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      一種稀土拋光粉精細研磨裝置的制作方法

      文檔序號:12215744閱讀:322來源:國知局
      一種稀土拋光粉精細研磨裝置的制作方法

      本發(fā)明涉及一種研磨裝置,尤其涉及一種稀土拋光粉精細研磨裝置。



      背景技術:

      稀土元素氧化物是指15種鑭系元素氧化物,以及鈧和釔的氧化物。稀土元素在石油、化工、冶金、紡織、陶瓷、玻璃、永磁材料等領域都得到了廣泛的應用,隨著科技的進步和應用技術的不斷突破,稀土氧化物的價值將越來越大。

      拋光粉,拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成。不同的材料的硬度不同,在水中的化學性質也不同,因此使用場合各不相同。通常,氧化鈰拋光粉用于玻璃和含硅材料的拋光,氧化鋁拋光粉用于不銹鋼的拋光,氧化鐵也可用于玻璃,但速度較慢,常用于軟性材料的拋光。石材的拋光常使用氧化錫,瓷磚的拋光常使用氧化鉻。

      現(xiàn)有的稀土拋光粉研磨裝置存在研磨產品精細度低的缺點,因此亟需研發(fā)一種研磨產品精細度高的稀土拋光粉精細研磨裝置。



      技術實現(xiàn)要素:

      (1)要解決的技術問題

      本發(fā)明為了克服現(xiàn)有的稀土拋光粉研磨裝置研磨產品精細度低的缺點,本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種研磨產品精細度高的稀土拋光粉精細研磨裝置。

      (2)技術方案

      為了解決上述技術問題,本發(fā)明提供了這樣一種稀土拋光粉精細研磨裝置,包括有支架、第一齒輪、第一轉軸、大皮帶輪、旋轉電機、平皮帶、第一軸承座、連接桿、滑套、連桿、擋板、移動桿、濾網(wǎng)、底板、彈簧、研磨箱、氣缸、支桿、研磨板、進料管、第二齒輪、第二軸承座、第三轉軸、研磨石、研磨輪、第二轉軸、接觸輪、滾筒和小皮帶輪;支架內右側從上至下依次設有旋轉電機、第一軸承座和連接桿,旋轉電機上連接有第一轉軸,第一轉軸上設有大皮帶輪和第一齒輪,大皮帶輪位于第一齒輪右方,連接桿底部左端設有滑套,第一軸承座上安裝有第二轉軸,第二轉軸上從左至右依次設有研磨輪、滾筒和小皮帶輪,小皮帶輪與大皮帶輪之間繞有平皮帶,滾筒上開有曲形凹槽,曲形凹槽內設有接觸輪,接觸輪上設有連桿,連桿下端設有移動桿,移動桿穿過滑套,支架左側設有進料管,進料管穿過支架左壁,支架內左側從上至下依次設有第二軸承座、研磨板和支桿,進料管設在第二軸承座和研磨板之間,第二軸承座上安裝有第三轉軸,第三轉軸上端設有第二齒輪,第二齒輪與第一齒輪嚙合,第三轉軸下端設有研磨石,研磨石位于研磨板上方,研磨板與支架鉸接連接,支桿中部鉸接連接有氣缸,氣缸頂部與研磨板底部右方鉸接連接,支桿右端設有研磨箱,研磨箱右壁開有開口,研磨箱內左側下方設有底板和彈簧,底板位于彈簧上方,彈簧右端設有擋板,擋板穿過開口,研磨箱內右側下方設有濾網(wǎng),濾網(wǎng)左端與底板右端連接,濾網(wǎng)位于擋板上方,研磨輪位于濾網(wǎng)上方。

      優(yōu)選地,還包括有研磨齒,研磨石底部設有研磨齒,研磨齒的形狀為三棱錐形,研磨齒的底面形狀為正三角形,研磨齒的底面積總和占研磨石底部表面積的四分之三,研磨齒的材質為優(yōu)質鋼材。

      優(yōu)選地,還包括有斜板,底板上設有斜板,斜板的底部長度與底板的長度相等,斜板的底部寬度與底板的寬度相等,斜板的左側與研磨箱內左側契合,斜板的高度為研磨箱左壁高度的三分之一。

