本實用新型涉及一種清洗裝置，尤其是一種電解錳片清洗裝置。

背景技術(shù)：

我國電解錳300 多萬噸產(chǎn)能，除少數(shù)幾家達到5 萬噸以上外，大部分均處于技術(shù)裝備、產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)規(guī)模的中下水平。其中70-75% 電解錳用于鋼鐵行業(yè)，目前依據(jù)我國電解金屬錳質(zhì)量標準：YBT051-2003，鋼鐵含硫、含磷越少鋼的品質(zhì)就越好，因為這兩樣元素會引起鋼的冷脆和熱脆，我國要生產(chǎn)好的鋼鐵，應從提高各增加組成質(zhì)量開始。

當電解錳片生產(chǎn)出來之后，目前采用手工用水槍集中清洗，因堆放問題，存在相互壓放的情況，清洗不徹底，特別是夏季，容易出現(xiàn)硫超標的情況，而在市場上，在鐵合金生產(chǎn)中S>0.03% 的電解錳片與S<0.02% 的電解錳片價差在200 元/ 噸，后者價格較高。

因此，如何提供一種電解錳片硫清洗裝置，以實現(xiàn)使電解錳片含硫量由0.035%±0.01% 下降至<0.015%，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實用新型的目的在于提供一種電解錳片清洗裝置，結(jié)構(gòu)簡單合理，操作方便，能有效降低電解錳片含硫量，從而提高生產(chǎn)效益。

本實用新型的技術(shù)方案為：一種電解錳片清洗裝置，包括承托臺、清洗裝置和傳送裝置，所述清洗裝置和傳送裝置設(shè)于所述承托臺上，所述承托臺的兩側(cè)為水平承托臺部且兩側(cè)水平承托臺部之間開設(shè)有一方形體凹槽，所述清洗裝置包括一清洗水槽，所述清洗水槽的底端嵌設(shè)于所述凹槽內(nèi)，所述清洗水槽的頂端開口且頂端開口與承托臺的上表面相平齊，所述清洗水槽的內(nèi)部腔體為四棱臺結(jié)構(gòu)，所述傳送裝置包括第一傳送裝置、第二傳送裝置和第三傳送裝置，所述第一傳送裝置、第二傳送裝置和第三傳送裝置均包括若干個滾筒、以及環(huán)繞設(shè)于若干個滾筒上的傳送帶，所述第一傳送裝置的若干個滾筒依次沿著水平承托臺部的兩端、以及清洗水槽內(nèi)部腔體表面的轉(zhuǎn)折端設(shè)置，所述傳送帶環(huán)繞設(shè)于第一傳送裝置的若干個滾筒上使傳送帶分為水平帶和傾斜帶，所述第二傳送裝置的若干個滾筒依次沿著清洗水槽內(nèi)部腔體表面的水平端設(shè)置，所述傳送帶環(huán)繞設(shè)于第二傳送裝置的若干個滾筒上使傳送帶分為水平帶，所述第三傳送裝置的若干個滾筒依次沿著清洗水槽內(nèi)部腔體表面的轉(zhuǎn)折端、以及水平承托臺部的兩端設(shè)置，所述傳送帶環(huán)繞設(shè)于第三傳送裝置的若干個滾筒上使傳送帶分為傾斜帶和水平帶。

優(yōu)選地，所述傳送帶的一端設(shè)有進料口。

優(yōu)選地，所述傳送帶上開設(shè)有防滑凹槽，所述防滑凹槽為淺口燕尾槽。

優(yōu)選地，所述清洗水槽內(nèi)沿著內(nèi)部腔體表面還設(shè)有多個斜向?qū)Я靼?，所述斜向?qū)Я靼宓膬A斜設(shè)置方向與傳送裝置的傳送裝置一致。

