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      四磺基酞菁鋅/氧化鋅復(fù)合膜納米材料的原位自組裝制備方法與流程

      文檔序號:12353698閱讀:557來源:國知局
      四磺基酞菁鋅/氧化鋅復(fù)合膜納米材料的原位自組裝制備方法與流程

      本發(fā)明屬于納米功能材料的制備領(lǐng)域,具體涉及一種四磺基酞菁鋅/氧化鋅復(fù)合膜納米材料的原位自組裝制備方法。



      背景技術(shù):

      在眾多環(huán)境水污染治理技術(shù)中,光催化氧化技術(shù)作為一種新興的技術(shù),通過光催化材料吸收太陽能,將太陽能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能,用于降解環(huán)境中的有機(jī)污染物,由于光催化技術(shù)的室溫深度反應(yīng)及催化條件簡單等獨(dú)特性能,而成為一種具有廣闊應(yīng)用前景的環(huán)境水污染治理技術(shù)。

      半導(dǎo)體作為光催化技術(shù)中的一個重要部分,而ZnO又作為一種重要的的n型半導(dǎo)體光催化劑,具有許多優(yōu)秀的物理化學(xué)性能,兼具無毒、生物相容性好等優(yōu)點(diǎn),成為目前重要的光催化劑之一,已經(jīng)廣泛運(yùn)用于降解廢水中含有的各種染料中。

      目前,許多研究重點(diǎn)主要以納米半導(dǎo)體ZnO作為光催化劑,由于采用了納米技術(shù)使ZnO小尺寸、大比表面積和表面存在大量的懸掛鍵,并與水污染物充分接觸,不但提高了催化速率,降低了反應(yīng)溫度,而且方法簡單、易行。但常規(guī)的ZnO作為一種帶隙寬(3.37eV)半導(dǎo)體材料,其吸收頻譜位于紫外光區(qū),光生電荷易復(fù)合,同時ZnO光催化劑不具有選擇性,使該技術(shù)的廣泛應(yīng)用受到一定程度的制約。目前,公認(rèn)的ZnO光催化機(jī)理為:當(dāng)輻照能量大于其禁帶寬度時,光生空穴具有很強(qiáng)的得電子能力,具有強(qiáng)氧化性,可與空氣中的氧氣和水中的OH-結(jié)合生成OH?(氫氧自由基),它可以氧化包括生物難降解的各種有機(jī)物,并使之完全礦化。

      如何提高光催化劑的量子產(chǎn)率,拓寬吸收光的頻帶以及選擇性降解目標(biāo)降解物成為目前國際光催化領(lǐng)域的研究焦點(diǎn)。光催化的總量子效率由兩個關(guān)鍵過程決定:其一,光致電子和空穴的重新結(jié)合與被俘獲的競爭;其二,被俘獲的電子和空穴的重新結(jié)合與界面間電荷轉(zhuǎn)移的競爭。近年來,為改善光催化量子效率,大多數(shù)研究主要集中在光催化劑的表面改性,包括表面螯和、表面金屬共沉積和過渡金屬摻雜等等,但均存在著量子效率提高幅度有限(~2倍),轉(zhuǎn)化率低(約80%),光照時間較長(數(shù)小時),對相關(guān)的降解物不具有選擇性。

      擴(kuò)大光響應(yīng)范圍的主要方法為表面光敏化,主要采用浸漬法,將光活性化合物等,化學(xué)吸附或物理吸附于ZnO上,以擴(kuò)大激發(fā)波長范圍,增加光催化反應(yīng)的效率,但由于其采用浸漬法,光活性化合物是以一種表面物理效應(yīng)與ZnO相結(jié)合,兩種物質(zhì)間存在晶界,當(dāng)光活性物質(zhì)只能在一定頻譜范圍的光照射下,使兩種物質(zhì)間的電荷和能量傳遞受到了一定限制,光敏化和量子效率受到一定的影響。