      優(yōu)選地,還包括有收集箱,支架內底部設有收集箱,收集箱位于濾網(wǎng)下方,收集箱的形狀為凹形,收集箱的左右兩壁的高度相等,收集箱的底部長度為支架內底部長度的三分之一,收集箱的底部寬度與支架內底部寬度相等,收集箱的材質為不銹鋼材。

      優(yōu)選地,研磨石的立體形狀為圓柱體形。

      優(yōu)選地,擋板的形狀為L形。

      優(yōu)選地,旋轉電機為伺服電機。

      工作原理:當需要研磨稀土拋光粉時,通過進料管往研磨板加入拋光粉后,啟動旋轉電機正轉或反轉交替轉動,帶動第一轉軸正轉或反轉交替轉動,帶動大皮帶輪和第一齒輪正轉或反轉交替轉動,帶動第二齒輪反轉或正轉交替轉動,帶動第三轉軸反轉或正轉交替轉動,帶動研磨石反轉或正轉交替轉動,從而不斷碾壓拋光粉。同時平皮帶帶動小皮帶輪正轉或反轉交替轉動,帶動第二轉軸正轉或反轉交替轉動,帶動研磨輪正轉或反轉交替轉動。當拋光粉在研磨板上被研磨石研磨到合適程度時。啟動氣缸縮短,帶動研磨板順時針轉動,當研磨板底部接觸到研磨箱左壁上端時,氣缸停止縮短。在重力作用下,經過研磨石初步研磨后的拋光粉從研磨板落進研磨箱,從而被研磨輪進一步研磨。研磨板上的拋光粉全部落進研磨箱后,啟動氣缸伸長,帶動研磨板逆時針轉動復位后,氣缸停止伸長。當研磨箱內的拋光粉研磨到合適程度時,旋轉電機停止正轉或反轉交替轉動。啟動旋轉電機正轉,帶動第一轉軸正轉,帶動大皮帶輪正轉,平皮帶帶動小皮帶輪正轉,帶動第二轉軸正轉,帶動滾筒正轉,帶動接觸輪沿著曲形凹槽移動,帶動連桿向右運動,帶動移動桿向右運動,當移動桿左側下端接觸到擋板時,帶動擋板向右運動,彈簧伸長,當擋板向右運動到合適位置時,旋轉電機停止正轉,從而使研磨后的拋光粉經過濾網(wǎng)的篩選,顆粒大小符合所需顆粒大小的研磨產品穿過濾網(wǎng)落到合適位置。當濾網(wǎng)不再落下研磨產品時,啟動旋轉電機反轉,帶動第一轉軸反轉,帶動大皮帶輪和第一齒輪反轉,平皮帶帶動小皮帶輪反轉,帶動第二轉軸反轉,帶動滾筒和研磨輪反轉復位,帶動接觸輪沿著曲形凹槽移動,帶動連桿向左運動,帶動移動桿向左運動復位后,旋轉電機停止轉動。在彈簧彈力的作用下,彈簧縮短復位,帶動擋板向左運動復位。

      因為還包括有研磨齒,研磨石底部設有研磨齒,研磨齒的形狀為三棱錐形,研磨齒的底面形狀為正三角形,研磨齒的底面積總和占研磨石底部表面積的四分之三,研磨齒的材質為優(yōu)質鋼材,所以可以更好地研磨拋光粉,提高研磨的效率。

      因為還包括有斜板,底板上設有斜板,斜板的底部長度與底板的長度相等,斜板的底部寬度與底板的寬度相等,斜板的左側與研磨箱內左側契合,斜板的高度為研磨箱左壁高度的三分之一,可以避免拋光粉殘留在底板上,導致研磨輪無法對研磨石研磨后的拋光粉進一步研磨。

      因為還包括有收集箱,支架內底部設有收集箱,收集箱位于濾網(wǎng)下方,收集箱的形狀為凹形,收集箱的左右兩壁的高度相等,收集箱的底部長度為支架內底部長度的三分之一,收集箱的底部寬度與支架內底部寬度相等,收集箱的材質為不銹鋼材,所以可以收集符合所需顆粒大小的研磨產品。

      因為旋轉電機為伺服電機,可以更精確地控制轉速。

      (3)有益效果

      本發(fā)明采用研磨石和研磨輪,研磨石對原料進行初步研磨,再讓研磨輪對經研磨石初步研磨后的拋光粉進一步研磨,使拋光粉顆粒大小達到所需顆粒大小,最后經過濾網(wǎng)的過濾將達到所需顆粒大小的研磨產品篩選出來,而讓研磨輪對未達到所需顆粒大小的研磨產品繼續(xù)進行研磨,達到了研磨產品精細度高的效果。

