內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)和方法
【專利說(shuō)明】
[0001] 相關(guān)申請(qǐng)參考
[0002] 參照名稱為"ENDOSCOPEREPROCESSINGASSEMBLYANDMETHODS"、2013 年 5 月 21日遞交的美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)No. 61/855,688以及名稱為"ENDOSCOPICREPROCESSING SYSTEMUTILIZINGNEGATIVEAIRPRESSURE"、2013 年 11 月 6 日遞交的美國(guó)臨時(shí)專利申 請(qǐng)No. 61/962, 383,它們?nèi)慕Y(jié)合在此引作參考并且它們的優(yōu)選權(quán)根據(jù)37CFR1. 78 (a) (4) and(5)⑴而要求。
[0003] 還參照申請(qǐng)人的以下的PCT專利申請(qǐng)，它們據(jù)信與本申請(qǐng)有關(guān)并且全文結(jié)合在此 引作參考：
[0004] W02005/074377 ；W02007/0 1 7854 ；W02007/1 35665 ；W02008/004228 ； W02008/142685 ;TO2009/122395 ;TO2010/046891 ;TO2010/137025 ;TO2011/111040 ;以及 W02014/068569〇
技術(shù)領(lǐng)域
[0005] 本發(fā)明涉及內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)和方法。
【背景技術(shù)】
[0006] 多種內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)和方法是已知的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 本發(fā)明旨在提供改進(jìn)的內(nèi)窺鏡再處理方法和系統(tǒng)。
[0008] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，因而提供了一種用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的 方法，所述方法包括以下步驟：在氣囊內(nèi)窺鏡的臨床使用之后將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至 負(fù)壓狀態(tài)；并且此后在對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理的至少一部分的過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持 在負(fù)壓的狀態(tài)中。
[0009] 優(yōu)選地，所述再處理包括清潔；并且所述在對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理的至少一部 分的過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài)中包括在所述清潔的至少一部分過(guò)程中將氣 囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài)中。附加地，所述清潔至少包括自動(dòng)化清潔；并且所述在對(duì)所述 氣囊內(nèi)窺鏡再處理的至少一部分的過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài)中包括在所述 自動(dòng)化清潔的至少一部分過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài)中。
[0010] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述再處理包括消毒；并且所述在對(duì)所述氣囊內(nèi) 窺鏡再處理的至少一部分的過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài)中包括在所述消毒的 至少一部分過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài)中。優(yōu)選地，所述清潔至少包括自動(dòng)化 消毒；并且所述在對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理的至少一部分的過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù) 壓的狀態(tài)中包括在所述自動(dòng)化消毒的至少一部分過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài) 中。
[0011] 優(yōu)選地，在氣囊的所述內(nèi)部與所述氣囊內(nèi)窺鏡的內(nèi)部體積之間存在流體連通；并 且所述在對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理的至少一部分的過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀 態(tài)中包括在再處理的所述至少一部分的過(guò)程中將所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積維持在 負(fù)壓狀態(tài)中。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，常閉泄漏檢測(cè)端口被設(shè)置，與所述氣囊內(nèi)窺鏡流 體連通；并且所述在再處理的所述至少一部分的過(guò)程中將所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積 維持在負(fù)壓狀態(tài)中包括通過(guò)所述泄漏檢測(cè)端口對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積抽氣。附 加地，所述通過(guò)所述泄漏檢測(cè)端口對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積抽氣包括：將負(fù)壓裝 置連接至所述泄漏檢測(cè)端口并操作所述負(fù)壓裝置以向所述內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積施加真 空；此后，將所述常閉泄漏檢測(cè)端口從所述負(fù)壓栗脫離連接；并且通過(guò)所述常閉泄漏檢測(cè) 端口維持所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積中的負(fù)壓。