      目前,許多光催化劑的研究重點(diǎn)放在如何提高光催化降解污染物的降解效率,但是在光催化劑在降解不同催化產(chǎn)物的先后順序及其選擇性缺少研究。如何能使催化劑在第一時間,有效、快速的降解目標(biāo)產(chǎn)物,而非“一視同仁”地降解所有有機(jī)物,受到越多研究的重視和青睞。半導(dǎo)體氧化物光催化劑在處理污染物中普遍被認(rèn)為是沒有選擇性,依據(jù)光催化反應(yīng)的自由基機(jī)理,即待降解底物在包括強(qiáng)氧化劑羥基自由基快速攻擊,存在著無選擇性的特點(diǎn)。要提高金屬氧化物半導(dǎo)體材料的光催化選擇性,目前主要可以通過以下幾種途徑:(1)加強(qiáng)催化劑的催化產(chǎn)物的吸引力;(2)通過對催化劑表面進(jìn)行改性,以增強(qiáng)催化劑表面對待降解底物的吸引力;(3)對催化劑表面進(jìn)行改性,使得不需要降解的物質(zhì)從催化劑表面分離;(4)對催化劑本身進(jìn)行摻雜。

      通常,酞菁周環(huán)上無取代基團(tuán)在常規(guī)有機(jī)試劑中,溶解度很低,在實(shí)際應(yīng)用中受到限制,因此要在周環(huán)上引入各種各樣不同性質(zhì)的取代基團(tuán)。近年來,通過改變酞菁中間金屬以及其周環(huán)上的取代基種類及數(shù)目,得到一些具有優(yōu)良特性的大分子酞菁衍生物,受到廣泛的研究。目前,酞菁已廣泛運(yùn)用于光動力治療、有機(jī)光敏化劑、非線性光學(xué)材料等領(lǐng)域。酞菁是一種對稱結(jié)構(gòu),18個電子大共軛體系的平面大環(huán)分子,其具有良好的光、熱穩(wěn)定性,其在可見光區(qū)域(400~700nm)有強(qiáng)吸收,使其在催化劑(包括光催化劑)、光電池、染料、光記錄材料、生物醫(yī)學(xué)材料等方面有著優(yōu)異的特性。將具有親水或者疏水取代基的金屬酞菁配合物作為光活性物質(zhì),分別附著在ZnO納米薄膜表面、ZnO納米顆粒上,來拓寬光譜響應(yīng),以提高采光效率、光電轉(zhuǎn)換效率、光催化活性和光催化選擇性。

      有機(jī)/無機(jī)復(fù)合物的原位合成技術(shù)為,在無機(jī)基質(zhì)表面原位合成具有特殊物理、化學(xué)性質(zhì)物質(zhì)的新方法。該技術(shù)是利用有機(jī)物的前驅(qū)體,經(jīng)一系列近程物理、化學(xué)反應(yīng)過程形成的分子級有機(jī)/無機(jī)復(fù)合物前驅(qū)體,在反應(yīng)過程中,由于有機(jī)物骨架形成的“籠”的存在,限制了ZnO分子作遠(yuǎn)距離的遷移,增加了與酞菁大分子的碰撞幾率,且無機(jī)薄膜表面存在大量的金屬離子懸掛鍵,使得無機(jī)質(zhì)與有機(jī)質(zhì)通過牢固的化學(xué)鍵結(jié)合在一起。由于在反應(yīng)過程中“籠”的尺寸較小,且隨著過程的進(jìn)行而不斷收縮減少,經(jīng)一定的熱處理,極易形成金屬卟啉配合物的單體,而避免了其它制備方法中的金屬酞菁配合物二聚等不利因素,形成均勻的納米復(fù)合材料。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)不足,提供一種四磺基酞菁鋅/氧化鋅復(fù)合膜納米材料的原位自組裝制備方法。本發(fā)明的復(fù)合材料通過四磺基酞菁鋅在ZnO表面上原位自組裝形成,所獲得有機(jī)物與無機(jī)物復(fù)合材料的界面清潔、化學(xué)鍵合、穩(wěn)定性好,不僅拓寬復(fù)合材料的可見光吸收頻譜,提高了光生電荷的分離效率,大幅提高光催化降解效率。同時,四磺基酞菁鋅周環(huán)上存在親水性的磺基,使得復(fù)合光催化劑呈現(xiàn)出親水性,在降解有機(jī)混合液中,對親水性的亞甲基藍(lán)等有機(jī)染料表現(xiàn)出明顯的選擇性。

