面不同區(qū)域的有機物殘留量的分布都存在很大差異，若采用統(tǒng)一的紫外光輻射量對基板進行清洗，會導(dǎo)致部分區(qū)域的紫外光輻射量過量，部分區(qū)域的紫外光輻射量不足，而過量的紫外光輻射量會對基板造成損傷，不足的紫外光輻射量又不能有效去除黏附于基板表面的有機物。

基于此，如何在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本申請實施例提供了一種紫外光清洗基板的方法及系統(tǒng)，用以在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

本申請實施例提供的一種紫外光清洗基板的方法包括：

將基板劃分為至少兩個區(qū)域，檢測所述基板上各個區(qū)域的有機物殘留量并確定各個區(qū)域的位置；

根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；

根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板。

本申請實施例提供的紫外光清洗基板的方法，通過將基板劃分為至少兩個區(qū)域，檢測所述基板上各個區(qū)域的有機物殘留量并確定各個區(qū)域的位置；根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板，因此可以在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

較佳地，所述根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板，具體包括：

針對任意一個待清洗的區(qū)域，根據(jù)確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量和該區(qū)域的位置，調(diào)節(jié)該區(qū)域?qū)?yīng)的紫外光源的照度和/或照射時間，得到所述確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量，清洗該區(qū)域。

較佳地，所述根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量，具體包括：

根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，以及預(yù)設(shè)的有機物殘留量與紫外光輻射量的第一對應(yīng)關(guān)系，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；其中，所述第一對應(yīng)關(guān)系表征紫外光輻射量與有機物殘留量成正比。

較佳地，所述檢測所述基板上任意一個區(qū)域的有機物殘留量，具體包括：

在所述基板上任意一個區(qū)域滴注至少一滴水滴；

檢測該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角，根據(jù)預(yù)設(shè)的接觸角與有機物殘留量的第二對應(yīng)關(guān)系，確認所述基板上該區(qū)域的有機物殘留量。

較佳地，所述基板上任意一個區(qū)域滴注有多滴水滴，所述檢測該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角，具體包括：

針對該區(qū)域的每一滴水滴，在垂直于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴在所述基板上的擴散半徑；在平行于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴的高度；根據(jù)所述水滴在所述基板上的擴散半徑和所述水滴的高度，確定所述水滴和所述基板表面的接觸角；

根據(jù)該區(qū)域的每一滴水滴和所述基板表面的接觸角，確定該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角的平均值，作為該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角。

通過該方法，將任意一個區(qū)域的水滴和基板表面的接觸角的平均值，作為該區(qū)域的水滴和基板表面的接觸角，這樣可以提高檢測的精確性，從而可以更好地在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

較佳地，所述在所述基板上任意一個區(qū)域滴注至少一滴水滴，具體包括：

采用微滴滴注的方式在所述基板上任意一個區(qū)域等量均勻的滴注至少一滴水滴。

由于滴注在基板上的水滴是等量均勻的，這樣測量的接觸角將更加精確，從而可以更好地在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

本申請實施例還提供了一種紫外光清洗基板的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：

檢測單元，用于將基板劃分為至少兩個區(qū)域，檢測所述基板上各個區(qū)域的有機物殘留量并確定各個區(qū)域的位置；

紫外光輻射量確定單元，用于根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；

紫外光清洗單元，用于根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板。

本申請實施例提供的紫外光清洗基板的系統(tǒng)，通過將基板劃分為至少兩個區(qū)域，檢測所述基板上各個區(qū)域的有機物殘留量并確定各個區(qū)域的位置；根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板，因此可以在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

較佳地，所述紫外光清洗單元具體用于：

針對任意一個待清洗的區(qū)域，根據(jù)確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量和該區(qū)域的位置，調(diào)節(jié)該區(qū)域?qū)?yīng)的紫外光源的照度和/或照射時間，得到所述確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量，清洗該區(qū)域。

較佳地，所述紫外光輻射量確定單元具體用于：

根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，以及預(yù)設(shè)的有機物殘留量與紫外光輻射量的第一對應(yīng)關(guān)系，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；其中，所述第一對應(yīng)關(guān)系表征紫外光輻射量與有機物殘留量成正比。

