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      涂敷裝置以及涂敷方法_3

      文檔序號(hào):9698242閱讀:來源:國知局
      而被涂敷(涂敷工序)至基體材料S。通過涂敷液AL變?yōu)榈驼扯?,能?使向基體材料S的附著性變良好,從而能夠使涂敷膜F的品質(zhì)提高。特別地,在涂敷液AL 具有非牛頓性的情況下,若施加于涂敷液AL的剪切應(yīng)力變?yōu)樵撏糠笠旱那狄陨?,則間 隙空間GS中的涂敷液AL的粘度顯著降低,從而能夠使涂敷膜F的品質(zhì)大大提高。
      [0065] 也考慮預(yù)先使供給至噴出口 530的涂敷液AL的粘度降低。然而,需要在供給路徑 中持續(xù)地向涂敷液AL施加剪切。通過例如使送液系統(tǒng)20中的配管直徑變小,能夠向涂敷液 AL施加剪切,但由于送液系統(tǒng)20中的壓力損失增大,所以難以輸送。為了解決這個(gè)問題,需 要栗22具有高的輸出能力,另外,也需要配管等是高耐壓的構(gòu)件,從而裝置成本也會(huì)變高。
      [0066] 如上所述,在唇面53與基體材料S表面之間的間隙空間GS中,通過對(duì)涂敷液AL加 壓來施加剪切,使得在送液系統(tǒng)中不需要向涂敷液施加剪切。由此,能夠使送液系統(tǒng)20的 配管直徑變大,從而能夠抑制壓力損失變低。在該實(shí)施方式中,通過將涂敷液AL經(jīng)由斷面 形狀至噴出口 530為止為固定的臺(tái)肩部523供給至間隙空間GS,能夠抑制噴嘴5內(nèi)的壓力 損失,通過向噴出至間隙空間GS的涂敷液AL施加剪切,能夠使粘度降低。為了抑制噴嘴5 內(nèi)的壓力損失并且在間隙空間GS可靠地施加剪切,優(yōu)選間隙量G1與噴出口 530的開口長 度G2的關(guān)系為:
      [0067] Gl < G2
      [0068] 根據(jù)本發(fā)明的發(fā)明人的實(shí)驗(yàn)可知,在附著于基體材料S的表面的涂敷液AL的粘度 在剪切速度為l〇s 1時(shí)為大約25Pa *s以下時(shí),涂敷液AL與基體材料S能夠良好地附著,另 外,涂敷膜F的表面也變得平滑,從而能夠得到品質(zhì)良好的涂敷膜F。
      [0069] 涂敷膜F的厚度Tf并不是由間隙量G1唯一決定的,是由供給至噴出口 530的涂敷 液AL的流量Q、噴嘴5相對(duì)于基體材料S的相對(duì)移動(dòng)速度V等各種因素綜合地決定。特別 地,在連續(xù)地供給固定量的涂敷液的送液系統(tǒng)中,能夠主要由涂敷液的流量Q決定膜厚Tf。 因此,該實(shí)施方式中的間隙量G1的控制并不是以控制涂敷膜F的厚度作為目的。
      [0070] 在間隙空間GS中,為了向涂敷液AL施加充分需要的剪切應(yīng)力,需要合適地維持形 成間隙空間GS的唇面53與基體材料S之間的間隙量G1。在間隙空間GS中,施加于涂敷液 AL的壓力以及剪切應(yīng)力除了涂敷液自身的物性以外,還取決于間隙量G1、涂敷液的流量Q、 噴嘴與基體材料的相對(duì)移動(dòng)速度V等。
      [0071] 若使用上述的各參數(shù),則間隙空間GS的剪切速度D根據(jù)其定義能夠由下式:
      [0072] D = V/G1
      [0073] 來表示。此外,在噴嘴5與基體材料S相對(duì)停止的狀態(tài)下,剪切速度的值變?yōu)樯鲜?的(1/2)。
      [0074] 另外,間隙空間GS中的涂敷液AL的表觀粘度μ能夠由下式:
      [0075] μ = μ 〇Dn 1
      [0076] 來表示。在此,參數(shù)μ。是涂敷液AL的粘度系數(shù),η是粘度指數(shù),這些都能夠從該 涂敷液的物性測(cè)量結(jié)果獲得。
      [0077] 另外,在間隙空間GS中施加于涂敷液AL的壓力Δ ρ能夠由下式:
      [0078]
      [0079] 來表示。在此,參數(shù)h是間隙空間GS的高度,在該實(shí)施方式中,和唇面53與基體 材料S表面之間的間隙量G1相同。
      [0080] 如上述各式可知,通過根據(jù)涂敷液AL的物理參數(shù)、流量Q、唇面53的尺寸、噴嘴5 與基體材料S的相對(duì)移動(dòng)速度V等來合適地決定間隙量G1,能夠在間隙空間GS中向涂敷液 AL施加壓力以及剪切應(yīng)力。由此,在間隙空間GS中能夠?qū)⑼糠笠篈L維持在低粘度狀態(tài),并 且能夠良好地進(jìn)行向基體材料S的涂敷。下面,對(duì)考察一些涂敷液的合適的間隙量進(jìn)行說 明。
      [0081] 圖4A以及圖4B是表示各種涂敷液與間隙量之間的關(guān)系的圖。在此,以靜置時(shí)的 粘度為50~200Pa *s即高粘度的涂敷液為例,對(duì)各種組合涂敷液與間隙量G1時(shí)的涂敷液 的液體流路52中的粘度變化以及壓力損失的大小進(jìn)行試算。圖4A舉例說明了 10種情形。 在該試算中,將上述參數(shù)中的唇面53的長度L固定為2mm、將噴出口 530的開口寬度W固定 為300mm、將涂敷液的流量Q固定為100mL/min。另外,為了使間隙空間GS中的剪切速度D 變?yōu)楣潭ǘ鴾?zhǔn)備比較條件,以與間隙量G1成反比的方式變更相對(duì)移動(dòng)速度V的設(shè)定。
      [0082] 另外,在圓管部521以及臺(tái)肩部523中的粘度的計(jì)算中,將圓管部521的直徑設(shè)定 為8mm,將臺(tái)肩部523的Z方向的流路尺寸(噴出口 530的開口尺寸)G2設(shè)定為0.5mm。粘 度全都是剪切速度為l〇s 1時(shí)的數(shù)值。
      [0083] 如圖4A所示,在涂敷液經(jīng)由噴嘴5內(nèi)的圓管部521以及臺(tái)肩部523流通至間隙空 間GS為止的期間,呈現(xiàn)出與剪切應(yīng)力有無相應(yīng)的粘度的變化。在任一個(gè)情形中,在圓管部 521中,與靜置時(shí)相比粘度降低,在臺(tái)肩部522粘度進(jìn)一步降低。另一方面,在間隙空間GS 中,間隙量G1越小,粘度越進(jìn)一步降低,但隨著間隙量G1變大而粘度的降低程度變小,或者 相反,粘度增加。由此,在間隙量小時(shí),向涂敷液施加大的剪切應(yīng)力,從而粘度大大降低,另 一方面,在間隙量大時(shí),不需要施加充分的剪切應(yīng)力,從而粘度不降低或粘度增加。即,通過 間隙量G1的設(shè)定值,能夠調(diào)整間隙GS中的涂敷液的粘度。
      [0084] 若著眼于送液系統(tǒng)中的壓力損失,間隙量G1越小則壓力損失越大,用于送液的負(fù) 載越大。另外,若間隙量相同,則靜置時(shí)的粘度越高,壓力損失越大,同樣向送液系統(tǒng)的負(fù)載 越大。