      為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:

      一種四磺基酞菁鋅/氧化鋅復(fù)合膜納米材料的原位自組裝制備方法,其具體步驟為:

      (1)采用液相沉淀法,在ITO導(dǎo)電玻璃上合成啞鈴狀ZnO納米膜材料(ZnO ZDs);

      (2)取磺基鄰苯二腈溶于N,N-二甲基甲酰胺(DMF)中,超聲30min形成磺基鄰苯二腈溶液;

      (3)將步驟(1)合成的附著在ITO導(dǎo)電玻璃上的ZnO ZDs納米膜材料浸漬在步驟(2)得到的磺基鄰苯二腈溶液中,浸漬時間為3h;

      (4)將步驟(3)浸漬后的ITO導(dǎo)電玻璃置于管式爐中,在氮?dú)庵性?60℃下煅燒2h,制成四磺基酞菁鋅/氧化鋅(ZnTSPc/ZnO)復(fù)合膜納米材料。

      步驟(1)中所述的啞鈴狀ZnO納米膜材料的合成步驟為:首先將導(dǎo)電玻璃ITO表面分別用清洗劑、丙酮、乙醇、去離子水進(jìn)行超聲清洗,在80℃烘箱內(nèi)干燥后取出;然后將洗凈后的ITO放入200mL濃度為20mM含有Zn(CH3COO)2和六亞甲基四胺(HMTA)(Zn(CH3COO)2與HMTA的摩爾比為1:1)的混合溶液中;將燒杯置于90℃水浴鍋中反應(yīng)1h,然后將ITO取出,用去離子水輕輕清洗,自然干燥,最后在馬弗爐中300℃煅燒30min,升溫速率為5℃/min,最后得到附著于ITO導(dǎo)電玻璃上的啞鈴狀ZnO納米膜材料。

      本發(fā)明的有益效果在于:

      (1)本發(fā)明制得的復(fù)合光催化劑(ZnTSPc/ZnO)通過兩步法步合成,金屬酞菁中心金屬由無機(jī)基底直接提供,采用原位合成法,磺基鄰苯二腈為分子碎片,以ZnO表面Zn離子懸掛鍵作為模板,原位環(huán)合生成ZnTSPc,通過化學(xué)鍵合(Zn-O)與無機(jī)基底緊密的化學(xué)鍵合,并不是簡單的物理吸附,與傳統(tǒng)的合成工藝有所不同;

      (2)ZnTSPc/ZnO的結(jié)構(gòu)上具有納米雜化的微觀結(jié)構(gòu),可充分消除有機(jī)物與無機(jī)物的相分離與相界,以提高無機(jī)基質(zhì)與有機(jī)物之間的界面作用,充分發(fā)揮不同屬性的兩種組份的協(xié)同效應(yīng);

      (3)本發(fā)明通過無機(jī)部分的懸掛鍵與有機(jī)部分形成化學(xué)鍵合,不僅提高了光催化劑的量子產(chǎn)率,使復(fù)合材料的吸收光的頻率由紫外光區(qū)拓寬至可見光區(qū),解決了 ZnO作為一種寬帶隙(3.37eV)半導(dǎo)體材料吸收頻譜較窄的問題;同時,光生電荷可通過ZnO與ZnTSPc間的化學(xué)鍵,實(shí)現(xiàn)光生電荷的有效分離;尤其重要的是,基于ZnTSPc配合物周環(huán)上的磺基,具有較強(qiáng)的親水性,可特異性的吸附待降解物中的親水性有毒目標(biāo)物,可實(shí)現(xiàn)可見光響應(yīng)、高選擇性與高效光催化。

      附圖說明

      圖1為原位合成ZnTSPc/ZnO的流程圖;

      圖2為ZnO ZDs(300℃,30min燒結(jié))和ZnTSPc/ZnO(260℃,2h燒結(jié))原位合成材料的X射線衍射圖;

      圖3為ZnO ZDs和ZnTSPc/ZnO的SEM圖;

      其中(a)(b)(c)為ZnO ZDs的SEM圖,(d)為ZnTSPc/ZnO的SEM圖;