較佳地，所述檢測單元具體用于：

在所述基板上任意一個區(qū)域滴注至少一滴水滴；

檢測該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角，根據(jù)預(yù)設(shè)的接觸角與有機物殘留量的第二對應(yīng)關(guān)系，確認所述基板上該區(qū)域的有機物殘留量。

較佳地，所述基板上任意一個區(qū)域滴注有多滴水滴，所述檢測單元具體用于：

針對該區(qū)域的每一滴水滴，在垂直于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴在所述基板上的擴散半徑；在平行于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴的高度；根據(jù)所述水滴在所述基板上的擴散半徑和所述水滴的高度，確定所述水滴和所述基板表面的接觸角；

根據(jù)該區(qū)域的每一滴水滴和所述基板表面的接觸角，確定該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角的平均值，作為該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角。

由于檢測單元可以將任意一個區(qū)域的水滴和基板表面的接觸角的平均值，作為該區(qū)域的水滴和基板表面的接觸角，這樣可以提高檢測的精確性，從而可以更好地在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

較佳地，所述檢測單元包括：采用微滴滴注的方式等量均勻的滴注水滴的滴注器；該滴注器包括：氣缸，所述氣缸的一端設(shè)有噴嘴，另一端設(shè)有電機，所述氣缸中設(shè)置有活塞、所述電機與所述活塞通過傳動桿連接，所述電機可以帶動所述活塞在所述氣缸中運動。

由于滴注器滴注在基板上的水滴是等量均勻的，這樣測量的接觸角將更加精確，從而可以更好地在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

附圖說明

圖1為本申請實施例提供的一種紫外光清洗基板的方法的流程示意圖；

圖2為本申請實施例提供的紫外光清洗基板的方法中接觸角的測量原理圖；

圖3為本申請實施例提供的第一種紫外光清洗基板的系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本申請實施例提供的紫外光清洗基板的系統(tǒng)中滴注器的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本申請實施例提供的第二種紫外光清洗基板的系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本申請實施例提供的第三種紫外光清洗基板的系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本申請實施例提供的紫外光清洗基板的系統(tǒng)中檢測裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本申請實施例提供的紫外光清洗基板的系統(tǒng)中紫外光清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本申請實施例提供的紫外光清洗基板的整體流程示意圖。

具體實施方式

本申請實施例提供了一種紫外光清洗基板的方法及系統(tǒng)，用以在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

下面將結(jié)合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒旧暾堉械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本申請保護的范圍。

需要說明的是，本申請附圖中各器件的厚度和形狀不反映真實比例，目的只是示意說明本申請內(nèi)容。

參見圖1，本申請實施例提供的一種紫外光清洗基板的方法，包括如下步驟：

s101、將基板劃分為至少兩個區(qū)域，檢測所述基板上各個區(qū)域的有機物殘留量并確定各個區(qū)域的位置；

其中，上述的位置例如可以為區(qū)域的中心點坐標(biāo)，也可以為區(qū)域的左上角坐標(biāo)，而且標(biāo)注位置的方式不一定為坐標(biāo)，本申請實施例對此并不進行限定。

s102、根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；

s103、根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板。

本申請實施例提供的紫外光清洗基板的方法，將基板分成多個區(qū)域，針對每一個區(qū)域確定清洗該區(qū)域的紫外光輻射量，然后利用確定的紫外光輻射量清洗該區(qū)域，即使用剛好能清洗該區(qū)域的有機物的紫外光輻射量對該區(qū)域進行清洗，這樣既能有效去除黏附于基板表面的有機物，又不會損傷基板。

需要指出的是，基板劃分的區(qū)域數(shù)量可以根據(jù)實際情況進行設(shè)定，例如一塊基板可以劃分為上百個區(qū)域。每一個區(qū)域可以采用一個紫外光源進行清洗，采用的紫外光源的波長可以為223-245nm，也可以為120-223nm，當(dāng)然還可以為某一波長的紫外光，本申請實施例對此并不進行限定。

