本發(fā)明涉及廢氣處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種rto廢氣分離收集裝置及其控制方法。

背景技術(shù)：

蓄熱式氧化爐，簡(jiǎn)稱rto。其原理是在高溫下將廢氣中的有機(jī)物氧化成對(duì)應(yīng)的二氧化碳和水，從而凈化廢氣，并回收廢氣分解時(shí)所釋放出來(lái)的熱量，三塔式rto廢氣分解效率達(dá)到99％以上，熱回收效率達(dá)到95％以上。rto主體結(jié)構(gòu)由氧化室、蓄熱室和切換閥等組成。根據(jù)客戶實(shí)際需求，選擇不同的熱能回收方式和切換閥方式。

其中，現(xiàn)有技術(shù)中，兩塔式rto設(shè)備廣泛應(yīng)用于有機(jī)廢氣處理過(guò)程中，但是兩塔式rto的閥門在切換的時(shí)候，會(huì)導(dǎo)致不符合環(huán)境排放標(biāo)準(zhǔn)的廢氣泄露，并與達(dá)標(biāo)廢氣一起進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備中或者排入大氣中，造成環(huán)境污染。

因此，本申請(qǐng)人致力于提供一種新型的rto廢氣分離收集裝置及其控制方法以解決上述問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種rto廢氣分離收集裝置及其控制方法，能夠避免rto設(shè)備的閥門切換導(dǎo)致的不符合環(huán)境排放標(biāo)準(zhǔn)的廢氣泄露，保證進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備或者排入大氣中的廢氣符合環(huán)境排放標(biāo)準(zhǔn)。

本發(fā)明提供的技術(shù)方案如下：

一種rto廢氣分離收集裝置，包括：殼體，所述殼體依次分為達(dá)標(biāo)氣室、分離氣室和超標(biāo)儲(chǔ)氣室，所述分離氣室的側(cè)壁上開(kāi)有一供廢氣進(jìn)入的廢氣入口，所述達(dá)標(biāo)氣室的側(cè)壁上開(kāi)有一供達(dá)標(biāo)廢氣排出的達(dá)標(biāo)氣體出口，所述超標(biāo)儲(chǔ)氣室的側(cè)壁上開(kāi)有一供超標(biāo)氣體排出的廢氣出口；活動(dòng)膜片，所述活動(dòng)膜片設(shè)置于所述殼體內(nèi)；執(zhí)行機(jī)構(gòu)，所述執(zhí)行機(jī)構(gòu)與所述活動(dòng)膜片連接；當(dāng)所述活動(dòng)膜片位于第一預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述分離氣室與超標(biāo)儲(chǔ)氣室連通，所述分離氣室與達(dá)標(biāo)氣室隔斷；當(dāng)所述活動(dòng)膜片位于第二預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述分離氣室與達(dá)標(biāo)氣室連通，所述分離氣室與超標(biāo)儲(chǔ)氣室隔斷。

上述結(jié)構(gòu)中，通過(guò)殼體內(nèi)部設(shè)置活動(dòng)膜片，并通過(guò)執(zhí)行機(jī)構(gòu)來(lái)控制活動(dòng)膜片的運(yùn)行狀態(tài)，通過(guò)改變活動(dòng)膜片的位置實(shí)現(xiàn)將廢氣分別引向達(dá)標(biāo)氣室或者超標(biāo)儲(chǔ)氣室。當(dāng)廢氣為超標(biāo)廢氣時(shí)，活動(dòng)膜片位于第一預(yù)設(shè)位置，此時(shí)廢氣被導(dǎo)入超標(biāo)儲(chǔ)氣室，最后通過(guò)廢氣出口返回rto設(shè)備中繼續(xù)處理，當(dāng)廢氣為達(dá)標(biāo)廢氣時(shí)，活動(dòng)膜片位于第二預(yù)設(shè)位置，此時(shí)廢氣被導(dǎo)入達(dá)標(biāo)氣室，并通過(guò)達(dá)標(biāo)氣體出口被排入后續(xù)設(shè)備或者大氣中。這樣的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)能夠根據(jù)廢氣的不同情況選擇不同的路徑，保證了通入后續(xù)設(shè)備或者通入大氣的廢氣符合環(huán)境排放標(biāo)準(zhǔn)。

