本發(fā)明屬于光催化新材料領(lǐng)域,具體涉及一種含氧缺陷的ZnWO4光催化材料及其制備方法。
背景技術(shù):
隨著化石原料不斷消耗帶來的能源危機(jī)以及環(huán)境問題,人類社會的發(fā)展越來越受其制約,尋找替代能源刻不容緩。高效便捷地利用、轉(zhuǎn)化和儲存太陽能,有利于解決能源和環(huán)境問題。光催化技術(shù)是在光催化材料存在的情況下,直接將太陽能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能的方法。利用光催化技術(shù)能夠進(jìn)行水分解制氫和有機(jī)污染物降解反應(yīng),反應(yīng)過程綠色便捷,有著極大地應(yīng)用前景,為解決能源危機(jī)和環(huán)境問題提供了新的思路。典型的光催化材料多為半導(dǎo)體,包括TiO2、ZnO、WO3、CdS、BiVO4等。但這些半導(dǎo)體材料用于光催化過程中時,往往存在可見光吸收能力弱、電荷分離差和光腐蝕等問題。
過渡金屬鎢酸鹽ZnWO4,是一類寬帶隙(>3.6eV)半導(dǎo)體光催化材料,具有電子傳遞速率高和光生載流子壽命長的特點,在光催化降解有機(jī)污染物、光催化產(chǎn)氫和光致發(fā)光材料等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,但其過寬的帶隙限制了其可見光下的光催化能力,主要體現(xiàn)在ZnWO4光催化材料存在光吸收范圍窄、電荷分離差的問題。
本發(fā)明旨在解決上述問題。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明第一方面提供了一種含氧缺陷的ZnWO4光催化材料,其在紫外-可見光漫反射光譜中的近紅外區(qū)中存在吸收,其中所述近紅外區(qū)的波長范圍為780-2500nm。
該含氧缺陷的ZnWO4光催化材料通過在氫氣存在對ZnWO4進(jìn)行焙燒以對ZnWO4進(jìn)行部分還原來制備。
優(yōu)選地,焙燒的溫度為350℃~600℃,焙燒時間為1~4h。
優(yōu)選地,焙燒時升溫速度為1~5℃/min。
本發(fā)明第二方面提供了一種含氧缺陷的ZnWO4光催化材料的制備方法,該方法先以Na2WO4和可溶性鋅鹽為原料,經(jīng)水熱晶化反應(yīng)形成ZnWO4晶體,然后將該ZnWO4晶體在氫氣存在下進(jìn)行焙燒以對ZnWO4進(jìn)行部分還原,得到所述含氧缺陷的ZnWO4光催化材料。
優(yōu)選地,所述可溶性鋅鹽為ZnCl2、Zn(CH3COO)2或Zn(NO3)2,其在水熱晶化母液中的濃度范圍為0.001mol/L~0.1mol/L。
優(yōu)選地,所述水熱晶化反應(yīng)的溫度范圍為120℃~200℃,水熱晶化反應(yīng)時間為12~36h。
本發(fā)明中,通過水熱法合成典型的ZnWO4光催化材料,再通過進(jìn)一步氫氣焙燒還原引入氧缺陷,得到含氧缺陷的ZnWO4光催化材料,并可通過調(diào)控焙燒還原溫度和時間來改變?nèi)毕莸囊肓俊?/p>
具體制備方案如下:
(1)水熱法合成典型的ZnWO4光催化材料:以去離子水為溶劑,將0.001mol/L~0.1mol/L鋅的鹽類(ZnCl2、Zn(CH3COO)2、Zn(NO3)2)溶液和等體積等濃度的Na2WO4溶液混合并持續(xù)攪拌30min后,得到的白色懸濁液。將得到的白色懸濁液放入水熱反應(yīng)釜中,置于120℃~200℃下反應(yīng)12~36h后冷卻至室溫。然后,將水熱反應(yīng)釜中的固體產(chǎn)物分離并用去離子水和乙醇各洗滌3次,隨后干燥并研磨,即得到相應(yīng)的ZnWO4光催化材料。
