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      清洗裝置的制造方法

      文檔序號:10065292閱讀:441來源:國知局
      清洗裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本實用新型涉及材料的清洗技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種清洗裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 目前,工業(yè)上的用于小工件、砂石等待洗物的清洗裝置一般是利用擦洗法的原理 進(jìn)行清除待洗物表面的污物,即待洗物進(jìn)入清洗裝置內(nèi),電機(jī)帶動葉輪在清洗裝置內(nèi)旋轉(zhuǎn) 而將待洗物攪拌,使待洗物之間、待洗物與葉輪之間、以及待洗物與清洗裝置的內(nèi)壁之間相 互碰撞摩擦,以將待洗物表面附著的污物除去,而達(dá)到清洗目的。但是當(dāng)清洗裝置內(nèi)的待洗 物較多時,葉輪較難將待洗物攪拌均勻,從而使得部分待洗物因得不到充分?jǐn)嚢瓒逑床?到位現(xiàn)象的發(fā)生。 【實用新型內(nèi)容】
      [0003] 本實用新型的主要目的是提供一種清洗裝置,旨在提高待洗物的清洗效果。
      [0004] 為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提出的清洗裝置包括支架、低頻超聲波振板以及高 頻超聲波振板,所述支架包括底板、自所述底板相背離的兩側(cè)朝同一方向延伸出的兩側(cè)板、 以及與所述底板平行設(shè)置并蓋設(shè)于所述側(cè)板上的頂板,所述底板、兩所述側(cè)板以及所述頂 板相互圍合成具有進(jìn)料端和出料端的清洗通道,所述進(jìn)料端的水平位置高于所述出料端的 水平位置;所述支架上設(shè)有靠近所述出料端設(shè)置的進(jìn)水口以及靠近所述進(jìn)料端設(shè)置的出水 口;所述低頻超聲波振板設(shè)于所述底板上,所述高頻超聲波振板設(shè)于所述頂板上。
      [0005] 優(yōu)選地,所述高頻超聲波振板在所述低頻超聲波振板上的正投影落在所述低頻超 聲波振板的外邊緣內(nèi)。
      [0006] 優(yōu)選地,所述支架的遠(yuǎn)離所述進(jìn)料端的一端形成有縮口,所述縮口為所述出料端。
      [0007] 優(yōu)選地,所述底板的靠近所述進(jìn)料端的一端設(shè)有與所述出水口連通的溢流槽,所 述溢流槽從其中一所述側(cè)板朝另一所述側(cè)板方向延伸。
      [0008] 優(yōu)選地,所述溢流槽設(shè)于所述低頻超聲波振板在所述底板上投影的邊緣外。
      [0009] 優(yōu)選地,所述清洗裝置還包括設(shè)置在所述清洗通道內(nèi)的并用于噴射氣泡的曝氣 管,所述曝氣管設(shè)于所述頂板上。
      [0010] 優(yōu)選地,所述曝氣管設(shè)于所述高頻超聲波振板的靠近所述出料端的一端,所述曝 氣管垂直于所述進(jìn)料端與所述出料端的連通方向設(shè)置,所述曝氣管上設(shè)有用于噴射氣泡的 通孔,所述通孔朝向所述進(jìn)料端方向設(shè)置。
      [0011] 優(yōu)選地,所述清洗裝置還包括設(shè)置在所述支架上并用于變換所述支架相對于水平 面的傾斜角度的伸縮裝置。
      [0012] 優(yōu)選地,所述清洗裝置還包括設(shè)置在所述出料端處,并用于輸送清洗后的待洗物 的螺旋提升機(jī)。
      [0013] 本實用新型技術(shù)方案在清洗通道的底板設(shè)置低頻超聲波振板,頂板設(shè)置高頻超聲 波振板,低頻超聲波振板產(chǎn)生的振動使待洗物被彈起,而不貼附于底板,并懸浮于水流中; 高頻超聲波振板產(chǎn)生的超聲波則對待洗物進(jìn)行清洗,以去除待洗物表面的污染物,去除后 的污染物隨水流排出。因待洗物懸浮于水中,因此可保證待洗物各處得到更加充分清洗,避 免了待洗物與底板接觸的位置清洗不到位情況的發(fā)生。此外,因待洗物依靠自重從上往下 運動,而水流從下往上流動,水流的向上流動既可降低自身流動速度,也可降低待洗物運動 速度,增加與待洗物的接觸時間,保證待洗物得到充分的沖洗。