優(yōu)選地，所述rto廢氣分離收集裝置還包括：控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)與執(zhí)行機(jī)構(gòu)連接。

上述結(jié)構(gòu)中，通過(guò)設(shè)置一個(gè)控制系統(tǒng)并將其與執(zhí)行機(jī)構(gòu)連接，用以自動(dòng)控制執(zhí)行機(jī)構(gòu)的運(yùn)行，進(jìn)而自動(dòng)控制活動(dòng)膜片的位置，實(shí)現(xiàn)工業(yè)自動(dòng)化，節(jié)約人力物力。

優(yōu)選地，所述分離氣室內(nèi)設(shè)有氣體濃度測(cè)量機(jī)構(gòu)；所述氣體濃度測(cè)量機(jī)構(gòu)與所述控制系統(tǒng)連接。

上述結(jié)構(gòu)中，在分離氣室內(nèi)設(shè)置氣體濃度測(cè)量機(jī)構(gòu)，能夠直接獲取實(shí)時(shí)分離氣室的廢氣濃度，進(jìn)一步保證被排入后續(xù)設(shè)備或者排入大氣的廢氣符合環(huán)境排放標(biāo)準(zhǔn)。

優(yōu)選地，所述分離氣室與超標(biāo)儲(chǔ)氣室之間設(shè)有超標(biāo)廢氣分離孔，所述分離氣室與超標(biāo)儲(chǔ)氣室通過(guò)所述超標(biāo)廢氣分離孔連通，所述超標(biāo)廢氣分離孔的尺寸小于所述活動(dòng)膜片的尺寸；所述分離氣室與達(dá)標(biāo)氣室之間設(shè)有達(dá)標(biāo)廢氣分離孔，所述達(dá)標(biāo)氣室與分離氣室通過(guò)所述達(dá)標(biāo)廢氣分離孔連通，所述達(dá)標(biāo)廢氣分離孔的尺寸小于所述活動(dòng)膜片的尺寸。

上述結(jié)構(gòu)中，通過(guò)分別設(shè)置超標(biāo)廢氣分離孔和達(dá)標(biāo)廢氣分離孔來(lái)實(shí)現(xiàn)分離氣室與超標(biāo)儲(chǔ)氣室和達(dá)標(biāo)氣室與分離氣室的連通或者隔斷，當(dāng)隔斷分離氣室和達(dá)標(biāo)氣室時(shí)，活動(dòng)膜片能夠完全覆蓋達(dá)標(biāo)廢氣分離孔，密封性更好。

優(yōu)選地，所述活動(dòng)膜片為耐腐蝕耐高溫膜片。

上述結(jié)構(gòu)中，活動(dòng)膜片采用耐腐蝕耐高溫能夠避免活動(dòng)膜片長(zhǎng)時(shí)間在高溫和腐蝕條件下產(chǎn)生腐蝕或生銹，延長(zhǎng)了活動(dòng)膜片的使用壽命。

優(yōu)選地，所述殼體上開(kāi)有用于維修的人孔。

上述結(jié)構(gòu)中，在殼體上開(kāi)有人孔能夠方便在設(shè)備出現(xiàn)故障的時(shí)候，及時(shí)通過(guò)人孔進(jìn)入殼體內(nèi)部進(jìn)行維修。

一種適用于rto廢氣分離收集裝置的控制方法，包括如下步驟：s100：設(shè)置活動(dòng)膜片在所述第一預(yù)設(shè)位置處，開(kāi)始向所述rto廢氣分離收集裝置中通入所述廢氣；s200：判斷廢氣通過(guò)量是否達(dá)到預(yù)設(shè)范圍，若是，則執(zhí)行s300；s300：將活動(dòng)膜片從所述第一預(yù)設(shè)位置移動(dòng)到所述第二預(yù)設(shè)位置。

上述方法中，通過(guò)判斷廢氣通過(guò)量是否達(dá)到預(yù)設(shè)范圍，決定活動(dòng)膜片的具體位置，能夠保證在廢氣為超標(biāo)廢氣時(shí)被通入超標(biāo)儲(chǔ)氣室，在廢氣為達(dá)標(biāo)廢氣時(shí)被通入達(dá)標(biāo)氣室，實(shí)現(xiàn)達(dá)標(biāo)廢氣和超標(biāo)廢氣的分離，避免超標(biāo)廢氣進(jìn)入后續(xù)設(shè)備或者大氣中。