(2)氫氣焙燒還原制備含氧缺陷的ZnWO4光催化材料:將得到的典型ZnWO4光催化材料置于坩堝中,使用氣氛爐在氫氣氣氛下以350℃~600℃焙燒1~4h,焙燒升溫速度為1~5℃/min,最終得到的產(chǎn)物即為含氧缺陷的ZnWO4光催化材料。
本發(fā)明的有益效果在于:
(1)通過引入氧缺陷來增強(qiáng)ZnWO4的可見光吸收能力,進(jìn)而提高其光催化性能;
(2)通過改變氫氣焙燒還原的時間和溫度能夠調(diào)控缺陷引入量,使含缺陷的ZnWO4光催化材料滿足不同的應(yīng)用場景。
附圖說明
圖1為本發(fā)明含氧缺陷的ZnWO4光催化材料的X射線衍射圖譜。
圖2為本發(fā)明含氧缺陷的ZnWO4光催化材料的紫外-可見光漫反射光譜(UV-VIS光譜)。
圖3為本發(fā)明含氧缺陷的ZnWO4光催化材料在乳酸溶液中光催化產(chǎn)氫性能。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步說明,所用藥品均為市售。
實施例1
(1)水熱法合成典型的ZnWO4光催化材料:以去離子水為溶劑,將4mmol Zn(CH3COO)2和同樣摩爾量的Na2WO4分別溶于40mL去離子水中,得到溶液A和溶液B。在攪拌條件下將溶液B逐滴滴加到溶液A中,持續(xù)攪拌30min后,得到的白色懸濁液。將得到的白色懸濁液放入100mL水熱反應(yīng)釜中,將水熱反應(yīng)釜置于烘箱中于180℃下恒溫反應(yīng)24h后冷卻至室溫。然后,將水熱反應(yīng)釜中的固體產(chǎn)物離心分離出來,并用去離子水和乙醇各洗滌3次,隨后干燥并研磨,即得到相應(yīng)的ZnWO4光催化材料。
(2)氫氣焙燒還原制備含氧缺陷的ZnWO4光催化材料:將得到的典型ZnWO4光催化材料置于坩堝中,使用氣氛爐在氫氣氣氛下以400℃焙燒2h,焙燒升溫速度為2℃/min,最終得到的產(chǎn)物即為含氧缺陷的ZnWO4光催化材料。
實施例2
(1)水熱法合成典型的ZnWO4光催化材料:以去離子水為溶劑,將2mmol ZnCl2和同樣摩爾量的Na2WO4分別溶于40mL去離子水中,得到溶液A和溶液B。在攪拌條件下將溶液B逐滴滴加到溶液A中,持續(xù)攪拌30min后,得到的白色懸濁液。將得到的白色懸濁液放入100mL水熱反應(yīng)釜中,將水熱反應(yīng)釜置于烘箱中于150℃下恒溫反應(yīng)24h后冷卻至室溫。然后,將水熱反應(yīng)釜中的固體產(chǎn)物離心分離出來,并用去離子水和乙醇各洗滌3次,隨后干燥并研磨,即得到相應(yīng)的ZnWO4光催化材料。
(2)氫氣焙燒還原制備含氧缺陷的ZnWO4光催化材料:將得到的典型ZnWO4光催化材料置于坩堝中,使用氣氛爐在氫氣氣氛下以500℃焙燒4h,焙燒升溫速度為1℃/min,最終得到的產(chǎn)物即為含氧缺陷的ZnWO4光催化材料。
實施例3
實施例3是對氧缺陷的ZnWO4光催化材料和普通ZnWO4光催化材料進(jìn)行的波譜學(xué)表征和活性實驗。
其中,圖1為通過實施例1和實施例2條件制備得到的含氧缺陷的ZnWO4光催化材料和普通ZnWO4光催化材料的X射線衍射圖譜??梢杂^察出,引入氧缺陷后ZnWO4的X射線衍射峰強(qiáng)度普遍減弱。
圖2為通過實施例1和實施例2條件制備得到的含氧缺陷的ZnWO4光催化材料和普通ZnWO4光催化材料的紫外可見漫反射光譜??梢钥闯?,含氧缺陷的ZnWO4在近紅外區(qū)出現(xiàn)吸收,這說明材料中存在氧缺陷。
圖3為通過實施例1和實施例2條件制備得到的含氧缺陷的ZnWO4光催化材料和普通ZnWO4光催化材料用于催化乳酸光催化產(chǎn)氫反應(yīng)的性能評價實驗。其中橫軸為反應(yīng)時間,縱軸為析氫速率,可見,實施例1較典型ZnWO4的活性提升了約4倍,而實施例2較典型ZnWO4的活性提升了約6倍,這說明引入氧缺陷后,ZnWO4光催化活性大大提高。