      附圖說明

      圖1是本發(fā)明的第一種主視結構示意圖。

      圖2是本發(fā)明的第二種主視結構示意圖。

      圖3是本發(fā)明的第三種主視結構示意圖。

      圖4是本發(fā)明的第四種主視結構示意圖。

      附圖中的標記為:1-支架,2-第一齒輪,3-第一轉軸,4-大皮帶輪,5-旋轉電機,6-平皮帶,7-第一軸承座,8-連接桿,9-滑套,10-連桿,11-擋板,12-移動桿,13-開口,14-濾網(wǎng),15-底板,16-彈簧,17-研磨箱,18-氣缸,19-支桿,20-研磨板,21-進料管,22-第二齒輪,23-第二軸承座,24-第三轉軸,25-研磨石,26-研磨輪,27-第二轉軸,28-接觸輪,29-滾筒,30-曲形凹槽,31-小皮帶輪,32-研磨齒,33-斜板,34-收集箱。

      具體實施方式

      下面結合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步的說明。

      實施例1

      一種稀土拋光粉精細研磨裝置,如圖1-4所示,包括有支架1、第一齒輪2、第一轉軸3、大皮帶輪4、旋轉電機5、平皮帶6、第一軸承座7、連接桿8、滑套9、連桿10、擋板11、移動桿12、濾網(wǎng)14、底板15、彈簧16、研磨箱17、氣缸18、支桿19、研磨板20、進料管21、第二齒輪22、第二軸承座23、第三轉軸24、研磨石25、研磨輪26、第二轉軸27、接觸輪28、滾筒29和小皮帶輪31;支架1內右側從上至下依次設有旋轉電機5、第一軸承座7和連接桿8,旋轉電機5上連接有第一轉軸3,第一轉軸3上設有大皮帶輪4和第一齒輪2,大皮帶輪4位于第一齒輪2右方,連接桿8底部左端設有滑套9,第一軸承座7上安裝有第二轉軸27,第二轉軸27上從左至右依次設有研磨輪26、滾筒29和小皮帶輪31,小皮帶輪31與大皮帶輪4之間繞有平皮帶6,滾筒29上開有曲形凹槽30,曲形凹槽30內設有接觸輪28,接觸輪28上設有連桿10,連桿10下端設有移動桿12,移動桿12穿過滑套9,支架1左側設有進料管21,進料管21穿過支架1左壁,支架1內左側從上至下依次設有第二軸承座23、研磨板20和支桿19,進料管21設在第二軸承座23和研磨板20之間,第二軸承座23上安裝有第三轉軸24,第三轉軸24上端設有第二齒輪22,第二齒輪22與第一齒輪2嚙合,第三轉軸24下端設有研磨石25,研磨石25位于研磨板20上方,研磨板20與支架1鉸接連接,支桿19中部鉸接連接有氣缸18,氣缸18頂部與研磨板20底部右方鉸接連接,支桿19右端設有研磨箱17,研磨箱17右壁開有開口13,研磨箱17內左側下方設有底板15和彈簧16,底板15位于彈簧16上方,彈簧16右端設有擋板11,擋板11穿過開口13,研磨箱17內右側下方設有濾網(wǎng)14,濾網(wǎng)14左端與底板15右端連接,濾網(wǎng)14位于擋板11上方,研磨輪26位于濾網(wǎng)14上方。

      還包括有研磨齒32,研磨石25底部設有研磨齒32,研磨齒32的形狀為三棱錐形,研磨齒32的底面形狀為正三角形,研磨齒32的底面積總和占研磨石25底部表面積的四分之三,研磨齒32的材質為優(yōu)質鋼材。

      還包括有斜板33,底板15上設有斜板33,斜板33的底部長度與底板15的長度相等,斜板33的底部寬度與底板15的寬度相等,斜板33的左側與研磨箱17內左側契合,斜板33的高度為研磨箱17左壁高度的三分之一。

      還包括有收集箱34,支架1內底部設有收集箱34,收集箱34位于濾網(wǎng)14下方,收集箱34的形狀為凹形,收集箱34的左右兩壁的高度相等,收集箱34的底部長度為支架1內底部長度的三分之一,收集箱34的底部寬度與支架1內底部寬度相等,收集箱34的材質為不銹鋼材。