優(yōu)選地，所述步驟s200包括獲取當(dāng)前廢氣通入時(shí)間t1，比較t1與預(yù)設(shè)的廢氣通入標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間t的大小，若t1＜t，則不移動(dòng)所述活動(dòng)膜片，若t1≥t，則執(zhí)行s300。

上述方法中，由于rto設(shè)備排出的廢氣會(huì)分為兩段，前一段為超標(biāo)廢氣，后一段為達(dá)標(biāo)廢氣，廢氣通入標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間t為通過(guò)上游rto設(shè)備計(jì)算確定的超標(biāo)廢氣通過(guò)廢氣入口所需要的時(shí)間。當(dāng)當(dāng)前廢氣通入時(shí)間t1＜t時(shí)，說(shuō)明廢氣中的超標(biāo)氣體還沒(méi)有完全進(jìn)入超標(biāo)儲(chǔ)氣室內(nèi)，此時(shí)保持活動(dòng)膜片在第一預(yù)設(shè)位置，當(dāng)當(dāng)前廢氣通入時(shí)間t1≥t時(shí)，說(shuō)明廢氣中的超標(biāo)氣體已完全進(jìn)入超標(biāo)儲(chǔ)氣室內(nèi)，此時(shí)，將活動(dòng)膜片移動(dòng)到第二預(yù)設(shè)位置處，將達(dá)標(biāo)的廢氣通入達(dá)標(biāo)氣室，最后導(dǎo)入后續(xù)設(shè)備或者大氣中。

優(yōu)選地，所述步驟s200包括獲取分離氣室的當(dāng)前廢氣濃度q1，比較q1與預(yù)設(shè)的廢氣排放標(biāo)準(zhǔn)濃度q大小，若q1＞q，則不移動(dòng)所述活動(dòng)膜片，若q1≤q，則執(zhí)行s300。

上述方法中，通過(guò)獲取在分離氣室內(nèi)的廢氣濃度q1與廢氣排放標(biāo)準(zhǔn)濃度q作比較，當(dāng)q1＞q，說(shuō)明此時(shí)廢氣為超標(biāo)廢氣，則保持活動(dòng)膜片在第一預(yù)設(shè)位置處，當(dāng)q1≤q，說(shuō)明此時(shí)廢氣為達(dá)標(biāo)廢氣，將活動(dòng)膜片移動(dòng)到第二預(yù)設(shè)位置處，進(jìn)而將分離氣室與達(dá)標(biāo)氣室導(dǎo)通，將達(dá)標(biāo)廢氣通過(guò)達(dá)標(biāo)氣室通入后續(xù)設(shè)備或者大氣中。

優(yōu)選地，所述rto廢氣分離收集裝置的控制方法還包括步驟：s400：所述超標(biāo)儲(chǔ)氣室內(nèi)的所述廢氣通過(guò)所述廢氣出口返回至rto設(shè)備處理。

上述方法中，將超標(biāo)儲(chǔ)氣室內(nèi)的氣體通過(guò)廢氣出口返回rto設(shè)備中進(jìn)行處理，提高了rto設(shè)備的分解率。

本發(fā)明提供的一種rto廢氣分離收集裝置及其控制方法，能夠帶來(lái)以下有益效果：

本發(fā)明提供了一種rto廢氣分離收集裝置及其控制方法，通過(guò)根據(jù)rto設(shè)備排出廢氣的不同情況，隨時(shí)改變活動(dòng)膜片的位置，實(shí)現(xiàn)對(duì)廢氣中的超標(biāo)廢氣通入超標(biāo)儲(chǔ)氣室，并將達(dá)標(biāo)廢氣通入達(dá)標(biāo)氣室中，并從達(dá)標(biāo)氣室排入后續(xù)設(shè)備或者大氣中，解決了rto設(shè)備直接排出的氣體由于閥門切換而導(dǎo)致不符合環(huán)境排放標(biāo)準(zhǔn)的廢氣泄露，更有利于保護(hù)環(huán)境。