例如采用120-223nm波段的紫外光清洗基板，其清洗的基本原理為：紫外光源發(fā)射波長為120-223nm的光波，這些光波作用到基板表面時，由于大多數(shù)有機物對120-223nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，并在吸收120-223nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用，空氣中的氧氣分子在吸收了120-223nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和活性氧原子，臭氧對120-223nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為活性氧原子和氧氣，被分解的有機物與所生成的活性氧原子相結(jié)合，產(chǎn)生二氧化碳、水蒸氣等可揮發(fā)的氣體逸出基板表面，從而清除基板上的有機污染物。其它波長的紫外光的清洗原理相類似，在此不再贅述。

在一較佳實施方式中，上述步驟s101中檢測所述基板上任意一個區(qū)域的有機物殘留量，具體包括：

通過碳氫測定方法或接觸角測定方法檢測基板上任意一個區(qū)域的有機物殘留量。

上述通過碳氫測定方法檢測基板上任意一個區(qū)域的有機物殘留量，具體可以包括：

采用碳氫測量計測量基板上任意一個區(qū)域的碳含量，根據(jù)預(yù)設(shè)的碳含量與有機物殘留量的對應(yīng)關(guān)系，確認所述基板上該區(qū)域的有機物殘留量。

其中，預(yù)設(shè)的碳含量與有機物殘留量的對應(yīng)關(guān)系例如可以經(jīng)過有限次的實驗而得出。

上述通過接觸角測定方法檢測基板上任意一個區(qū)域的有機物殘留量，具體可以包括：

在基板上任意一個區(qū)域滴注至少一滴水滴；

檢測該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角，根據(jù)預(yù)設(shè)的接觸角與有機物殘留量的第二對應(yīng)關(guān)系，確認所述基板上該區(qū)域的有機物殘留量。

其中，第二對應(yīng)關(guān)系例如可以經(jīng)過有限次的實驗而得出。

下面介紹一下接觸角的測量原理，如圖2所示，基板1上的水滴2成半球形，水滴的高度為d，水滴在基板上的擴散半徑為r，水滴2的頂點與氣、液、固三相交點的連線與固-液交界線之間的夾角為α，接觸角θ的計算公式如公式(1)所示：

θ＝2α＝2arctg(d/r)(1)

基于上述的接觸角的測量原理，若測量時基板上任意一個區(qū)域滴注有一滴水滴，上述檢測該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角，具體可以包括：

在垂直于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴在所述基板上的擴散半徑；

在平行于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴的高度；

根據(jù)所述水滴在所述基板上的擴散半徑和所述水滴的高度，確定所述水滴和所述基板表面的接觸角。

若測量時基板上任意一個區(qū)域滴注有多滴水滴，所述檢測該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角，具體可以包括：

針對該區(qū)域的每一滴水滴，在垂直于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴在所述基板上的擴散半徑；在平行于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴的高度；根據(jù)所述水滴在所述基板上的擴散半徑和所述水滴的高度，確定所述水滴和所述基板表面的接觸角；

根據(jù)該區(qū)域的每一滴水滴和所述基板表面的接觸角，確定該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角的平均值，作為該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角。

通過該方法，將任意一個區(qū)域的水滴和基板表面的接觸角的平均值，作為該區(qū)域的水滴和基板表面的接觸角，這樣可以提高檢測的精確性，從而可以更好地在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

在一較佳實施方式中，上述在基板上任意一個區(qū)域滴注至少一滴水滴，具體可以包括：

采用微滴滴注的方式在所述基板上任意一個區(qū)域等量均勻的滴注至少一滴水滴。

在一較佳實施方式中，上述步驟s102中根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量，具體可以包括：

根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，以及預(yù)設(shè)的有機物殘留量與紫外光輻射量的第一對應(yīng)關(guān)系，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量。

其中，第一對應(yīng)關(guān)系表征紫外光輻射量與有機物殘留量成正比；該第一對應(yīng)關(guān)系例如可以經(jīng)過有限次的實驗而得出。

