清潔裝置的制造方法
【專利說明】:主.;士駐罷 /目/口衣直
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002]根據(jù)35U.S.C§119(e)，本申請要求于2012年12月7日提交的臨時專利申請序號61/734479的優(yōu)先權(quán)，其內(nèi)容通過引用合并于此。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003]—方面，本發(fā)明涉及一種清潔裝置。又一方面，本發(fā)明涉及一種包括該清潔系統(tǒng)的輻射源模塊。另一方面，本發(fā)明涉及一種去除輻射源組件外表面的污垢物質(zhì)的方法。在閱覽本說明書的基礎(chǔ)上，本發(fā)明的其他方面對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說將是顯而易見的。
【背景技術(shù)】
[0004]流體處理系統(tǒng)在本領(lǐng)域內(nèi)是眾所周知的。
[0005]例如，美國專利4482809、4872980和5006244[均在Maarschalkerweerd名下，接下來被稱為Maarschalkerweerd#l專利]均描述了采用紫外線(UV)福射的重力饋送式流體處理系統(tǒng)。
[0006]這種系統(tǒng)包括UV燈框架陣列，UV燈框架陣列包括若干個UV燈，每個UV燈都安裝在套筒內(nèi)，套筒在附接到橫梁上的一對腿部之間延伸并由其支撐。受到如此支撐的套筒(包括UV燈)浸在待處理流體內(nèi)，該流體隨后按照需要進行輻射。流體受到的輻射量由流體與燈的接近度、燈的輸出瓦數(shù)和流體經(jīng)過燈的流速確定。通常來說，可采用一個或多個UV傳感器來監(jiān)測燈的UV輸出并且通常通過液位閘門等在處理裝置下游將液位控制到某種程度。
[0007]取決于正在處理的流體品質(zhì)，包圍UV燈的套筒階段性地受到外部物質(zhì)污染，從而抑制其將UV輻射傳遞至流體的能力。對于指定裝置而言，這種污染的出現(xiàn)可以根據(jù)歷史運行數(shù)據(jù)或者UV傳感器的測量值確定。一旦污垢已經(jīng)達到某一點，套筒必須進行清洗以去除污垢物質(zhì)并優(yōu)化系統(tǒng)性能。
[0008]如果UV燈模塊用在開放通道系統(tǒng)(例如，諸如Maarschalkerweerd#l專利中描述并且圖示的那種)，一個或多個模塊可在系統(tǒng)繼續(xù)運行時移除，移除的框架可浸在合適的清洗溶液(例如弱酸)的池內(nèi)，該清洗溶液可被空氣攪拌以去除污垢物質(zhì)。這種操作被本領(lǐng)域內(nèi)的許多技術(shù)人員認(rèn)為是低效、費力且麻煩的。
[0009]多數(shù)情況下，一旦安裝，與現(xiàn)有技術(shù)流體處理系統(tǒng)有關(guān)的、最大的保養(yǎng)費用之一往往是清洗輻射源周圍的套筒的費用。
[0010]美國專利5418370、5539210和 RE36896[均在 Maarschalkerweerd 名下，接下來被稱為Maarschalkerweerd#2專利]均描述了一種改進的清潔系統(tǒng)，特別有利于用在采用UV福射的重力饋送式流體處理系統(tǒng)中?？偟膩碚f，清潔系統(tǒng)包括清潔托架，清潔托架接合輻射源組件外部的部分，該輻射源組件包括輻射源(例如UV燈)。該清潔托架可在(i)縮回位置和(ii)伸出位置之間運動，在縮回位置輻射源組件的第一部分暴露于待處理流體流中，而在伸出位置輻射源組件的第一部分完全或者部分被清潔托架蓋住。清潔托架包括與輻射源組件的第一部分接觸的腔室。該腔室供給有適于從輻射源組件的第一部分去除不希望物質(zhì)的清潔溶液。
[0011 ] Maarschalkerweerd#2專利中描述的清潔系統(tǒng)代表了本領(lǐng)域內(nèi)的重大進步，尤其是在這些專利中圖示的輻射源模塊和流體處理系統(tǒng)中實施時。然而，圖示清潔系統(tǒng)在諸如Maarschalkerweerd#l專利中圖示的那種流體處理模塊中的實施是有問題的。
