本實(shí)用新型涉及石墨裝置生產(chǎn)領(lǐng)域，尤其涉及一種急冷式吸收塔。

背景技術(shù)：

吸收塔是實(shí)現(xiàn)吸收操作的設(shè)備。按氣液相接觸形態(tài)分為三類(lèi)，第一類(lèi)是氣體以氣泡形態(tài)分散在液相中的板式塔、鼓泡吸收塔、攪拌鼓泡吸收塔；第二類(lèi)是液體以液滴狀分散在氣相中的噴射器、文氏管、噴霧塔；第三類(lèi)為液體以膜狀運(yùn)動(dòng)與氣相進(jìn)行接觸的填料吸收塔和降膜吸收塔。塔內(nèi)氣液兩相的流動(dòng)方式可以逆流也可并流。通常采用逆流操作，吸收劑以塔頂加入自上而下流動(dòng)，與氣體接觸，吸收了吸收質(zhì)的液體和凈化后的氣體從塔底排出。

一般的在對(duì)高溫的煙氣進(jìn)行吸收處理的時(shí)需要對(duì)，吸收塔的冷卻效果不理想，在吸收后的氣體在排出時(shí)溫度仍很高且液體跟煙氣接觸時(shí)間短，液體分布不均勻造成吸收塔在對(duì)高溫廢氣吸收時(shí)的吸收不充。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種急冷式吸收塔，能夠使得高溫液體在經(jīng)過(guò)吸收塔后溫度能夠快速降低，且能夠在吸收塔內(nèi)充分吸收煙氣中的物質(zhì)。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：一種急冷式吸收塔，急冷式吸收塔包括鋼制外殼和內(nèi)襯石墨；其創(chuàng)新點(diǎn)在于：該急冷式吸收塔包括：進(jìn)氣管、噴淋層、吸收層、冷卻層和排料層；所述噴淋層、吸收層、冷卻層和排料層自上而下依次設(shè)置；

所述噴淋層的頂端設(shè)置有噴淋口，噴淋口在噴淋層內(nèi)豎直方向上連接有噴淋管，噴淋層的側(cè)壁上開(kāi)有管道接口，所述進(jìn)氣管與噴淋層側(cè)壁上的管道接口垂直相連；所述噴淋層的底端設(shè)置有液體分布器a；

所述吸收層置于噴淋層的下方，吸收層包括吸收填料，吸收填料在吸收層內(nèi)均勻規(guī)整排列，吸收填料的下方設(shè)置有液體分布器b；吸收層的高度與噴淋層的高度比為2:1；

所述冷卻層位于吸收層的下方，冷卻層包括冷卻管、冷卻液進(jìn)口和冷卻液出口；所述冷卻液進(jìn)口位于冷卻層的底端，冷卻液出口位于冷卻層的頂端，冷卻液出口與冷卻液進(jìn)口之間采用冷卻管相連，所述冷卻管在冷卻層中呈螺旋狀分布；

所述排料層位于冷卻層的下方，排料層的底端設(shè)置有排液口，排料層的側(cè)邊底端設(shè)置有排氣口。

進(jìn)一步的，所述進(jìn)氣管、噴淋層和吸收層的外側(cè)面設(shè)置有預(yù)冷卻層，該預(yù)冷卻層即在吸收塔的鋼制外殼與石墨層之間形成的空腔結(jié)構(gòu)，通過(guò)在鋼制外殼上設(shè)置若干個(gè)冷卻液接口，實(shí)現(xiàn)冷卻液在進(jìn)氣管、噴淋層和吸收層之間實(shí)現(xiàn)冷卻循環(huán)。

進(jìn)一步的，所述液體分布器a包括石墨筒體、石墨管和石墨板層；所述石墨筒體為頂端開(kāi)口底端封閉的器皿狀結(jié)構(gòu)，石墨筒體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有定位卡槽；所述石墨筒體的底面上均勻分布有若干個(gè)石墨管安裝孔；所述石墨板層呈圓柱狀且嵌入在石墨筒體的內(nèi)側(cè)壁的定位卡槽內(nèi)，石墨板層垂直于石墨筒體的內(nèi)側(cè)壁；所述石墨板層上端面的中心位置設(shè)置有一個(gè)儲(chǔ)液槽，在儲(chǔ)液槽的四周開(kāi)設(shè)有若干個(gè)溢流孔，溢流孔上設(shè)置有溢流擋板，溢流擋板的底端與溢流孔相連，石墨板層上均勻設(shè)置有若干個(gè)石墨管安裝孔；所述石墨管嵌入安裝在石墨筒體底面的石墨管安裝孔內(nèi)，位于石墨板層上的石墨管安裝孔其兩端均安裝有石墨管；所述石墨板層上的儲(chǔ)液槽與溢流孔以及石墨板層的上端面形成第一分布層；石墨板層的低端與石墨筒體的底端面之間形成第二分布層。