附圖說(shuō)明

下面將以明確易懂的方式，結(jié)合附圖說(shuō)明優(yōu)選實(shí)施方式，對(duì)rto廢氣分離收集裝置及其控制方法的上述特性、技術(shù)特征、優(yōu)點(diǎn)及其實(shí)現(xiàn)方式予以進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是本發(fā)明的rto廢氣分離收集裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明：

1-殼體，1a-超標(biāo)儲(chǔ)氣室，1b-分離氣室，1c-達(dá)標(biāo)氣室，2-廢氣入口，3-達(dá)標(biāo)氣體出口，4-廢氣出口，5-活動(dòng)膜片，6-執(zhí)行機(jī)構(gòu)，7-廢氣，7a-超標(biāo)廢氣，7b-達(dá)標(biāo)廢氣，8-超標(biāo)廢氣分離孔，9-達(dá)標(biāo)廢氣分離孔，10-人孔，a-第一預(yù)設(shè)位置，b-第二預(yù)設(shè)位置。

具體實(shí)施方式

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)照附圖說(shuō)明本發(fā)明的具體實(shí)施方式。顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖，并獲得其他的實(shí)施方式。

為使圖面簡(jiǎn)潔，各圖中的只示意性地表示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分，它們并不代表其作為產(chǎn)品的實(shí)際結(jié)構(gòu)。

【實(shí)施例1】

如圖1所述，實(shí)施例1公開(kāi)了一種rto廢氣分離收集裝置的具體實(shí)施方式，包括：殼體1、設(shè)置在殼體1內(nèi)的活動(dòng)膜片5和與活動(dòng)膜片5連接的執(zhí)行機(jī)構(gòu)6，該執(zhí)行機(jī)構(gòu)6用于改變活動(dòng)膜片5在殼體1內(nèi)的位置。其中，殼體1分為依次連通的達(dá)標(biāo)氣室1c、分離氣室1b和超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a，分離氣室1b的側(cè)壁上開(kāi)有一個(gè)供rto廢氣7進(jìn)入的廢氣7入口2，達(dá)標(biāo)氣室1c的側(cè)壁上開(kāi)有一個(gè)供達(dá)標(biāo)廢氣7b排出的達(dá)標(biāo)氣體出口3，超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a的側(cè)壁上開(kāi)有一個(gè)供超標(biāo)廢氣7a排出的廢氣出口4，超標(biāo)廢氣7a通過(guò)該廢氣出口4被導(dǎo)回rto設(shè)備中繼續(xù)處理。其中，活動(dòng)膜片5為金屬片，執(zhí)行機(jī)構(gòu)6是電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)，執(zhí)行機(jī)構(gòu)6通過(guò)連桿與運(yùn)動(dòng)膜片5連接，且執(zhí)行機(jī)構(gòu)6設(shè)置在機(jī)殼1的外部。

如圖1所述，活動(dòng)膜片5可以在殼體1的分離氣室1b內(nèi)移動(dòng)，根據(jù)判斷廢氣7是超標(biāo)廢氣7a還是達(dá)標(biāo)廢氣7b決定活動(dòng)膜片5的位置，具體如下所述：

當(dāng)廢氣7為超標(biāo)廢氣7a時(shí)，活動(dòng)膜片5位于第一預(yù)設(shè)位置a，即位于分離氣室1b與達(dá)標(biāo)氣室1c之間時(shí)，此時(shí)分離氣室1b與超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a連通，分離氣室1b與達(dá)標(biāo)氣室1c隔斷，超標(biāo)廢氣7a依次經(jīng)過(guò)廢氣入口2、分離氣室1b、超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a和廢氣出口4，最后被導(dǎo)回rto設(shè)備中繼續(xù)進(jìn)行處理；

當(dāng)廢氣7為達(dá)標(biāo)廢氣7b時(shí)，活動(dòng)膜片5位于第二預(yù)設(shè)位置b，即位于分離氣室1b與超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a之間，此時(shí)分離氣室1b與達(dá)標(biāo)氣室1c連通，分離氣室1b與超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a隔斷，達(dá)標(biāo)廢氣7b依次經(jīng)過(guò)廢氣入口2、分離氣室1b、達(dá)標(biāo)氣室1c和達(dá)標(biāo)氣體出口3進(jìn)入后續(xù)設(shè)備或者大氣中。

