1.一種低溫等離子體廢氣處理設(shè)備，包括殼體；所述殼體內(nèi)部設(shè)有洗滌裝置、無源脫霧裝置、風(fēng)力脫霧裝置、多孔吸附裝置、等離子處理裝置；所述殼體設(shè)有進(jìn)風(fēng)口與出風(fēng)口；所述洗滌裝置、無源脫霧裝置、風(fēng)力脫霧裝置、多孔吸附裝置、等離子處理裝置從進(jìn)風(fēng)口到出風(fēng)口依次排列；所述洗滌裝置包括文氏管結(jié)構(gòu)的通風(fēng)道、循環(huán)泵、噴頭、洗滌液箱；所述洗滌液箱位于殼體底部；所述噴頭位于所述文氏管結(jié)構(gòu)的通風(fēng)道內(nèi)；所述文氏管結(jié)構(gòu)的通風(fēng)道大口端安裝在進(jìn)風(fēng)口內(nèi)側(cè)；所述循環(huán)泵位于殼體底部；所述循環(huán)泵的進(jìn)口與洗滌液箱連通，出口接有洗滌液管；所述洗滌液管穿進(jìn)文氏管結(jié)構(gòu)的通風(fēng)道內(nèi)；所述噴頭安裝在洗滌液管上；所述無源脫霧裝置為無動力轉(zhuǎn)動葉片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述低溫等離子體廢氣處理設(shè)備，其特征在于：所述洗滌裝置包括三個(gè)文氏管結(jié)構(gòu)的通風(fēng)道。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述低溫等離子體廢氣處理設(shè)備，其特征在于：所述多孔吸附裝置的精度為600-800目。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述低溫等離子體廢氣處理設(shè)備，其特征在于：所述噴頭上下成對設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述低溫等離子體廢氣處理設(shè)備，其特征在于：所述文氏管結(jié)構(gòu)的通風(fēng)道下端與洗滌液箱中洗滌液平面的距離為文濕洗滌裝置高度的30-35%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述低溫等離子體廢氣處理設(shè)備，其特征在于：所述等離子處理裝置為蜂窩電場裝置和/或極片電場裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述低溫等離子體廢氣處理設(shè)備，其特征在于：所述多孔吸附裝置為活性炭濾網(wǎng)。