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      節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點(diǎn)拋光輥的制作方法

      文檔序號(hào):11743299閱讀:302來(lái)源:國(guó)知局
      節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點(diǎn)拋光輥的制作方法與工藝

      本實(shí)用新型涉及一種大米拋光機(jī)的拋光輥,具體的說(shuō)是一種節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點(diǎn)拋光輥。



      背景技術(shù):

      由于表面亮度越高的大米,其保藏時(shí)間越長(zhǎng),且越容易被消費(fèi)者所青睞,所以能夠?qū)Υ竺妆砻孢M(jìn)行研磨拋光的大米拋光機(jī)在糧機(jī)行業(yè)中應(yīng)用非常廣泛,市場(chǎng)需求量很大。在將大米放入到大米拋光機(jī)內(nèi)進(jìn)行研磨拋光時(shí),大米需要與大米拋光機(jī)中的拋光輥本體進(jìn)行接觸,拋光輥本體在轉(zhuǎn)動(dòng)的過(guò)程中實(shí)現(xiàn)對(duì)大米的研磨拋光。當(dāng)拋光輥本體在對(duì)大米進(jìn)行研磨拋光時(shí),由于大米自身的硬度較低,故大米在經(jīng)過(guò)拋光輥本體研磨拋光后,不可避免的會(huì)產(chǎn)生一定量的碎米。

      在現(xiàn)有技術(shù)中,考慮到碎米的價(jià)格和整米的價(jià)格差異較大(碎米價(jià)格僅為整米價(jià)格的一半),且大米自身的硬度較低的情況,因此,為了降低碎米率,人們通常會(huì)采用盡量控制(減少)大米在研磨拋光時(shí)所受到的作用力,盡量控制(減少)大米在拋光室內(nèi)的翻滾次數(shù),盡量控制(減少)大米在拋光室內(nèi)的時(shí)間的技術(shù)手段。

      因此,在糧機(jī)行業(yè)中,鑒于拋光板的外壁越光滑,大米在研磨拋光時(shí)所受到的作用力越小,大米在拋光室內(nèi)的翻滾次數(shù)越少,大米與拋光輥本體的接觸時(shí)間越少的特點(diǎn),人們?yōu)榱私档退槊茁?,常采用將拋光板的外壁進(jìn)行表面拋光處理的技術(shù)手段,從而使拋光板的外壁保持光滑。

      由此可知,在糧機(jī)行業(yè)中,在采用大米拋光機(jī)對(duì)大米進(jìn)行研磨拋光時(shí),人們偏見的認(rèn)為拋光板的外壁應(yīng)該越光滑越好,拋光板的外壁越光滑,大米在研磨拋光的過(guò)程中就越不容易產(chǎn)生碎米。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本實(shí)用新型的目的是為了克服背景技術(shù)的不足之處,而提供一種節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點(diǎn)拋光輥,它不僅對(duì)碎米率無(wú)影響,而且克服了現(xiàn)有技術(shù)中人們所認(rèn)為的拋光板的外壁越光滑,大米在研磨拋光時(shí)越不容易產(chǎn)生碎米的偏見。

      為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案為:節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點(diǎn)拋光輥,包括拋光輥本體,所述拋光輥本體包括多個(gè)延拋光輥本體的軸向布置的單元體,相鄰單元體之間設(shè)有若干通風(fēng)噴水槽,所述單元體包括拋光筋和拋光板,拋光筋位于拋光板和通風(fēng)噴水槽之間,其特征在于:所述拋光板的外壁上設(shè)有多排間隔布置的拋光凹點(diǎn)組,每排拋光凹點(diǎn)組均由多個(gè)間隔布置的拋光凹點(diǎn)構(gòu)成。

      在上述技術(shù)方案中,所述多排拋光凹點(diǎn)組包括第一拋光凹點(diǎn)組和與第一拋光凹點(diǎn)組呈相鄰布置的第二拋光凹點(diǎn)組,第一拋光凹點(diǎn)組中相鄰兩個(gè)拋光凹點(diǎn)之間的間隙為第一間隙,第二拋光凹點(diǎn)組中相鄰兩個(gè)拋光凹點(diǎn)之間的間隙為第二間隙,相鄰的第一間隙的中心和第二間隙的中心在拋光板上呈共線布置,所述第一拋光凹點(diǎn)組和第二拋光凹點(diǎn)組之間的中心距為1.5~4倍的拋光凹點(diǎn)直徑。