[0013] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括 將所述氣囊抽氣至盡管在所述再處理過(guò)程中遭受溫度升高但足以維持所述氣囊的抽氣的 負(fù)壓。優(yōu)選地，所述將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括將所述氣囊抽氣至-5毫巴 至-300毫巴范圍內(nèi)的負(fù)壓。更加優(yōu)選地，所述將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括將 所述氣囊抽氣至-100毫巴至-250毫巴范圍內(nèi)的負(fù)壓。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所 述將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括將所述氣囊抽氣至低于-150毫巴的負(fù)壓。
[0014] 優(yōu)選地，所述將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括將所述氣囊抽氣至小于負(fù) 壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值在再處理過(guò)程中隨時(shí)間而變。附加地或替代性地，所述將氣囊 內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值 在所述再處理過(guò)程中作為所述氣囊內(nèi)窺鏡的溫度的函數(shù)而變。附加地或替代性地，所述將 氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓 閾值作為在所述再處理之前或過(guò)程中的特定時(shí)間所述氣囊內(nèi)部的測(cè)量的負(fù)壓的函數(shù)而變。
[0015] 優(yōu)選地，所述將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括將所述氣囊抽氣至小于負(fù) 壓閾值PT(t)的負(fù)壓，其中：
[0016] PT(t) =F(Tt，T0，P0)，
[0017] 其中：
[0018] Tt是在時(shí)間t所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0019] T0是在初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的溫度；并且
[0020] P0是在所述初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的所述氣囊的所述內(nèi)部的壓力。
[0021] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓狀態(tài)包括將 所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值PT(t)的負(fù)壓，其中：
[0022] PF(t) =Fl(Tt,TO,P0)+F2(t-t0)
[0023] 其中：
[0024] Tt是在時(shí)間t所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0025] T0是在初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0026] P0是在所述初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的所述氣囊的所述內(nèi)部的壓力；并且
[0027] F2是從時(shí)間t0至t流逝的時(shí)間的函數(shù)。
[0028] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，，F(xiàn)1 = (Tt/ΤΟ) ·P0,其中，Tt和T0以K氏溫度 被測(cè)量，P0以高于用于PT(t)的零壓力的絕對(duì)壓力單位被測(cè)量。附加地或替代性地，F(xiàn)2 = K· (t-to)，其中，K是常數(shù)，表示壓力隨時(shí)間的變化。優(yōu)選地，K是在0. 01至0. 20毫巴每秒 的范圍內(nèi)。更加優(yōu)選地，Κ是在0. 02至0. 10毫巴每秒的范圍內(nèi)。
[0029] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的方法在將所述氣 囊抽氣至所述負(fù)壓狀態(tài)之前還包括以下步驟：在所述氣囊的臨床使用之后將所述氣囊充氣 至正壓的狀態(tài)；以及在所述氣囊處于所述正壓的狀態(tài)時(shí)清潔所述氣囊
[0030] 根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，包括：氣 囊內(nèi)窺鏡，其包含具有內(nèi)部體積的氣囊以及與所述氣囊的所述內(nèi)部體積連通的閥；氣囊抽 氣控制功能模塊，其經(jīng)由所述閥與所述氣囊的所述內(nèi)部體積連通并且操作成使得所述內(nèi)部 體積處于負(fù)壓狀態(tài)中；以及氣囊內(nèi)窺鏡再處理功能模塊，用于在所述氣囊的所述內(nèi)部體積 維持在負(fù)壓狀態(tài)中時(shí)接收所述氣囊內(nèi)窺鏡并對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行清潔和消毒中的至少 一個(gè)。
[0031 ] 優(yōu)選地，所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理功能模塊包括自動(dòng)化內(nèi)窺鏡再處理功能模塊。
[0032] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，在氣囊的所述內(nèi)部與所述氣囊內(nèi)窺鏡的內(nèi)部體積 之間存在流體連通；并且所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積在再處理的所述至少一部分的過(guò) 程中通過(guò)所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理功能模塊被維持在負(fù)壓的狀態(tài)中。附加地，所述閥包括與 所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積流體連通的常閉的泄漏檢測(cè)端口；并且所述氣囊抽氣控制 功能模塊在再處理的至少一部分的過(guò)程中通過(guò)以下方式將所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體 積維持在所述負(fù)壓狀態(tài)中，所述方式為通過(guò)所述泄漏檢測(cè)端口對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi) 部體積進(jìn)行抽氣。