進(jìn)一步的，所述液體分布器b包括液體分布板和石墨管，液體分布板上設(shè)置有石墨管安裝孔，石墨管安裝在液體分布板上。

進(jìn)一步的，所述石墨板層上溢流擋板的高度與儲(chǔ)液槽的高度相同，且均高于石墨板層上端面石墨管的高度。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：1）通過(guò)采用預(yù)冷卻系統(tǒng)和冷卻層對(duì)高溫?zé)煔庠谖账?nèi)進(jìn)行預(yù)冷卻和快速冷卻，實(shí)現(xiàn)了對(duì)高溫?zé)煔膺M(jìn)行快速降溫的目的。

2）液體分布器a通過(guò)采用雙層的分布方式使得液體在經(jīng)過(guò)第一分布層時(shí)能夠進(jìn)行緩慢的液體分布，若是有大量的液體需要分布還會(huì)通過(guò)溢流孔溢出到第二分布層再進(jìn)行液體均勻分布，使液體經(jīng)過(guò)分布器后液體能夠均勻的從分布器上流出，便于煙氣與噴液充分接觸，提高對(duì)煙氣里面物質(zhì)的吸收。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。

圖1為急冷式吸收塔的主視圖。

圖2為急冷式吸收塔的局部放大A圖。

圖3為急冷式吸收塔的局部放大B圖。

圖4為急冷式吸收塔的局部放大C圖。

圖5為急冷式吸收塔的液體分布器a主視圖。

具體實(shí)施方式

下面的實(shí)施例可以使本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員更全面地理解本實(shí)用新型，但并不因此將本實(shí)用新型限制在所述的實(shí)施例范圍之中。

如圖1至圖5所示的一種急冷式吸收塔，急冷式吸收塔包括鋼制外殼和內(nèi)襯石墨，該急冷式吸收塔包括：進(jìn)氣管1、噴淋層2、吸收層3、冷卻層4和排料層5；所述噴淋層2、吸收層3、冷卻層4和排料層5自上而下依次設(shè)置。

噴淋層2的頂端設(shè)置有噴淋口21，噴淋口21在噴淋層2內(nèi)豎直方向上連接有噴淋管22，噴淋層2的側(cè)壁上開(kāi)有管道接口，所述進(jìn)氣管1與噴淋層2側(cè)壁上的管道接口垂直相連；所述噴淋層2的底端設(shè)置有液體分布器6a。

吸收層3置于噴淋層2的下方，吸收層3包括吸收填料31，吸收填料31在吸收層3內(nèi)均勻規(guī)整排列，吸收填料31的下方設(shè)置有液體分布器6b；吸收層3的高度與噴淋層2的高度比為2:1。

冷卻層4位于吸收層3的下方，冷卻層4包括冷卻管41、冷卻液進(jìn)口42和冷卻液出口43；所述冷卻液進(jìn)口42位于冷卻層4的底端，冷卻液出口43位于冷卻層4的頂端，冷卻液出口43與冷卻液進(jìn)口42之間采用冷卻管41相連，所述冷卻管41在冷卻層4中呈螺旋狀分布。

排料層5位于冷卻層4的下方，排料層5的底端設(shè)置有排液口51，排料層5的側(cè)邊底端設(shè)置有排氣口52。

進(jìn)氣管1、噴淋層2和吸收層3的外側(cè)面設(shè)置有預(yù)冷卻層7，該預(yù)冷卻層7即在吸收塔的鋼制外殼8與石墨層9之間形成的空腔結(jié)構(gòu)，通過(guò)在鋼制外殼8上設(shè)置若干個(gè)冷卻液接口10，實(shí)現(xiàn)冷卻液在進(jìn)氣管1、噴淋層2和吸收層3之間實(shí)現(xiàn)冷卻循環(huán)。

液體分布器6a包括石墨筒體61、石墨管62和石墨板層63；所述石墨筒體61為頂端開(kāi)口底端封閉的器皿狀結(jié)構(gòu)，石墨筒體61的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有定位卡槽；所述石墨筒體61的底面上均勻分布有若干個(gè)石墨管安裝孔64；所述石墨板層63呈圓柱狀且嵌入在石墨筒體61的內(nèi)側(cè)壁的定位卡槽內(nèi)，石墨板層63垂直于石墨筒體61的內(nèi)側(cè)壁；所述石墨板層63上端面的中心位置設(shè)置有一個(gè)儲(chǔ)液槽65，在儲(chǔ)液槽65的四周開(kāi)設(shè)有若干個(gè)溢流孔66，溢流孔66上設(shè)置有溢流擋板67，溢流擋板67的底端與溢流孔66相連，石墨板層63上均勻設(shè)置有若干個(gè)石墨管安裝孔64；所述石墨管62嵌入安裝在石墨筒體61底面的石墨管安裝孔64內(nèi)，位于石墨板層63上的石墨管安裝孔64其兩端均安裝有石墨管62；所述石墨板層63上的儲(chǔ)液槽65與溢流孔66以及石墨板層63的上端面形成第一分布層68；石墨板層63的低端與石墨筒體61的底端面之間形成第二分布層69。

液體分布器6b包括液體分布板和石墨管62，液體分布板上設(shè)置有石墨管安裝孔64，石墨管62安裝在液體分布板上。

石墨板層63上溢流擋板67的高度與儲(chǔ)液槽65的高度相同，且均高于石墨板層63上端面石墨管62的高度。

本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書(shū)及其等效物界定。