      在上述技術(shù)方案中,所述多排拋光凹點(diǎn)組包括第一拋光凹點(diǎn)組和與第一拋光凹點(diǎn)組呈相鄰布置的第二拋光凹點(diǎn)組,第一拋光凹點(diǎn)組中相鄰兩個(gè)拋光凹點(diǎn)之間的間隙為第一間隙,第二拋光凹點(diǎn)組中相鄰兩個(gè)拋光凹點(diǎn)之間的間隙為第二間隙,相鄰的第一間隙和第二間隙在拋光板上呈交錯(cuò)布置,所述第一拋光凹點(diǎn)組和第二拋光凹點(diǎn)組之間的中心距為1~3倍的拋光凹點(diǎn)直徑。

      在上述技術(shù)方案中,所述拋光凹點(diǎn)的高為1~5mm,拋光凹點(diǎn)的直徑為5~50mm。

      在上述技術(shù)方案中,所述拋光凹點(diǎn)的高為2~4mm,拋光凹點(diǎn)的直徑為10~30mm。

      在上述技術(shù)方案中,所述拋光輥本體由與電機(jī)的輸出端連接的前拋光輥,和與軸承座連接的后拋光輥構(gòu)成,前拋光輥呈傾斜布置,后拋光輥呈水平布置,前拋光輥的中心線和后拋光輥的中心線之間的夾角為2~10°。

      在上述技術(shù)方案中,所述前拋光輥的中心線和后拋光輥的中心線之間的夾角為3~7°。

      綜上所述,本發(fā)明不僅對(duì)碎米率無(wú)影響,克服了現(xiàn)有技術(shù)中人們所認(rèn)為的拋光板的外壁越光滑,大米在研磨拋光時(shí)越不容易產(chǎn)生碎米的偏見,而且還增加了大米在拋光過(guò)程中所受到的摩擦力,增大了大米與拋光輥本體的接觸面積,增加了大米在拋光室內(nèi)單位時(shí)間的翻滾次數(shù)。同時(shí),采用本發(fā)明的大米拋光機(jī)的工作效率更高,節(jié)省了電能,其加工出來(lái)的大米的表面亮度更高,碎米率更低,能夠保藏的時(shí)間更長(zhǎng)。

      附圖說(shuō)明

      圖1為當(dāng)拋光凹點(diǎn)7在拋光輥本體1呈錯(cuò)位布置時(shí),本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖2為當(dāng)拋光凹點(diǎn)7在拋光輥本體1呈整列布置時(shí),本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖3為圖1的A-A剖視圖。

      圖中1-拋光輥本體,2-單元體,3-通風(fēng)噴水槽,4-拋光筋,5-拋光板,6-拋光凹點(diǎn)組,61-第一拋光凹點(diǎn)組,62-第二拋光凹點(diǎn)組,7-拋光凹點(diǎn),8-后拋光輥9-第一間隙,10-第二間隙,11-前拋光輥。

      具體實(shí)施方式

      下面結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施情況,但它們并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限定,僅作舉例而已。同時(shí)通過(guò)說(shuō)明使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)更加清楚和容易理解。

      參閱附圖可知:節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點(diǎn)拋光輥,包括拋光輥本體1,所述拋光輥本體1包括多個(gè)延拋光輥本體1的軸向布置的單元體2,相鄰單元體2之間設(shè)有若干通風(fēng)噴水槽3,所述單元體2包括拋光筋4和拋光板5,拋光筋4位于拋光板5和通風(fēng)噴水槽3之間,所述拋光板5的外壁上設(shè)有多排間隔布置的拋光凹點(diǎn)組6,每排拋光凹點(diǎn)組6均由多個(gè)間隔布置的拋光凹點(diǎn)7構(gòu)成。

      作為舉例,結(jié)合附圖可知,本實(shí)施例只列出了拋光凹點(diǎn)7的橫截面為圓形的情形,但實(shí)際工作時(shí),人們可以根據(jù)需要將拋光凹點(diǎn)7設(shè)置為其它的規(guī)則形狀(必須無(wú)菱角),如橢圓形,其中,以拋光凹點(diǎn)7的橫截面為圓形時(shí),本實(shí)用新型的實(shí)施效果最佳。

