件上選取Α、B、C三個(gè)點(diǎn)，由這三個(gè)點(diǎn)構(gòu)成第一參考面，顯然，這三個(gè)點(diǎn)應(yīng)不在同一直線上。為了敘述方便，第一參考面被命名為Pabc。第一待點(diǎn)膠件可以是電路板、燈條等。
[0039]S2:測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第一參考平面的距離Ml。4個(gè)第一點(diǎn)膠點(diǎn)為Pl (xl, yl, zl)、P2 (x2, y2, z2)、P3 (x3, y3, z3)、P4 (x4, y4, z4)，點(diǎn)膠點(diǎn)實(shí)質(zhì)上為點(diǎn)膠指令。在一些實(shí)施例中，第一點(diǎn)膠點(diǎn)的數(shù)量有可能會(huì)更多，這里僅以四點(diǎn)舉例說明。Pl到面Pabc的距離為Mil，P2到面Pabc的距離為M12，P3到面Pabc的距離為M13，P4到面Pabc的距離為M14。
[0040]S3:在第二待點(diǎn)膠件上選取參考點(diǎn)構(gòu)建第二參考平面；例如在第一待點(diǎn)膠件上選取E、F、G三個(gè)點(diǎn)，由這三個(gè)點(diǎn)構(gòu)成第二參考面，顯然，這三個(gè)點(diǎn)應(yīng)不在同一直線上。第二參考平面被命名為Pabc2。此時(shí)也即第一待點(diǎn)膠件被第二待點(diǎn)膠件替換，此時(shí)參考平面就會(huì)發(fā)生變化，即由第一參考平面變?yōu)榈诙⒖计矫妗Ｓ捎诘谝粎⒖计矫孀優(yōu)榈诙⒖计矫?，此時(shí)第一點(diǎn)膠點(diǎn)X坐標(biāo)相同、Y坐標(biāo)相同，但Z坐標(biāo)不同；4個(gè)第一點(diǎn)膠點(diǎn)同樣如此。
[0041]S4:測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第二參考平面的距離M2 ;P1到面Pabc2的距離為M21，P2到面Pabc2的距離為M22，P3到面Pabc2的距離為M23，P4到面Pabc2的距離為M24。
[0042]S5: ΔΜ1 = M21-MlI, ΔΜ2 = M22-M12，ΔΜ3 = M23-M13，ΔΜ4 = M24-M14。
[0043]M31 = ΔΜ1+Μ11, M32 = ΔΜ2+Μ12, M33 = ΔΜ3+Μ13, M34 = ΔΜ4+Μ14。
[0044]相應(yīng)地形成4個(gè)第二點(diǎn)膠點(diǎn)，分別進(jìn)行高度補(bǔ)償。也即AM > 0，則第二點(diǎn)膠點(diǎn)應(yīng)在第一點(diǎn)膠點(diǎn)的高度基礎(chǔ)上升高ΔΜ ; AM < 0，則第二點(diǎn)膠點(diǎn)應(yīng)在第一點(diǎn)膠點(diǎn)的高度基礎(chǔ)上下降ΛΜ ;ΛΜ = 0，則第二點(diǎn)膠點(diǎn)與第一點(diǎn)膠點(diǎn)的高度一致。這樣點(diǎn)膠機(jī)構(gòu)根據(jù)第二點(diǎn)膠點(diǎn)進(jìn)行高度調(diào)節(jié)，以調(diào)節(jié)第二點(diǎn)膠點(diǎn)的高度，進(jìn)行高度補(bǔ)償。
[0045]本實(shí)施例的點(diǎn)膠位置的高度補(bǔ)償裝置，包括:
[0046]視覺模塊1，用于在第一待點(diǎn)膠件上選取參考點(diǎn)以及在第二待點(diǎn)膠件上選取參考占.V，
[0047]測(cè)高模塊2，用于測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第一參考平面的距離Ml以及測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第二參考平面的距離M2;
[0048]處理模塊3，用于:根據(jù)第一待點(diǎn)膠件的參考點(diǎn)構(gòu)建第一參考平面，根據(jù)第二待點(diǎn)膠件的參考點(diǎn)構(gòu)建第二參考平面，并形成點(diǎn)膠高度Μ3，Μ2減去Ml的值即為高度變化值ΔΜ，ΛΜ與Ml之和即為高度變化后的點(diǎn)膠高度M3，以M3為高度參數(shù)形成第二點(diǎn)膠點(diǎn)。進(jìn)一步講，處理模塊3用于對(duì)視覺模塊I和測(cè)高模塊2采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理、保存，并相應(yīng)地形成并輸出第二點(diǎn)膠點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)指令。
[0049]點(diǎn)膠機(jī)構(gòu)4，用于根據(jù)第二點(diǎn)膠點(diǎn)進(jìn)行高度補(bǔ)償。點(diǎn)膠機(jī)構(gòu)4根據(jù)處理模塊3輸出的運(yùn)動(dòng)指令進(jìn)行動(dòng)作，來對(duì)點(diǎn)膠高度進(jìn)行補(bǔ)償。
[0050]優(yōu)選地，測(cè)高模塊2為激光測(cè)高模塊。這是因?yàn)榧す鉁y(cè)高模塊的精度更高，性能較穩(wěn)定，有利于精確的高度補(bǔ)償。