優(yōu)選地，所述第一傳送裝置的滾筒為三個，所述第二傳送裝置的滾筒為兩個，所述第三傳送裝置的滾筒為三個。

優(yōu)選地，所述第二傳送裝置的傳送帶位置設(shè)于第一傳送裝置的傳送帶位置的斜下方，所述第三傳送裝置的傳送帶位置設(shè)于第二傳送裝置的傳送帶位置的斜下方。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有如下有益效果：本實用新型的一種電解錳片清洗裝置，結(jié)構(gòu)簡單合理，操作方便，電解錳片通過傳送裝置傳送至水槽中，進行浸透清洗，清洗力度大且不浪費水資源，待清洗水槽內(nèi)清水污染到一定程度后換掉重裝清水即可；同時清洗水槽內(nèi)沿著內(nèi)部腔體設(shè)有多個導流板，導流板的傾斜方向設(shè)置為與傳送裝置的傳送裝置一致，如此水流在導流板的作用下能起到漩渦作用，對電解錳片含硫量再一次起到?jīng)_刷作用，從而大大降低了電解錳片含硫量，提高生產(chǎn)效益。

附圖說明

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖以及具體實施方式，對本實用新型做進一步說明。

如圖1所示，一種電解錳片清洗裝置，包括承托臺1、清洗裝置和傳送裝置3，清洗裝置和傳送裝置3設(shè)于承托臺1上。

具體的，承托臺1的兩側(cè)為水平承托臺部11且兩側(cè)水平承托臺部11之間開設(shè)有一方形體凹槽，清洗裝置包括一清洗水槽2，清洗水槽2的底端嵌設(shè)于凹槽內(nèi)，清洗水槽2的頂端開口且頂端開口與承托臺1的上表面相平齊，清洗水槽2的內(nèi)部腔體為四棱臺結(jié)構(gòu)。

傳送裝置3包括第一傳送裝置31、第二傳送裝置32和第三傳送裝置33。第一傳送裝置31、第二傳送裝置32和第三傳送裝置33均包括三個滾筒、以及環(huán)繞設(shè)于三個滾筒上的傳送帶，第一傳送裝置31的三個滾筒311依次沿著水平承托臺部的兩端、以及清洗水槽2內(nèi)部腔體表面的轉(zhuǎn)折端設(shè)置，如此傳送帶環(huán)繞設(shè)于第一傳送裝置31的若干個滾筒311上使傳送帶分為水平傳送帶312和傾斜傳送帶312。第二傳送裝置32的兩個滾筒321依次沿著清洗水槽2內(nèi)部腔體表面的水平端設(shè)置，如此傳送帶環(huán)繞設(shè)于第二傳送裝置32的若干個滾筒321上使傳送帶分為水平傳送帶帶322。第三傳送裝置33的三個滾筒332依次沿著清洗水槽2內(nèi)部腔體表面的轉(zhuǎn)折端、以及水平承托臺部的兩端設(shè)置，如此傳送帶環(huán)繞設(shè)于第三傳送裝置33的若干個滾筒332上使傳送帶分為傾斜傳送帶331和水平傳送帶331。

為了更好的傳送效果，第二傳送裝置32的傳送帶位置設(shè)于第一傳送裝置31的傳送帶位置的斜下方，以使電解錳片物料能很好地從第一傳送裝置31傳送至第二傳送裝置32；第三傳送裝置33的傳送帶位置設(shè)于第二傳送裝置32的傳送帶位置的斜下方，以使電解錳片物料能很好地從第二傳送裝置32傳送至第三傳送裝置33。

傳送帶的一端設(shè)有進料口。

為了防止電解錳片在梯形傳送帶上下滑，上述傳送帶上開設(shè)有防滑凹槽，防滑凹槽為淺口燕尾槽，防滑效果更加顯著。

清洗水槽2內(nèi)沿著內(nèi)部腔體表面還設(shè)有多個斜向?qū)Я靼?，斜向?qū)Я靼宓膬A斜設(shè)置方向與傳送裝置的傳送裝置一致。

上述的實施例僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，不能以此來限定本實用新型的權(quán)利范圍，因此，依本實用新型申請專利范圍所作的修改、等同變化、改進等，仍屬本實用新型所涵蓋的范圍。