本實(shí)施例的工作過(guò)程如下：

將活動(dòng)膜片5設(shè)置于第一預(yù)設(shè)位置a，獲取當(dāng)前廢氣通入時(shí)間t1，比較t1與預(yù)設(shè)的廢氣通入標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間t的大小，若t1≥t，則將活動(dòng)膜片5從第一預(yù)設(shè)位置a移動(dòng)到第二預(yù)設(shè)位置b。

本發(fā)明中，通過(guò)活動(dòng)膜片5在殼體1內(nèi)的位置變換，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)超標(biāo)廢氣7a與達(dá)標(biāo)廢氣7b的分離。在廢氣7為超標(biāo)廢氣7a時(shí)，將廢氣7先通入超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a儲(chǔ)存起來(lái)，再通過(guò)廢氣出口4將超標(biāo)廢氣7a導(dǎo)回rto設(shè)備中繼續(xù)處理，提高了有機(jī)廢氣的分解率。在廢氣7為達(dá)標(biāo)廢氣7b時(shí)，將廢氣7通過(guò)依次達(dá)標(biāo)氣室1c、達(dá)標(biāo)氣體出口3排出。實(shí)現(xiàn)超標(biāo)廢氣7a與達(dá)標(biāo)廢氣7b的分離，避免超標(biāo)廢氣7a進(jìn)入后續(xù)設(shè)備或者大氣中。

在其他具體實(shí)施例中，執(zhí)行機(jī)構(gòu)也可以是氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)，此處不再贅述。

【實(shí)施例2】

如圖1所述，實(shí)施例2在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，實(shí)施例2中的活動(dòng)膜片5為不銹鋼膜片，能夠耐高溫且不容易被腐蝕，適合長(zhǎng)時(shí)間使用，有利于延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命，且殼體1的頂部開(kāi)設(shè)有一個(gè)供維修工人通過(guò)的人孔10，當(dāng)設(shè)備出現(xiàn)故障時(shí)，維修工人可以通過(guò)人孔10進(jìn)入殼體1內(nèi)進(jìn)行檢修。

【實(shí)施例3】

如圖1所述，實(shí)施例3在實(shí)施例1或2的基礎(chǔ)上，實(shí)施例3的活動(dòng)膜片5為鐵片且在分離氣室1b與超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a之間設(shè)有超標(biāo)廢氣分離孔8，該超標(biāo)廢氣分離孔8的尺寸小于活動(dòng)膜片5的尺寸，分離氣室1b與達(dá)標(biāo)氣室1c之間設(shè)有達(dá)標(biāo)廢氣分離孔9，該達(dá)標(biāo)廢氣分離孔9的尺寸小于活動(dòng)膜片5的尺寸。當(dāng)隔斷分離氣室1b和達(dá)標(biāo)氣室1c或者超標(biāo)儲(chǔ)氣室1a時(shí)，活動(dòng)膜片5能夠完全覆蓋達(dá)標(biāo)廢氣分離孔9或者超標(biāo)廢氣分離孔8，密封性更好。

【實(shí)施例4】

如圖1所述，實(shí)施例4在實(shí)施例1～3的基礎(chǔ)上，實(shí)施例4還包括一個(gè)控制系統(tǒng)(圖中未標(biāo)出)，該控制系統(tǒng)與執(zhí)行機(jī)構(gòu)6通訊連接，用于控制活動(dòng)膜片5的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)。通過(guò)引入控制系統(tǒng)代替人工能夠節(jié)約人力物力。

【實(shí)施例5】

如圖1所述，實(shí)施例5在實(shí)施例4的基礎(chǔ)上，實(shí)施例5還包括一個(gè)氣體濃度測(cè)量機(jī)構(gòu)(圖中未標(biāo)出)，且氣體濃度測(cè)量機(jī)構(gòu)與控制系統(tǒng)連接，本實(shí)施例中，氣體濃度測(cè)量機(jī)構(gòu)為氣體濃度測(cè)量?jī)x，該氣體濃度測(cè)量?jī)x設(shè)置在分離氣室1b的側(cè)壁上，用于測(cè)量進(jìn)入分離氣室1b的廢氣7的濃度，并將測(cè)量到的當(dāng)前廢氣濃度q1傳輸至控制系統(tǒng)與廢氣排放標(biāo)準(zhǔn)濃度q比較，從而調(diào)整活動(dòng)膜片5的位置。