[0051]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種點(diǎn)膠位置的高度補(bǔ)償方法，其特征在于，包括以下步驟: 51:在第一待點(diǎn)膠件上選取參考點(diǎn)構(gòu)建第一參考平面； 52:測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第一參考平面的距離Ml ; 53:在第二待點(diǎn)膠件上選取參考點(diǎn)構(gòu)建第二參考平面； 54:測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第二參考平面的距離M2 ; 55:M2減去Ml的值即為高度變化值ΔΜ，AM與Ml之和即為高度變化后的點(diǎn)膠高度M3，以M3為高度參數(shù)形成第二點(diǎn)膠點(diǎn)，進(jìn)行高度補(bǔ)償。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的點(diǎn)膠位置的高度補(bǔ)償方法，其特征在于，在所述步驟SI中，第一待點(diǎn)膠件的參考點(diǎn)的數(shù)量至少為3個(gè)，且其中至少3個(gè)參考點(diǎn)不在同一直線上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的點(diǎn)膠位置的高度補(bǔ)償方法，其特征在于，在所述步驟S2中，第一點(diǎn)膠點(diǎn)的數(shù)量至少為I個(gè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的點(diǎn)膠位置的高度補(bǔ)償方法，其特征在于，在所述步驟S5中，點(diǎn)膠機(jī)構(gòu)根據(jù)第二點(diǎn)膠點(diǎn)進(jìn)行高度調(diào)節(jié)，以調(diào)節(jié)第二點(diǎn)膠點(diǎn)的高度，進(jìn)行高度補(bǔ)償。
5.一種點(diǎn)膠位置的高度補(bǔ)償裝置，其特征在于，包括: 視覺模塊(I)，用于在第一待點(diǎn)膠件上選取參考點(diǎn)以及在第二待點(diǎn)膠件上選取參考占.V， 測(cè)高模塊(2)，用于測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第一參考平面的距離Ml以及測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第二參考平面的距離M2; 處理模塊(3)，用于:根據(jù)第一待點(diǎn)膠件的參考點(diǎn)構(gòu)建第一參考平面，根據(jù)第二待點(diǎn)膠件的參考點(diǎn)構(gòu)建第二參考平面，并形成點(diǎn)膠高度M3，M2減去Ml的值即為高度變化值ΔΜ，ΛΜ與Ml之和即為高度變化后的點(diǎn)膠高度M3，以M3為高度參數(shù)形成第二點(diǎn)膠點(diǎn)； 點(diǎn)膠機(jī)構(gòu)(4)，用于根據(jù)第二點(diǎn)膠點(diǎn)進(jìn)行高度補(bǔ)償。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的點(diǎn)膠位置的高度補(bǔ)償方法，其特征在于，所述測(cè)高模塊(2)為激光測(cè)高模塊。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種點(diǎn)膠位置的高度補(bǔ)償方法及裝置，方法包括以下步驟：S1：在第一待點(diǎn)膠件上選取參考點(diǎn)構(gòu)建第一參考平面；S2：測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第一參考平面的距離M1；S3：在第二待點(diǎn)膠件上選取參考點(diǎn)構(gòu)建第二參考平面；S4：測(cè)量第一點(diǎn)膠點(diǎn)與第二參考平面的距離M2；S5：M2減去M1的值即為高度變化值ΔM，ΔM與M1之和即為高度變化后的點(diǎn)膠高度M3，以M3為高度參數(shù)形成第二點(diǎn)膠點(diǎn)，進(jìn)行高度補(bǔ)償。裝置包括視覺模塊(1)、測(cè)高模塊(2)、處理模塊(3)和點(diǎn)膠機(jī)構(gòu)(4)。其有益效果是：待點(diǎn)膠件變化時(shí)，可以對(duì)點(diǎn)膠位置的高度進(jìn)行補(bǔ)償，這樣可以使得點(diǎn)膠精度更高，點(diǎn)膠效果更好。
【IPC分類】B05C5-00, B05D3-00, B05D1-26
【公開號(hào)】CN104607370
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410836365
【發(fā)明人】黃坤海
【申請(qǐng)人】深圳市軸心自控技術(shù)有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請(qǐng)日】2014年12月29日