在一較佳實施方式中，上述步驟s103中根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板，具體可以包括：

針對任意一個待清洗的區(qū)域，根據(jù)確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量和該區(qū)域的位置，調(diào)節(jié)該區(qū)域?qū)?yīng)的紫外光源的照度和/或照射時間，得到所述確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量，清洗該區(qū)域。

例如：整塊基板的照射時間相同，通過控制每個區(qū)域?qū)?yīng)的紫外光源的照度，從而使得清洗每一個區(qū)域有機物的紫外光輻射量為確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量，這樣既能有效去除黏附于基板表面的有機物，又不會損傷基板。

在一較佳實施方式中，在滴注水滴測量接觸角之后，且在對基板進行清洗之前，該方法還包括：對滴注有水滴的基板進行干燥。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，參見圖3，本申請實施例還提供了一種紫外光清洗基板的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：

檢測單元11，用于將基板劃分為至少兩個區(qū)域，檢測所述基板上各個區(qū)域的有機物殘留量并確定各個區(qū)域的位置；

紫外光輻射量確定單元12，用于根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；

紫外光清洗單元13，用于根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板。

在一較佳實施方式中，檢測單元11具體用于：

通過碳氫測定方法或接觸角測定方法檢測基板上任意一個區(qū)域的有機物殘留量。

在一較佳實施方式中，檢測單元11具體用于：

在所述基板上任意一個區(qū)域滴注至少一滴水滴；

檢測該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角，根據(jù)預(yù)設(shè)的接觸角與有機物殘留量的第二對應(yīng)關(guān)系，確認所述基板上該區(qū)域的有機物殘留量。

其中，檢測單元11在基板上任意一個區(qū)域滴注水滴例如可以包括：檢測單元01通過滴注裝置(例如滴注器)，進行微滴注，在基板上任意一個區(qū)域滴注水滴。

滴注器利用活塞原理，采用微滴滴注的方式可以利用相同脈沖量等量均勻的進行液滴的滴注，如圖4所示，滴注器包括：氣缸41，氣缸41的一端設(shè)有噴嘴42，另一端設(shè)有電機43，氣缸41中設(shè)置有活塞44、電機43與活塞44通過傳動桿45連接，電機43可以帶動活塞44在氣缸41中運動。

在一較佳實施方式中，為了提高檢測的精確性，從而可以更好地在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板，所述基板上任意一個區(qū)域滴注有多滴水滴，檢測單元11具體用于：

針對該區(qū)域的每一滴水滴，在垂直于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴在所述基板上的擴散半徑；在平行于所述基板的方向上采集所述水滴的外形圖片，確定所述水滴的高度；根據(jù)所述水滴在所述基板上的擴散半徑和所述水滴的高度，確定所述水滴和所述基板表面的接觸角；

根據(jù)該區(qū)域的每一滴水滴和所述基板表面的接觸角，確定該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角的平均值，作為該區(qū)域的水滴和所述基板表面的接觸角。

其中，檢測單元11采集水滴的外形圖片例如可以包括：檢測單元01通過光學(xué)鏡頭(例如ccd傳感器鏡頭)對水滴拍照，獲取水滴的外形圖片。

在一較佳實施方式中，紫外光輻射量確定單元12具體用于：

根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，以及預(yù)設(shè)的有機物殘留量與紫外光輻射量的第一對應(yīng)關(guān)系，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；其中，所述第一對應(yīng)關(guān)系表征紫外光輻射量與有機物殘留量成正比。

在一較佳實施方式中，紫外光清洗單元13具體用于：

針對任意一個待清洗的區(qū)域，根據(jù)確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量和該區(qū)域的位置，調(diào)節(jié)該區(qū)域?qū)?yīng)的紫外光源的照度和/或照射時間，得到所述確定的清洗該區(qū)域的紫外光輻射量，清洗該區(qū)域。

在一較佳實施方式中，如圖5、圖6所示，本申請實施例提供的紫外光清洗基板的系統(tǒng)，包括：檢測裝置51和紫外光清洗裝置52。

如圖5所示，該系統(tǒng)可以是上述的檢測單元11、紫外光輻射量確定單元12設(shè)置在檢測裝置51中，紫外光清洗單元13設(shè)置在紫外光清洗裝置52中。

