一種涂布機(jī)及其塵粒檢測、清除方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及涂布工藝，尤其涉及一種涂布機(jī)及其塵粒檢測、清除方法。
【背景技術(shù)】
[0002]由于塵粒會對基板的涂布效果產(chǎn)生不利影響，因此需對塵粒進(jìn)行檢測。現(xiàn)有涂布機(jī)的異物檢測是通過構(gòu)臺(Gantry)前側(cè)底部兩邊分別設(shè)置的激光發(fā)射器與激光接收器實(shí)現(xiàn)的，如圖1所示。下面對現(xiàn)有涂布機(jī)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行簡單描述，如圖1、2所示，所述涂布機(jī)包括:承載基板的機(jī)臺1、對基板進(jìn)行涂布的構(gòu)臺2，所述構(gòu)臺2的正下方為噴嘴3，即涂布液的出口，噴嘴3的出口形成狹縫，長度與基板的寬度基本相同，所述構(gòu)臺2的前側(cè)(面向涂布時構(gòu)臺2的運(yùn)動方向)底部兩邊分別設(shè)置的激光發(fā)射器4與激光接收器5。涂布時，構(gòu)臺2位于機(jī)臺I上方，沿圖1中所示的左側(cè)向上的箭頭方向移動進(jìn)行涂布，圖1所示構(gòu)臺2的位置為涂布的起點(diǎn)位置。
[0003]涂布時，激光從激光發(fā)射器4發(fā)出并由激光接收器5接收，一旦遇到基板上足夠大的塵粒，激光便會被塵粒所遮擋從而無法進(jìn)入激光接收器5，此時涂布機(jī)便會報警，報警時上報的塵粒坐標(biāo)僅包括沿涂布方向的坐標(biāo)，而無法精確確定塵粒所在的具體位置。此外，由于異物檢測裝置，即:激光發(fā)射器4和激光接收器5需與構(gòu)臺2同步運(yùn)動，一旦檢測出塵粒，噴嘴3即停止涂布，需分離出該基板并進(jìn)行再生處理，即之前已涂布的部分也要徹底清洗，之后重新進(jìn)行涂布，因此導(dǎo)致了生產(chǎn)原料的浪費(fèi)，并降低了產(chǎn)線的稼動率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明的主要目的在于提供一種涂布機(jī)及其塵粒檢測、清除方法，可精確確定基板表面塵粒的位置，且可快速徹底清除所述塵粒，降低成本。
[0005]為達(dá)到上述目的，本申請的實(shí)施方式提供了以下技術(shù)方案:
[0006]一種涂布機(jī)，包括:用于承載基板的機(jī)臺、對基板進(jìn)行涂布的構(gòu)臺、構(gòu)臺上設(shè)置的噴嘴；所述機(jī)臺上在所述構(gòu)臺的左右兩側(cè)各設(shè)置有一條方向與所述構(gòu)臺的運(yùn)動方向平行的導(dǎo)軌，一條導(dǎo)軌上載有第一光發(fā)射器，另一條導(dǎo)軌上載有第一光接收器；所述機(jī)臺上在所述構(gòu)臺的前后兩側(cè)各設(shè)有一條方向與所述構(gòu)臺運(yùn)動方向垂直的導(dǎo)軌，一條導(dǎo)軌上載有第二光發(fā)射器，另一條導(dǎo)軌上載有第二光接收器；
[0007]其中，所述第一光接收器用于接收所述第一光發(fā)射器發(fā)出的光；所述第二光發(fā)射器用于接收所述第二光發(fā)射器發(fā)出的光。
[0008]所述第一光發(fā)射器與第一光接收器等高、且相對；所述第二光發(fā)射器與第二光接收器等聞、且相對。
[0009]所述第一、二光發(fā)射器與所述第一、二光接收器距離機(jī)臺上所承載基板的表面高度大于80微米，小于99微米。
[0010]所述塵粒清潔裝置設(shè)置于構(gòu)臺前側(cè)的底部。
[0011]所述構(gòu)臺前側(cè)的底部設(shè)置的導(dǎo)軌上載有第二光發(fā)射器、或第二光接收器，所述第二光發(fā)射器、或第二光接收器通過支架載于所述導(dǎo)軌上。
[0012]所述支架通過所述導(dǎo)軌設(shè)置于所述構(gòu)臺的前側(cè)。