[0033] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽 氣至盡管在所述再處理過(guò)程中遭受溫度升高但足以維持所述氣囊的抽氣的負(fù)壓。優(yōu)選地， 所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至-5毫巴至-300毫巴范圍內(nèi)的負(fù)壓。 更加優(yōu)選地，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至-100毫巴至-250毫巴 范圍內(nèi)的負(fù)壓。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述 氣囊抽氣至低于-150毫巴的負(fù)壓。
[0034] 優(yōu)選地，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù) 壓，所述負(fù)壓閾值在再處理過(guò)程中隨時(shí)間而變。附加地或替代性地，所述氣囊抽氣控制功能 模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值在所述再處理過(guò)程中作 為所述氣囊內(nèi)窺鏡的溫度的函數(shù)而變。附加地或替代性地，所述氣囊抽氣控制功能模塊操 作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值作為在所述再處理之前或過(guò)程 中的特定時(shí)間所述氣囊內(nèi)部的測(cè)量的負(fù)壓的函數(shù)而變。
[0035] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽 氣至小于負(fù)壓閾值PT(t)的負(fù)壓，其中：
[0036] PT(t) =F(Tt，T0，P0)，
[0037] 其中：
[0038] Tt是在時(shí)間t所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0039] T0是在初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的溫度；并且
[0040] P0是在所述初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的所述氣囊的所述內(nèi)部的壓力。
[0041] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽 氣至小于負(fù)壓閾值PT(t)的負(fù)壓，其中：
[0042] PF(t) =Fl(Tt,TO,P0)+F2(t-t0)
[0043] 其中：
[0044] Tt是在時(shí)間t所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0045] T0是在初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0046] P0是在所述初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的所述氣囊的所述內(nèi)部的壓力；并且
[0047] F2是從時(shí)間t0至t流逝的時(shí)間的函數(shù)。
[0048] 優(yōu)選地，F(xiàn)l= (Tt/??) ·Ρ0,其中，Tt和T0以K氏溫度被測(cè)量，P0以高于用于PT(t) 的零壓力的絕對(duì)壓力單位被測(cè)量。附加地或替代性地，F(xiàn)2 =K· (t-t0)，其中，K是常數(shù)，表 示壓力隨時(shí)間的變化。優(yōu)選地，K是在0.01至0.20毫巴每秒的范圍內(nèi)。更加優(yōu)選地，K是 在0. 02至0. 10毫巴每秒的范圍內(nèi)。
[0049] 根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，包括：自 動(dòng)化氣囊內(nèi)窺鏡再處理功能模塊，用于接收氣囊內(nèi)窺鏡以及用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行清潔和 消毒中的至少一個(gè)；以及氣囊抽氣控制功能模塊，其操作成在所述自動(dòng)化氣囊內(nèi)窺鏡再處 理功能模塊的操作的至少一部分過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部體積維持在負(fù)壓狀態(tài)中。
[0050] 優(yōu)選地，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成在所述自動(dòng)化氣囊內(nèi)窺鏡再處理功能 模塊的所有操作的過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài)中。
[0051] 根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，在氣囊的所述內(nèi)部與所述氣囊內(nèi)窺鏡的內(nèi)部體 積之間存在流體連通；并且所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積在再處理的所述至少一部分的 過(guò)程中通過(guò)所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理功能模塊被維持在負(fù)壓的狀態(tài)中。附加地，所述閥包括 與所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積流體連通的常閉的泄漏檢測(cè)端口；并且所述氣囊抽氣控 制功能模塊在再處理的至少一部分的過(guò)程中通過(guò)以下方式將所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部 體積維持在所述負(fù)壓狀態(tài)中，所述方式為通過(guò)所述泄漏檢測(cè)端口對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述 內(nèi)部體積進(jìn)行抽氣。
[0052] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽 氣至盡管在所述再處理過(guò)程中遭受溫度升高但足以維持所述氣囊的抽氣的負(fù)壓。優(yōu)選地， 所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至-5毫巴至-300毫巴范圍內(nèi)的負(fù)壓。 更加優(yōu)選地，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至-100毫巴至-250毫巴 范圍內(nèi)的負(fù)壓。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述 氣囊抽氣至低于-150毫巴的負(fù)壓。