相較于采用當(dāng)前廢氣通入時(shí)間t1與廢氣通入標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間t作比較，直接采用氣體濃度測(cè)量?jī)x測(cè)量廢氣7濃度更加精準(zhǔn)。

【實(shí)施例6】

實(shí)施例6公開(kāi)了一種rto廢氣分離收集裝置的控制方法：包括如下步驟：

s100：設(shè)置活動(dòng)膜片在第一預(yù)設(shè)位置處，開(kāi)始向rto廢氣分離收集裝置中通入廢氣；

s200：判斷廢氣通過(guò)量是否達(dá)到預(yù)設(shè)范圍，若是，則執(zhí)行s300；

s300：將活動(dòng)膜片從第一預(yù)設(shè)位置移動(dòng)到第二預(yù)設(shè)位置。

其中，步驟s200包括獲取當(dāng)前廢氣通入時(shí)間t1，比較t1與預(yù)設(shè)的廢氣通入標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間t的大小，若t1＜t，則不移動(dòng)活動(dòng)膜片，若t1≥t，則執(zhí)行s300。

本實(shí)施例中的預(yù)設(shè)的廢氣通入標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間t是根據(jù)上游rto設(shè)備來(lái)計(jì)算確定。

【實(shí)施例7】

實(shí)施例7在實(shí)施例6的基礎(chǔ)上，將步驟s200改為：獲取分離氣室的當(dāng)前廢氣濃度q1，比較q1與預(yù)設(shè)的廢氣排放標(biāo)準(zhǔn)濃度q大小，若q1＞q，則不移動(dòng)所述活動(dòng)膜片，若q1≤q，則執(zhí)行s300。

相較于使用根據(jù)上游rto設(shè)備來(lái)計(jì)算得到的廢氣通入標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間t，使用氣體濃度檢測(cè)儀對(duì)分離氣室內(nèi)的廢氣進(jìn)行濃度測(cè)量，能夠更精確的判斷分離氣室內(nèi)的廢氣是超標(biāo)廢氣還是達(dá)標(biāo)氣體。

本實(shí)施例中的廢氣排放標(biāo)準(zhǔn)濃度q根據(jù)國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)或者地方排放標(biāo)準(zhǔn)確定，以滿足環(huán)境對(duì)廢氣排放的要求為準(zhǔn)。

【實(shí)施例8】

實(shí)施例8在實(shí)施例6或7的基礎(chǔ)上，還包括步驟s400：超標(biāo)儲(chǔ)氣室內(nèi)的超標(biāo)廢氣通過(guò)廢氣出口被導(dǎo)回上游rto設(shè)備中，進(jìn)行進(jìn)一步處理，進(jìn)而提高了rto設(shè)備的分解率。

現(xiàn)有技術(shù)中，直接將rto設(shè)備的廢氣出口與后續(xù)設(shè)備或者大氣連通，在rto設(shè)備的廢氣出口進(jìn)行檢測(cè)，在rto設(shè)備的閥門進(jìn)行切換時(shí)，自rto設(shè)備的廢氣出口的廢氣會(huì)檢測(cè)出持續(xù)至少1秒超標(biāo)濃度的峰值現(xiàn)象。

上述8個(gè)實(shí)施例在實(shí)際應(yīng)用中作為rto設(shè)備出口的附屬設(shè)施，用于收集由于兩塔式rto的閥門切換而造成的廢氣中的超標(biāo)廢氣，實(shí)現(xiàn)超標(biāo)廢氣與達(dá)標(biāo)廢氣的分離，保證通入后續(xù)設(shè)備或者大氣中的廢氣為達(dá)標(biāo)廢氣，在rto廢氣分離收集裝置的達(dá)標(biāo)氣體出口處進(jìn)行檢測(cè)，不會(huì)出現(xiàn)超標(biāo)峰值現(xiàn)象。

應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，上述實(shí)施例均可根據(jù)需要自由組合。以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。