      圖4為原位合成ZnTSPc/ZnO復(fù)合材料(260℃,2h燒結(jié))的紫外-可見漫反射譜;

      圖5為原位合成ZnTSPc/ZnO復(fù)合材料(260℃,2h燒結(jié))DMF萃取后的紫外-可見吸收光譜;

      圖6為ZnTSPc敏化ZnO ZDs膜材料與水表面接觸角的變化過程,圖(a)為未經(jīng)過敏化的純ZnO ZDs膜材料與水表面接觸角的變化過程,圖(b)為ZnTSPc敏化后的ZnO ZDs膜材料與水表面接觸角的變化過程;

      圖7為原位合成ZnTSPc/ZnO(260℃,2h燒結(jié))光催化劑的太陽光光催化降解亞甲基藍(lán)(MB)和苯酚(PL)降解圖(光照度76~85毫瓦/平方厘米,25℃);

      圖8為原位合成ZnTSPc/ZnO(260℃,2h燒結(jié))光催化劑的太陽光光催化降解亞甲基藍(lán)(MB)和苯酚(PL)混合溶液降解圖(光照度76~85毫瓦/平方厘米,25℃)。

      具體實(shí)施方式

      以下結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明做進(jìn)一步說明,但本發(fā)明不僅僅限于這些實(shí)施例。

      實(shí)施例

      一種四磺基酞菁鋅/氧化鋅復(fù)合膜納米材料的原位自組裝制備方法,其具體步驟為:

      (1)ITO導(dǎo)電玻璃分別用清洗劑、丙酮、乙醇和去離子水進(jìn)行超聲洗,每次間隔為10min,然后放在烘箱內(nèi)80℃干燥備用;

      (2)將洗凈后的ITO放入200mL濃度為20mM含有Zn(CH3COO)2和六亞甲基四胺(HMTA)的混合溶液中;將燒杯置于90℃水浴鍋中反應(yīng)1h,然后將ITO取出,用去離子水輕輕清洗,自然干燥,最后在馬弗爐中300℃先煅燒30min,升溫速率為5℃/min,最后得到附著于ITO導(dǎo)電玻璃上的啞鈴狀ZnO納米膜材料;

      (3)取0.0416g磺基鄰苯二腈溶于40mL N,N-二甲基甲酰胺(DMF)中,超聲溶解30min, 使得黃雞鄰苯二腈充分溶解,形成磺基鄰苯二腈溶液;

      (4)將步驟(2)合成的附著在ITO導(dǎo)電玻璃上的ZnO ZDs納米膜材料浸漬在步驟(3)得到的磺基鄰苯二腈溶液中,浸漬3h后取出;

      (5)將浸漬后的ITO導(dǎo)電玻璃置于管式爐中,在氮?dú)庵性?60℃下煅燒2h,制成四磺基酞菁鋅/氧化鋅(ZnTSPc/ZnO)復(fù)合膜納米材料;

      上述原位合成ZnTSPc/ZnO的流程圖如圖1所示。

      一、ZnTSPc/ZnO的結(jié)構(gòu)表征:

      (1)原位合成了ZnTSPc/ZnO復(fù)合膜材料,從說明書附圖2和附圖3可知,光催化劑的主晶相為ZnO,且為六方晶系結(jié)構(gòu)和啞鈴狀結(jié)構(gòu),其長度尺寸約為7~15um,橫截面為標(biāo)準(zhǔn)的正六邊形,邊長約為2~3um。液相沉淀法合成的ZnO ZDs具有光滑的表面,在附圖3(c)中,ZnTSPc/ZnO表面因?yàn)樵赯nO ZDs表面環(huán)合生成ZnTSPc而變得粗糙。附圖3(d)(e)為ZnTSPc/ZnO復(fù)合材料的表面能譜掃描圖,經(jīng)過敏化后的ZnO納米材料表面含有Zn、O、S、N、C、Au等元素。其中Au元素為測試所加入,進(jìn)一步說明了在ZnO表面有新物質(zhì)生成,而新物質(zhì)至少含有S、N、C這三種元素。