[0053] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽 氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值在再處理過(guò)程中隨時(shí)間而變。附加地或替代性地， 所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值 在所述再處理過(guò)程中作為所述氣囊內(nèi)窺鏡的溫度的函數(shù)而變。附加地或替代性地，所述氣 囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值作為在 所述再處理之前或過(guò)程中的特定時(shí)間所述氣囊內(nèi)部的測(cè)量的負(fù)壓的函數(shù)而變。
[0054] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽 氣至小于負(fù)壓閾值PT(t)的負(fù)壓，其中：
[0055] PT(t) =F(Tt，T0，P0)，
[0056] 其中：
[0057] Tt是在時(shí)間t所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0058] T0是在初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的溫度；并且
[0059] P0是在所述初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的所述氣囊的所述內(nèi)部的壓力。
[0060] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述氣囊抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽 氣至小于負(fù)壓閾值PT(t)的負(fù)壓，其中：
[0061] PF(t) =Fl(Tt,TO,P0)+F2(t-t0)
[0062] 其中：
[0063] Tt是在時(shí)間t所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0064] T0是在初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的溫度；
[0065] P0是在所述初始時(shí)間t0所述內(nèi)窺鏡的所述氣囊的所述內(nèi)部的壓力；并且
[0066] F2是從時(shí)間t0至t流逝的時(shí)間的函數(shù)。
[0067] 優(yōu)選地，F(xiàn)l= (Tt/ΤΟ) ·Ρ0,其中，Tt和T0以K氏溫度被測(cè)量，P0以高于用于PT(t) 的零壓力的絕對(duì)壓力單位被測(cè)量。附加地或替代性地，F(xiàn)2 =K· (t-t0)，其中，K是常數(shù)，表 示壓力隨時(shí)間的變化。優(yōu)選地，K是在0.01至0.20毫巴每秒的范圍內(nèi)。更加優(yōu)選地，K是 在0. 02至0. 10毫巴每秒的范圍內(nèi)。
[0068] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)還包括負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能 模塊，其操作成在再處理過(guò)程中檢測(cè)處于負(fù)壓下的所述氣囊內(nèi)窺鏡的泄漏。
[0069] 優(yōu)選地，所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊被構(gòu)造成連接至內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口，以 便感測(cè)處于負(fù)壓下的所述內(nèi)窺鏡的泄漏，并且所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊包括指示器，所 述指示器對(duì)所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊的操作做出響應(yīng)而操作，以便指示所述內(nèi)窺鏡中的 泄漏的存在或缺失。附加地或替代性地，所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊操作成在所述再處理 的過(guò)程中在多個(gè)時(shí)間感測(cè)泄漏。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述多個(gè)時(shí)間周期性出現(xiàn)。 替代性地，所述多個(gè)時(shí)間彼此前后緊接地出現(xiàn)。
[0070] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)還包括非氣囊內(nèi)窺鏡再處 理功能t旲塊。
[0071] 優(yōu)選地，氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)還包括操作者選擇界面裝置，允許操作者選擇適 于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的功能模塊或者適于對(duì)非氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的功能模塊。
[0072] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊操作成在所述內(nèi)窺鏡 的所述內(nèi)部體積處于這樣的負(fù)壓時(shí)執(zhí)行泄漏檢測(cè)，該負(fù)壓不同于泄漏檢測(cè)未執(zhí)行時(shí)再處理 過(guò)程中的所述內(nèi)窺鏡的內(nèi)部體積的負(fù)壓。附加地，所述泄漏檢測(cè)過(guò)程中的所述內(nèi)窺鏡的所 述內(nèi)部體積的所述負(fù)壓是處于比泄漏檢測(cè)未執(zhí)行時(shí)再處理過(guò)程中的所述內(nèi)窺鏡的所述內(nèi) 部體積的所述負(fù)壓更強(qiáng)的真空。
[0073] 根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種用于與具有泄漏檢測(cè)端口的內(nèi)窺 鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，所述泄漏檢測(cè)裝置包括：負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊，其被構(gòu)造成連接 至內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口，以便感測(cè)處于負(fù)壓下的所述內(nèi)窺鏡的泄漏；以及指示器，所述指 示器對(duì)所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊的操作做出響應(yīng)而操作，以便指示所述內(nèi)窺鏡中的泄漏 的存在或缺失。
[0074] 優(yōu)選地，所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊操作成在所述負(fù)壓處于_5毫巴至-300毫巴 的范圍內(nèi)時(shí)執(zhí)行所