[0013]所述塵粒清潔裝置通過所述支架設(shè)置于構(gòu)臺前側(cè)的底部。
[0014]所述塵粒清潔裝置由分別設(shè)置于支架上的塵粒捕捉單元和塵粒吸附單元組成。
[0015]所述塵粒捕捉單元為電荷耦合元件圖像傳感器。
[0016]所述塵粒吸附單元由可伸縮抽氣閥和與所述可伸縮抽氣閥相連通的抽氣泵組成。
[0017]所述可伸縮抽氣閥的中心位置與所述塵粒捕捉單元的中心位置在涂布方向上位于同一直線上。
[0018]一種塵粒檢測、清除方法，利用上述的涂布機(jī)，該方法包括:
[0019]在塵粒預(yù)掃描過程中，第一光發(fā)射器和第一光接收器沿各自的導(dǎo)軌同速同向運(yùn)動，第二光發(fā)射器和第二光接收器沿各自的導(dǎo)軌同速同向運(yùn)動，對塵粒坐標(biāo)進(jìn)行檢測；
[0020]塵粒坐標(biāo)確定后，通過構(gòu)臺前側(cè)設(shè)置的塵粒清潔裝置清除所述塵粒。
[0021]所述第一光發(fā)射器、第一光接收器、第二光發(fā)射器和第二光接收器的運(yùn)行時長均相同；且所述第一光發(fā)射器、第一光接收器、第二光發(fā)射器和第二光接收器的運(yùn)行的起始和結(jié)束時間點(diǎn)重合。
[0022]所述塵粒坐標(biāo)確定后，通過構(gòu)臺前側(cè)設(shè)置的塵粒清潔裝置清除所述塵粒，包括:
[0023]塵粒坐標(biāo)確定后，所述構(gòu)臺移動到所述塵?？v坐標(biāo)位置處，此時設(shè)置有塵粒清潔裝置的支架沿導(dǎo)軌移動到塵粒橫坐標(biāo)位置處，通過所述塵粒清潔裝置中的所述塵粒捕捉單元捕捉到所述塵粒，隨后構(gòu)臺向前移動，使所述塵粒吸附單元中的可伸縮抽氣閥對準(zhǔn)所述塵粒，并伸出所述可伸縮抽氣閥，抽氣泵快速抽氣，利用瞬間吸力將塵粒吸入。
[0024]該方法還包括:檢測所述塵粒是否已清除，如果未清除干凈，則再次清除。
[0025]該方法還包括:設(shè)置所述再次清除的次數(shù)，塵粒清除過程中，如果達(dá)到設(shè)置的清除次數(shù)，則終止所述塵粒清除操作
[0026]本發(fā)明實(shí)施方式提供的涂布機(jī)及其塵粒檢測、清除方法，所述涂布機(jī)包括:機(jī)臺、構(gòu)臺、構(gòu)臺正下方設(shè)置的噴嘴；所述機(jī)臺的左右兩側(cè)的頂部各設(shè)置有一條導(dǎo)軌，一條導(dǎo)軌上載有第一光發(fā)射器、另一條導(dǎo)軌上載有第一光接收器；所述機(jī)臺前側(cè)的頂部和所述構(gòu)臺前側(cè)的底部各設(shè)有一條導(dǎo)軌，一條導(dǎo)軌上載有第二光發(fā)射器、另一條導(dǎo)軌上載有第二光接收器；所述構(gòu)臺前側(cè)還設(shè)有塵粒清潔裝置；所述第一光發(fā)射器與第一光接收器等高、且相對；所述第二光發(fā)射器與第二光接收器等高、且相對。本發(fā)明實(shí)施方式通過所述第一光發(fā)射器和第一光接收器，以及第二光發(fā)射器和第二光接收器的結(jié)合使用可精確確定基板上塵粒的精確位置，有利于對塵粒的清除。
[0027]此外，本發(fā)明實(shí)施方式在預(yù)掃描過程中對塵粒進(jìn)行檢測，塵粒坐標(biāo)確定后，通過構(gòu)臺前側(cè)設(shè)置的塵粒清潔裝置直接對所述塵粒進(jìn)行清除，不需將基板從機(jī)臺上取下，塵粒清除干凈之后即可開始涂布，與現(xiàn)有技術(shù)相比可節(jié)省生產(chǎn)原料，降低了成本，同樣保證了產(chǎn)線的稼動率。
【附圖說明】
[0028]圖1為現(xiàn)有涂布機(jī)的俯視圖；
[0029]圖2為現(xiàn)有涂布機(jī)中所述構(gòu)臺的左視圖；
[0030]圖3為本發(fā)明實(shí)施例所述涂布機(jī)的俯視圖；
[0031]圖4為本發(fā)明實(shí)施例所述構(gòu)臺前側(cè)的正視圖；