      研磨石25的立體形狀為圓柱體形。

      擋板11的形狀為L形。

      旋轉電機5為伺服電機。

      工作原理:當需要研磨稀土拋光粉時,通過進料管21往研磨板20加入拋光粉后,啟動旋轉電機5正轉或反轉交替轉動,帶動第一轉軸3正轉或反轉交替轉動,帶動大皮帶輪4和第一齒輪2正轉或反轉交替轉動,帶動第二齒輪22反轉或正轉交替轉動,帶動第三轉軸24反轉或正轉交替轉動,帶動研磨石25反轉或正轉交替轉動,從而不斷碾壓拋光粉。同時平皮帶6帶動小皮帶輪31正轉或反轉交替轉動,帶動第二轉軸27正轉或反轉交替轉動,帶動研磨輪26正轉或反轉交替轉動。當拋光粉在研磨板20上被研磨石25研磨到合適程度時。啟動氣缸18縮短,帶動研磨板20順時針轉動,當研磨板20底部接觸到研磨箱17左壁上端時,氣缸18停止縮短。在重力作用下,經過研磨石25初步研磨后的拋光粉從研磨板20落進研磨箱17,從而被研磨輪26進一步研磨。研磨板20上的拋光粉全部落進研磨箱17后,啟動氣缸18伸長,帶動研磨板20逆時針轉動復位后,氣缸18停止伸長。當研磨箱17內的拋光粉研磨到合適程度時,旋轉電機5停止正轉或反轉交替轉動。啟動旋轉電機5正轉,帶動第一轉軸3正轉,帶動大皮帶輪4正轉,平皮帶6帶動小皮帶輪31正轉,帶動第二轉軸27正轉,帶動滾筒29正轉,帶動接觸輪28沿著曲形凹槽30移動,帶動連桿10向右運動,帶動移動桿12向右運動,當移動桿12左側下端接觸到擋板11時,帶動擋板11向右運動,彈簧16伸長,當擋板11向右運動到合適位置時,旋轉電機5停止正轉,從而使研磨后的拋光粉經過濾網(wǎng)14的篩選,顆粒大小符合所需顆粒大小的研磨產品穿過濾網(wǎng)14落到合適位置。當濾網(wǎng)14不再落下研磨產品時,啟動旋轉電機5反轉,帶動第一轉軸3反轉,帶動大皮帶輪4和第一齒輪2反轉,平皮帶6帶動小皮帶輪31反轉,帶動第二轉軸27反轉,帶動滾筒29和研磨輪26反轉復位,帶動接觸輪28沿著曲形凹槽30移動,帶動連桿10向左運動,帶動移動桿12向左運動復位后,旋轉電機5停止轉動。在彈簧16彈力的作用下,彈簧16縮短復位,帶動擋板11向左運動復位。

      因為還包括有研磨齒32,研磨石25底部設有研磨齒32,研磨齒32的形狀為三棱錐形,研磨齒32的底面形狀為正三角形,研磨齒32的底面積總和占研磨石25底部表面積的四分之三,研磨齒32的材質為優(yōu)質鋼材,所以可以更好地研磨拋光粉,提高研磨的效率。

      因為還包括有斜板33,底板15上設有斜板33,斜板33的底部長度與底板15的長度相等,斜板33的底部寬度與底板15的寬度相等,斜板33的左側與研磨箱17內左側契合,斜板33的高度為研磨箱17左壁高度的三分之一,可以避免拋光粉殘留在底板15上,導致研磨輪26無法對研磨石25研磨后的拋光粉進一步研磨。

      因為還包括有收集箱34,支架1內底部設有收集箱34,收集箱34位于濾網(wǎng)14下方,收集箱34的形狀為凹形,收集箱34的左右兩壁的高度相等,收集箱34的底部長度為支架1內底部長度的三分之一,收集箱34的底部寬度與支架1內底部寬度相等,收集箱34的材質為不銹鋼材,所以可以收集符合所需顆粒大小的研磨產品。

      因為旋轉電機5為伺服電機,可以更精確地控制轉速。

      以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,其描述較為具體和詳細,但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是,對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發(fā)明構思的前提下,還可以做出若干變形、改進及替代,這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此,本發(fā)明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。

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