      (2)為鑒別原位合成的產(chǎn)物中,有目標(biāo)物四磺基酞菁鋅(ZnTSPc)的存在,其中H2Pc、ZnTSPc的化學(xué)結(jié)構(gòu)式為:

      分別采用粉末紫外-可見漫反射譜(說明書附圖4)、DMF溶劑萃取后的紫外-可見光吸收譜(說明書附圖5)和氘代二甲基亞砜萃取后的H1NMR核磁共振譜圖進(jìn)行表征(說明書附圖6),附圖4中在600-700nm的可見光范圍內(nèi)復(fù)合光催化劑對可見光的利用率明顯提高,附圖5中ZnTSPc/ZnO復(fù)合材料在350nm出的吸收峰為酞菁的B帶,在550~800nm的可見光范圍內(nèi)存在兩個明顯的吸收峰,分別在610nm和670nm處,其中670nm為酞菁鋅的Q帶特征峰,說明在復(fù)合材料的制備中,磺基鄰苯二腈在ZnO ZDs表面聚合成環(huán),生成的酞菁鋅穩(wěn)固的存在于ZnO ZDs的表面,同時由于Q帶特征峰在670nm處遠(yuǎn)大于610nm處的多聚峰,說明ZnTSPc以單體形式存在,并未發(fā)生明顯的多聚,因此可以根據(jù)化合物的紫外-可見吸收光譜唯一地確認(rèn)金屬酞菁化合物。相比于純的ZnTSPc,ZnTSPc/ZnO復(fù)合材料的Q帶紅移了7nm,表明在復(fù)合材料在ZnTSPc和ZnO ZDs之間具有強(qiáng)烈的相互作用。

      二、疏(親)水性和光催化性能測試

      1. 親水性。借助接觸角測定儀,通過蒸餾水滴分別滴入ZnO ZDs和ZnTSPc/ZnO復(fù)合材料表面,同時記錄下之后5、10、15s內(nèi)液滴與界面接觸角的變化動態(tài)過程(附圖6),可見ZnO ZDs表面呈現(xiàn)出親水性,而ZnTPP/ZnO ZDs復(fù)合材料的界面接觸角均小于ZnO NAs,呈現(xiàn)出較超親水性。

      2. 光催化性能。在太陽光降解染料(選擇有機(jī)污染物為亞甲基藍(lán)(MB)分析純試劑和苯酚(PL)分析純試劑)的光催化降解實(shí)驗(yàn)中,實(shí)驗(yàn)條件為環(huán)境溫度為25℃,輻照度為76~85mW/cm2,步驟如下:

      (a)配制一定濃度的羅亞甲基藍(lán)(苯酚、亞甲基藍(lán)和苯酚混合溶液)水溶液(5×10-6mol/L)。

      (b)分別取ZnO ZDs和ZnTPP/ZnO 復(fù)合材料的ITO玻璃片(2cm×2cm),置于40mL的亞甲基藍(lán)(苯酚、亞甲基藍(lán)和苯酚混合溶液)水溶液(1×10-6mol/L)底部、帶有充氣孔的石英杯中。

      (c)經(jīng)太陽光光催化降解實(shí)驗(yàn),每隔30分鐘取4毫升已降解的溶液,取約3毫升上層離心后的溶液,用于紫外-可見光譜的測量。

      (d)在紫外-可見光譜測量中,用待降解物的主吸收波長處的摩爾吸光強(qiáng)度作為光催化降解的衡量標(biāo)準(zhǔn),并與同樣方法制備純ZnO ZDs的光催化劑情況進(jìn)行比較。

      由說明附圖7和附圖8可知,經(jīng)原位合成的ZnTSPc/ZnO 的光催化劑,不但在可見光下可以降解有機(jī)污染物,不僅光催化降解速率被大大的提高,單獨(dú)降解PL的降解率可達(dá)57%,是純氧化鋅(47%)的1.2倍,單獨(dú)降解MB的降解率可達(dá)86%,是純氧化鋅(58%)的1.5倍,同時在混合溶液中ZnTSPc/ZnO降解MB(84.4%)是PL(17.9%)的4.7倍,對親水性的待降解物(MB)表現(xiàn)出選擇性。

      以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,凡依本發(fā)明申請專利范圍所做的均等變化與修飾,皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。

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