試劑的投加量和反應條件。經(jīng)過一級還原反應后的涂層廢液進入二級還原槽2進行二級還原反應，二級還原槽2中的第二氧化還原電位儀82和第二 pH監(jiān)控儀92同樣用于控制二級還原反應試劑的投加量和反應條件。經(jīng)過二級還原反應后的涂層廢液進入一級中和槽3進行一級中和反應，一級中和槽3中的第三pH監(jiān)控儀93用于控制一級中和試劑的投加量。經(jīng)過一級中和反應后的涂層廢液進入二級中和槽4進行二級中和反應，二級中和槽4中的第四pH監(jiān)控儀94用于控制二級中和試劑的投加量，二級中和槽4中的第三氧化還原電位儀84用于測定涂層廢液的電位。經(jīng)過二級中和反應后的涂層廢液進入沉淀箱5沉淀，從而，涂層廢液中的Cr6+轉變?yōu)镃r(OH) 3沉淀。沉淀后的涂層廢液經(jīng)活性炭吸附罐6吸附，最終，通過活性炭吸附罐6中的出水管排出，排出的涂層廢液能夠滿足排放標準:Cr6+〈0.05mg/L、總鉻<0.lmg/L。
[0029]本申請在一級還原槽1中還設置有一還原劑投加管、一鹽酸投加管和一攪拌機，分別為第一還原劑投加管101、第一鹽酸投加管111和第一攪拌機71，通過第一還原劑投加管101加入亞硫酸氫鈉，通過第二鹽酸投加管111加入稀鹽酸，并利用第一攪拌機71進行攪拌，以進行一級還原反應。在二級還原槽2中還設置有一還原劑投加管、一鹽酸投加管和一攪拌機，分別為第二還原劑投加管102、第二鹽酸投加管112和第二攪拌機72，同樣，通過第二還原劑投加管102加入亞硫酸氫鈉，通過第二鹽酸投加管112加入稀鹽酸，并利用第二攪拌機72進行攪拌，以進行二級還原反應。
[0030]本申請在一級中和槽3中還設置有一中和劑投加管和一攪拌機，分別為第一中和劑投加管123和第三攪拌機73，通過第一中和劑投加管123加入石灰液，并利用第三攪拌機73進行攪拌，以進行一級中和反應。在二級中和槽4中還設置有一中和劑投加管和一攪拌機，分別為第二中和劑投加管124，和第四攪拌機74，同樣，通過第二中和劑投加管124加入石灰液，并利用第四攪拌機74進行攪拌，以進行二級中和反應。
[0031]本申請在沉淀箱5中還設置有一絮凝劑投加管13和一攪拌機，即，第五攪拌機75，通過絮凝劑投加管13加入絮凝劑后，利用第五攪拌機75進行攪拌，使Cr6+轉變?yōu)镃r (0H) 3沉淀。
[0032]本實用新型實施例中的一個或多個技術方案，至少具有如下技術效果或優(yōu)點:
[0033]通過增加二級還原槽、二級中和槽和活性炭吸附罐，對涂層廢液進行兩級還原和兩級中和，并利用活性炭吸附罐進行吸附，大大地降低了涂層廢液中六價鉻的濃度，使得涂層廢液中六價絡的濃度遠小于0.5mg/L，滿足排放標準:Cr6+〈0.05mg/L、總絡〈0.lmg/L ；
[0034]進一步，通過攪拌機對包含有反應試劑的涂層廢液進行攪拌，使得各物質(zhì)之間能夠充分反應，以進一步降低涂層廢液中的六價鉻的濃度。
[0035]盡管已描述了本實用新型的優(yōu)選實施例，但本領域內(nèi)的技術人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本實用新型范圍的所有變更和修改。
[0036]顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其等同技術的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權項】
1.一種涂層廢液處理裝置，其特征在于，包括一級還原槽、二級還原槽、一級中和槽、二級中和槽、沉淀箱、活性炭吸附罐、三個氧化還原電位儀和四個pH監(jiān)控儀； 所述一級還原槽、所述二級還原槽、所述一級中和槽、所述二級中和槽、所述沉淀箱和所述活性炭吸附罐順次相連； 在所述一級還原槽、所述二級還原槽和所述二級中和槽中分別設置一所述氧化還原電位儀； 在所述一級還原槽、所述二級還原槽、所述一級中和槽和所述二級中和槽中分別設置一所述pH監(jiān)控儀。2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括五個攪拌機； 在所述一級還原槽、所述二級還原槽、所述一級中和槽、所述二級中和槽和所述沉淀箱中分別設置一所述攪拌機。3.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括兩個還原劑投加管； 在所述一級還原槽和所述二級還原槽中分別設置一所述還原劑投加管。4.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括兩個鹽酸投加管； 在所述一級還原槽和所述二級還原槽中分別設置一所述鹽酸投加管。5.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括兩個中和劑投加管； 在所述一級中和槽和所述二級中和槽中分別設置一所述中和劑投加管。6.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括絮凝劑投加管； 所述絮凝劑投加管設置于所述沉淀箱中。
【專利摘要】本實用新型涉及廢液處理技術領域，尤其涉及一種涂層廢液處理裝置，包括一級還原槽、二級還原槽、一級中和槽、二級中和槽、沉淀箱、活性炭吸附罐、三個氧化還原電位儀和四個pH監(jiān)控儀；所述一級還原槽、所述二級還原槽、所述一級中和槽、所述二級中和槽、所述沉淀箱和所述活性炭吸附罐順次相連；在所述一級還原槽、所述二級還原槽和所述二級中和槽中分別設置一所述氧化還原電位儀；在所述一級還原槽、所述二級還原槽、所述一級中和槽和所述二級中和槽中分別設置一所述pH監(jiān)控儀。本實用新型對涂層廢液進行兩級還原和兩級中和，并利用活性炭吸附罐進行吸附，大大地降低了涂層廢液中六價鉻的濃度，使得涂層廢液中六價鉻的濃度滿足排放標準。
【IPC分類】C02F101/22, C02F103/16, C02F9/04
【公開號】CN204958606
【申請?zhí)枴緾N201520700636
【發(fā)明人】雷仲存, 高明
【申請人】北京首鋼股份有限公司
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2015年9月10日