[0012]該問題已被美國專利6342188[?631^67等人(？631^6}0 ]解決。Pearcey教導(dǎo)使用無桿缸作為清潔系統(tǒng)(例如Maarshalkerweerd#2專利教導(dǎo)的那種系統(tǒng)或者其他清潔系統(tǒng))的驅(qū)動機構(gòu)。在圖示實施例中，Pearcey教導(dǎo)使用液壓/氣動系統(tǒng)(例如Pearcey的圖6)或者螺桿驅(qū)動(Pearcey的圖9)來運動包含在無桿缸中的活塞。該活塞磁性連接到位于無桿缸外部的可滑動元件?？苫瑒釉B接到包含一個或多個清潔環(huán)的清潔托架。因此，一旦活塞在無桿缸內(nèi)運動，可滑動元件/清潔托架相應(yīng)地運動。
[0013]Pearcey教導(dǎo)的液壓/氣動系統(tǒng)是有問題的。在這些系統(tǒng)的實施過程中，主要(centrally)用在流體處理系統(tǒng)中的液壓栗或者空氣壓縮機也用來驅(qū)動無桿缸。高壓供給通過使用歧管和到歧管的管道傳遞至無桿缸。不巧地，管道、歧管及它們相關(guān)的配件易于隨著時間產(chǎn)生泄漏，造成壓降，并且在液壓栗的情形下，造成來自溢出液壓流體的環(huán)境影響(concern)。氣動方法(使用空氣壓縮機)是有問題的，因為其未向無桿缸提供恒定的力。特別是，由于空氣是可壓縮的，如果在操作期間系統(tǒng)卡死導(dǎo)致缸體的猛烈停止和起動，壓力會積聚。此外，這種液壓/氣動系統(tǒng)制造和維護成本較高。
[0014]出于這些原因，研究Pearcey教導(dǎo)的螺桿驅(qū)動系統(tǒng)。使用這種系統(tǒng)總的來說克服了與液壓/氣動系統(tǒng)有關(guān)的上述問題。然而，產(chǎn)生了不同的問題。特別是，在Pearcey教導(dǎo)的螺桿驅(qū)動系統(tǒng)實施過程中，聯(lián)接螺母被用來嚙合螺桿驅(qū)動。當(dāng)使用聯(lián)接螺母并且螺桿驅(qū)動被致動時，聯(lián)接螺母將隨著螺桿驅(qū)動的螺桿轉(zhuǎn)動。如果用鍵來固定聯(lián)接螺母，鍵需要與無桿缸一樣長一考慮到無桿缸內(nèi)部的實際空間限制，這不是實用解決方案。Pearcey還教導(dǎo)一種封閉螺桿驅(qū)動，因此其不會暴露于碎肩中，意味著其不會受到粘結(jié)和由此產(chǎn)生的損壞。
[0015]因此，希望有一種針對與實施非液壓/氣動驅(qū)動元件，例如Pearcey教導(dǎo)的螺桿驅(qū)動系統(tǒng)有關(guān)的問題的解決方案。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0016]本發(fā)明的目的是消除或者減輕現(xiàn)有技術(shù)中至少一個上述缺點。
[0017]本發(fā)明的另一個目的是提供一種新穎的清潔裝置。
[0018]因此，一方面，本發(fā)明提供一種用于流體處理系統(tǒng)中輻射源組件的清潔裝置，該清潔系統(tǒng)包括:
[0019]清潔托架，其包括與輻射源組件的外部的至少部分接觸的至少一個清潔元件；
[0020]無桿缸，其包括具有縱向軸線的伸長外殼；
[0021]可滑動元件，其置于伸長外殼的外表面上，該可滑動元件(i)連接到清潔托架;并且(ii)磁性連接到置于伸長外殼內(nèi)、包括摩擦改性元件的驅(qū)動元件，該摩擦改性元件與伸長外殼的內(nèi)表面接觸以限定繞縱向軸線的旋轉(zhuǎn)方向的第一摩擦阻力以及沿縱向軸線的軸向方向的第二摩擦阻力，該摩擦改性元件配置成使第一摩擦阻力大于第二摩擦阻力；以及
[0022]伸長活動元件，其連接到驅(qū)動元件。
[0023]另一方面，本發(fā)明提供一種包括清潔裝置的輻射源模塊。
[0024]又一方面，本發(fā)明提供一種包括輻射源模塊的流體處理系統(tǒng)。
[0025]因此，本發(fā)明人發(fā)明了一種新穎的清潔裝置，其克服了與諸如Pearcey教導(dǎo)的螺桿驅(qū)動元件的非液壓/氣動驅(qū)動元件的實施有關(guān)的上述問題。該問題通過引入所謂的“摩擦改性元件”的驅(qū)動元件而得到解決，該摩擦改性元件與無桿缸的伸長外殼的內(nèi)表面接觸。
[0026]在優(yōu)選實施方式中，本清潔裝置中的摩擦改性元件可包括曲面(無桿缸伸長外殼的內(nèi)部部分)、滾子元件和斜面(優(yōu)選位于接下來詳細描述的環(huán)形元件上)。滾子元件置于斜面和曲面之間，從而在其被驅(qū)趕到由曲面和斜面組合形成的楔形孔內(nèi)時產(chǎn)生摩擦力。摩擦力的產(chǎn)生基本阻止了驅(qū)動元件繞無桿缸伸長外殼的縱向軸線的轉(zhuǎn)動。更確切地，驅(qū)動元件沿?zé)o桿缸伸長外殼的縱向軸線的運動變得更加方便。
[0027]在本清潔裝置的優(yōu)選實施方式中，用于無桿缸伸長外殼、滾子元件和環(huán)形元件(包括斜