[0032]圖5為本發(fā)明實(shí)施例所述可伸縮抽氣閥收縮時所述構(gòu)臺的左視圖；
[0033]圖6為本發(fā)明實(shí)施例所述可伸縮抽氣閥伸出時所述構(gòu)臺的左視圖；
[0034]圖7為本發(fā)明實(shí)施例所述塵粒檢測、清除方法的流程示意圖。
[0035]附圖標(biāo)記說明:
[0036]I機(jī)臺；2構(gòu)臺；3噴嘴；4激光發(fā)射器；5激光接收器；6第一發(fā)射器導(dǎo)軌；7第一接收器導(dǎo)軌；8第一光發(fā)射器；9第一光接收器；10第二發(fā)射器導(dǎo)軌；11第二接收器導(dǎo)軌；12第二光發(fā)射器；13第二光接收器；14支架；15塵粒捕捉單元16塵粒吸附單元；17可伸縮抽氣閥；18抽氣泵；d可伸縮抽氣閥與塵粒捕捉單元在涂布方向上的距離。
【具體實(shí)施方式】
[0037]本發(fā)明實(shí)施方式的基本思想是:在涂布方向和垂直涂布方向上各設(shè)置一組檢測裝置，通過兩組檢測裝置的結(jié)合使用，達(dá)到精確檢測塵粒具體位置的目的；通過構(gòu)臺底部設(shè)置的清潔裝置達(dá)到一次性清除塵粒，且不造成二次污染的目的。
[0038]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0039]圖3為本發(fā)明實(shí)施例所述涂布機(jī)的俯視圖，如圖3所示，在機(jī)臺上在所述構(gòu)臺的左右兩側(cè)各設(shè)置有一條方向與所述構(gòu)臺的運(yùn)動方向平行的的導(dǎo)軌，即:第一發(fā)射器導(dǎo)軌6和第一接收器導(dǎo)軌7，所述第一發(fā)射器導(dǎo)軌6上對應(yīng)載有第一光發(fā)射器8,所述第一接收器導(dǎo)軌7上對應(yīng)載有第一光接收器9，其中，所述第一光接收器9用于接收所述第一光發(fā)射器8發(fā)出的光。
[0040]優(yōu)選的，所述第一光發(fā)射器8與所述第一光接收器9等高、且相對。這里，所述相對，即:第一光發(fā)射器8的出光面與所述第一光接收器9的受光面相對。
[0041]優(yōu)選的，所述第一光發(fā)射器8與所述第一光接收器9距離機(jī)臺I上的基板表面的高度大于80微米，小于99微米，這是因?yàn)?涂布間隔(Gap)的設(shè)置范圍一般為100-150微米，故小于80微米的塵粒可以忽略，該大小的塵粒可能形成蝶狀Mura，但不會損傷噴嘴，100微米為涂布間隔(Gap)設(shè)置的最小值，高度不能大于100微米，故設(shè)置為99微米。
[0042]本發(fā)明實(shí)施例所述機(jī)臺上在所述構(gòu)臺的前后兩側(cè)各設(shè)有一條方向與所述構(gòu)臺運(yùn)動方向垂直的導(dǎo)軌，即:第二發(fā)射器導(dǎo)軌10和第二接收器導(dǎo)軌11，所述第二發(fā)射器導(dǎo)軌10上對應(yīng)載有第二光發(fā)射器12，所述第二接收器導(dǎo)軌11上對應(yīng)載有第二光接收器13。
[0043]本發(fā)明實(shí)施例通過所述第一光發(fā)射器8和第一光接收器9，以及所述第二光發(fā)射器12和第二光接收器13的結(jié)合使用可精確確定基板上塵粒的精確位置，有利于對塵粒的清除。
[0044]優(yōu)選的，所述第二光發(fā)射器12與所述第二光接收器13等高、且相對。
[0045]優(yōu)選的，所述第二光發(fā)射器12與所述第二光接收器13距離機(jī)臺I上的基板表面的高度大于80微米，小于99微米，設(shè)置原因同第一光發(fā)射器8與所述第一光接收器9距離機(jī)臺I上的基板表面的高度的設(shè)置。
[0046]其中，所述第一發(fā)射器導(dǎo)軌6和第一接收器導(dǎo)軌7以及其分別承載的第一光發(fā)射器8和第一光接收器9的位置可以相互對調(diào)，所述第二發(fā)