      實(shí)際工作時(shí),拋光輥本體1上的多個(gè)拋光凹點(diǎn)7可以采用多種布置方式,只要所述多個(gè)拋光凹點(diǎn)7在拋光輥本體1上滿足能使大米在拋光過(guò)程中所受到的作用力均勻且作用力較小即可,如所述多個(gè)拋光凹點(diǎn)7可以在拋光輥本體1呈整列布置的方式,也可采用呈錯(cuò)位布置的方式。

      如圖2所示,拋光凹點(diǎn)7可以在拋光輥本體1上采用如下整列布置的方式:所述多排拋光凹點(diǎn)組6包括第一拋光凹點(diǎn)組61和與第一拋光凹點(diǎn)組61呈相鄰布置的第二拋光凹點(diǎn)組62,第一拋光凹點(diǎn)組61中相鄰兩個(gè)拋光凹點(diǎn)7之間的間隙為第一間隙9,第二拋光凹點(diǎn)組62中相鄰兩個(gè)拋光凹點(diǎn)7之間的間隙為第二間隙10,相鄰的第一間隙9的中心和第二間隙10的中心在拋光板5上呈共線布置,所述第一拋光凹點(diǎn)組61和第二拋光凹點(diǎn)組62之間的中心距為1.5~4倍的拋光凹點(diǎn)7直徑。

      如圖1所示,拋光凹點(diǎn)7在拋光輥本體1上也可以采用如下錯(cuò)位布置的方式:所述多排拋光凹點(diǎn)組6包括第一拋光凹點(diǎn)組61和與第一拋光凹點(diǎn)組61呈相鄰布置的第二拋光凹點(diǎn)組62,第一拋光凹點(diǎn)組61中相鄰兩個(gè)拋光凹點(diǎn)7之間的間隙為第一間隙9,第二拋光凹點(diǎn)組62中相鄰兩個(gè)拋光凹點(diǎn)7之間的間隙為第二間隙10,相鄰的第一間隙9和第二間隙10在拋光板5上呈交錯(cuò)布置,所述第一拋光凹點(diǎn)組61和第二拋光凹點(diǎn)組62之間的中心距為1~3倍的拋光凹點(diǎn)7直徑。

      實(shí)際工作時(shí),所述拋光凹點(diǎn)7的高應(yīng)為1~5mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑應(yīng)為5~50mm,當(dāng)拋光凹點(diǎn)7的技術(shù)參數(shù)(高和直徑)不在上述范圍內(nèi)時(shí),碎米率將會(huì)增加。優(yōu)選的,所述拋光凹點(diǎn)7的高為2~4mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑為10~30mm。經(jīng)研究發(fā)現(xiàn),拋光凹點(diǎn)7的高和直徑呈正比關(guān)系,人們可以采用幾種技術(shù)方案:a、拋光凹點(diǎn)7高的1mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑為5mm;b、拋光凹點(diǎn)7高的2mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑為12mm;c、拋光凹點(diǎn)7高的2.5mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑為16.5mm;d、拋光凹點(diǎn)7高的3mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑為20mm;e、拋光凹點(diǎn)7高的3.5mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑為25mm;f、拋光凹點(diǎn)7高的4mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑為30mm;g、拋光凹點(diǎn)7高的5mm,拋光凹點(diǎn)7的直徑為50mm;

      實(shí)際工作時(shí),本實(shí)用新型是安裝在大米拋光室內(nèi)的,拋光輥本體1由與電機(jī)的輸出端連接的前拋光輥11,和與軸承座連接的后拋光輥8構(gòu)成,前拋光輥11呈傾斜布置,后拋光輥8呈水平布置,前拋光輥11主要起到研磨拋光的作用,后拋光輥主要起到緩沖的作用,前拋光輥11的中心線和后拋光輥8的中心線之間的夾角為2~10°。優(yōu)選的,所述前拋光輥11的中心線和后拋光輥8的中心線之間的夾角為3~7°。經(jīng)研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)前拋光輥11的中心線和后拋光輥8的中心線之間的夾角為4~6°(優(yōu)選為5°)時(shí),采用本實(shí)用新型的大米拋光機(jī)的工作效率更高,其加工出來(lái)的大米的表面亮度更好,大米的保藏時(shí)間更長(zhǎng)。

      其它未說(shuō)明的部分均屬于現(xiàn)有技術(shù)。

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