如圖6所示，該系統(tǒng)也可以是上述的檢測單元11設(shè)置在檢測裝置51中，紫外光輻射量確定單元12、紫外光清洗單元13設(shè)置在紫外光清洗裝置52中。

在一較佳實施方式中，如圖7所示，檢測裝置51(如圖7中虛線框所示)可以包括：滴注器71、ccd采集裝置72。其中，ccd采集裝置72可以包含一排ccd傳感器鏡頭，該一排ccd傳感器鏡頭可沿旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，可以運動到垂直于基板73和平行于基板73的方向上。

在一較佳實施方式中，如圖7所示，檢測裝置51還可以包括：單向純色光源74；該單向純色光源74用于照射水滴75以對ccd傳感器鏡頭進行補光，使得采集的水滴75的外形圖片更加清晰。

在一較佳實施方式中，如圖8所示，紫外光清洗裝置52可以包括多個紫外光源81，該多個紫外光源81呈陣列分布，一個紫外光源81用于清洗基板上一個區(qū)域的有機物。

接下來以接觸角測定方法為例，結(jié)合圖9說明利用本申請實施例提供的紫外光清洗基板的系統(tǒng)進行基板清洗的整體流程，其流程包括如下步驟：

s201、將基板劃分為至少兩個區(qū)域；

s202、采用滴注器在基板上滴注一排水滴；

s203、通過單向純色光源照射該一排水滴，并利用ccd采集裝置中一排ccd傳感器鏡頭中的每一個ccd傳感器鏡頭檢測該一排水滴中每一滴水滴與基板表面的接觸角，并確定該一排水滴中每一滴水滴所在區(qū)域的位置；

s204、判斷基板上的每一個區(qū)域是否都已滴注水滴，已確定每一滴水滴與基板表面的接觸角，以及已確定每一滴水滴所在區(qū)域的位置；若否，則返回步驟s202，否則執(zhí)行步驟s205；

重復(fù)步驟s202和s203直到基板上的每一個區(qū)域都已滴注水滴，并且已確定每一滴水滴與基板表面的接觸角，以及已確定每一滴水滴所在區(qū)域的位置。

s205、針對基板上每一個區(qū)域，ccd采集裝置根據(jù)該區(qū)域的每一滴水滴和基板表面的接觸角，確定該區(qū)域的水滴和基板表面的接觸角的平均值，作為該區(qū)域的水滴和基板表面的接觸角，并根據(jù)預(yù)設(shè)的接觸角與有機物殘留量的對應(yīng)關(guān)系，確認基板上該區(qū)域的有機物殘留量；

s206、ccd采集裝置將基板上各個區(qū)域的有機物殘留量和位置發(fā)送給紫外光清洗裝置；

s207、紫外光清洗裝置根據(jù)各個區(qū)域的有機物殘留量，以及預(yù)設(shè)的有機物殘留量與紫外光輻射量的對應(yīng)關(guān)系，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；其中，第一對應(yīng)關(guān)系表征紫外光輻射量與有機物殘留量成正比；

s208、紫外光清洗裝置根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，通過控制每一個區(qū)域?qū)?yīng)的紫外光源的照度，得到確定的清洗每一個區(qū)域的紫外光輻射量，清洗每一個區(qū)域。

綜上所述，本申請實施例提供的技術(shù)方案中，通過將基板劃分為至少兩個區(qū)域，檢測所述基板上各個區(qū)域的有機物殘留量并確定各個區(qū)域的位置；根據(jù)所述各個區(qū)域的有機物殘留量，確定清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量；根據(jù)確定的清洗各個區(qū)域的紫外光輻射量和各個區(qū)域的位置，清洗所述基板，因此可以在有效去除黏附于基板表面的有機物時不損傷基板。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本申請進行各種改動和變型而不脫離本申請的精神和范圍。這樣，倘若本申請的這些修改和變型屬于本申請權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本申請也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。