      【附圖說明】
      [0014] 圖1為本實用新型清洗裝置一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0015] 圖2為圖1中A處的局部放大圖。
      [0016] 附圖標(biāo)號說明:
      [0019] 本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例,參照附圖做進(jìn)一步說明。
      【具體實施方式】
      [0020] 下面結(jié)合附圖及具體實施例就本實用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步的說明。應(yīng)當(dāng)理 解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
      [0021] 本實用新型提出一種清洗裝置。
      [0022] 在本實用新型實施例中,如圖1和圖2所示,其中,圖1為本實用新型清洗裝置一 實施例的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為圖1中A處的局部放大圖。該清洗裝置包括形成有清洗通道 的支架,所述清洗通道具有兩端部,其中一端供待洗物進(jìn)入,該端為進(jìn)料端;另一端供已清 洗后的待洗物離開,該端為出料端。所述支架包括形成清洗通道的底板11,自所述底板11 相背離的兩側(cè)朝同一方向延伸出的兩側(cè)板12,以及與所述底板11平行設(shè)置并蓋設(shè)于所述 側(cè)板12上的頂板13,所述底板11、兩所述側(cè)板12以及所述頂板13相互圍合成具有進(jìn)料端 和出料端的清洗通道,所述進(jìn)料端的水平位置高于所述出料端的水平位置。所述清洗通道 在垂直于待洗物運動方向上的截面形狀為矩形或者梯形,這樣有利于待洗物在清洗通道內(nèi) 均勾分布,各處厚度一致。
      [0023] 在本實用新型中,待洗物具體可為砂石或者小工件或者含油的污泥等。所述支架 上還設(shè)置有與所述清洗通道連通的進(jìn)水口 14和出水口 16,所述進(jìn)水口 14靠近所述出料端 設(shè)置,所述出水口 16靠近所述進(jìn)料端設(shè)置。
      [0024] 上述清洗裝置還包括用于產(chǎn)生如頻率為20kHz低頻超聲波的低頻超聲波振板21, 以及用于產(chǎn)生如頻率為28kHz的高頻超聲波的高頻超聲波振板22,超聲波頻率按照實際需 要進(jìn)行選擇。所述低頻超聲波振板21設(shè)置在所述底板11上,所述高頻超聲波振板22設(shè)置 在所述頂板13上。
      [0025] 本實用新型技術(shù)方案在清洗通道的底板設(shè)置低頻超聲波振板21,頂板設(shè)置高頻超 聲波振板22,低頻超聲波振板21產(chǎn)生的振動使待洗物被彈起,而不貼附于底板,并懸浮于 水流中;高頻超聲波振板22產(chǎn)生的超聲波則對待洗物進(jìn)行清洗,以去除待洗物表面的污染 物,去除后的污染物隨水流排出。因待洗物懸浮于水中,因此可保證待洗物各處得到更加充 分清洗,避免了待洗物與底板接觸的位置清洗不到位情況的發(fā)生。此外,因待洗物依靠自重 從上往下運動,而水流從下往上流動,水流的向上流動既可降低自身流動速度,也可降低待 洗物運動速度,增加與待洗物的接觸時間,保證待洗物得到充分的沖洗。
      [0026] 優(yōu)選地,所述高頻超聲波振板22在所述低頻超聲波振板21上的正投影落在所述 低頻超聲波振板21的外邊緣內(nèi)。本實施例中,將所述高頻超聲波振板22正對著所述低頻 超聲波振板21設(shè)置,以確保高頻超聲波作用于懸浮于水流中的待洗物上,而更有利于待洗 物的清洗。
      [0027] 優(yōu)選地,所述支架的遠(yuǎn)離所述進(jìn)料端的一端形成有縮口,所述縮口為所述出料端。 本實施例中,為了更方便清洗后的待洗物排出,將所述支架設(shè)有所述出料端的一端設(shè)置成 一錐形結(jié)構(gòu)或設(shè)置一斜角,使得所述清洗通道在該端形成一縮口形狀以形成所述出料端。
      [0028] 優(yōu)選地,所述底板11的靠近所述進(jìn)料端的一端設(shè)有與所述出水口 16連通的溢流
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