      [0085] 在圖4A的右側(cè)列中顯示出由這些涂敷條件所假想的涂敷結(jié)果。在例如送液系統(tǒng) 20以及噴嘴5的耐壓為lOOOkPa的情況下,壓力損失的值超過該耐壓的情形5不能夠由該 送液系統(tǒng)進(jìn)行送液。另外,如上所述,若在間隙空間GS中涂敷液的粘度為25Pa · s (剪切速 度10s 4以下,則能夠形成良好的涂敷膜(情形3、4、7、8、10),由此,涂敷液在高粘度下不 能夠在基體材料S上良好地轉(zhuǎn)印,從而會(huì)產(chǎn)生剝離(情形1、2、6、9)。這樣,為了形成品質(zhì)良 好的涂敷膜所需要的間隙量G1的設(shè)定值具有與涂敷液相應(yīng)的合適的范圍。
      [0086] 圖4B是著眼于圖4A中的涂敷液的靜置時(shí)粘度與間隙量G1之間的關(guān)系所改寫的 圖。如圖4B所示,在靜置時(shí)的粘度比較低的涂敷液中,以比較大的間隙量G1也能夠良好地 進(jìn)行涂敷。另一方面,在靜置時(shí)的粘度高的涂敷液中,在間隙量大時(shí)不能夠涂敷,但通過在 小的間隙施加剪切而使涂敷液的粘度降低,能夠進(jìn)行良好的涂敷。
      [0087] 為了將間隙量G1設(shè)定成根據(jù)涂敷液的合適的值,應(yīng)預(yù)先求得涂敷液的物理參數(shù) (特別是靜置時(shí)的粘度)與合適的間隙量的相關(guān)關(guān)系并例如表格化,基于被使用的涂敷液 的物理參數(shù),通過參照表格,能夠使用合適的間隙量。
      [0088] 另外,從圖4A可知,在液體流路52特別是圓管部521以及臺(tái)肩部523中的涂敷液 的粘度與該涂敷液的靜置時(shí)粘度之間具有一定程度的相關(guān)性。因此,通過控制單元3基于 利用例如在噴嘴5的圓管部521設(shè)置的壓力傳感器55所檢測(cè)的檢測(cè)結(jié)果而求得間隙量G1, 能夠進(jìn)行與涂敷液相應(yīng)的合適的間隙設(shè)定。
      [0089] 這樣,本實(shí)施方式的涂敷裝置100通過根據(jù)涂敷液來合適地設(shè)定噴嘴5與基體材 料S之間的間隙量G1,能夠向涂敷液施加適度的剪切,從而能夠調(diào)整基體材料S上的涂敷液 的粘度。因此,能夠使用各種粘度的涂敷液在基體材料S上形成品質(zhì)良好的涂敷膜F。為了 得到上述效果,在該實(shí)施方式中,由噴嘴保持機(jī)構(gòu)6進(jìn)行噴嘴5的定位,并且由支撐輥72背 支撐基體材料S。由此,能夠抑制間隙量的變動(dòng),從而能夠向涂敷液施加穩(wěn)定的壓力以及剪 切應(yīng)力。
      [0090] 如上所述,在該實(shí)施方式中,涂敷液AL相當(dāng)于本發(fā)明的"液體",基體材料S相當(dāng)于 本發(fā)明的"被涂敷體"。另外,罐體1以及送液系統(tǒng)2作為本發(fā)明的"液體供給單元"發(fā)揮作 用,搬運(yùn)單元7作為本發(fā)明的"相對(duì)移動(dòng)單元"發(fā)揮作用。更具體地說,其中的供給輥71以 及卷繞輥73作為本發(fā)明的"搬運(yùn)機(jī)構(gòu)"發(fā)揮作用,另一方面,支撐輥72作為本發(fā)明的"支撐 構(gòu)件"發(fā)揮作用。另外,在上述實(shí)施方式中,噴嘴保持機(jī)構(gòu)6作為本發(fā)明的"間隙決定單元" 發(fā)揮作用,壓力傳感器55作為本發(fā)明的"壓力檢測(cè)單元"發(fā)揮作用。
      [0091] 此外,本發(fā)明并不限定于上述的實(shí)施方式,只要不脫離其宗旨能夠進(jìn)行上述實(shí)施 方式以外的各種變更。例如,在上述實(shí)施方式的涂敷裝置100中,通過使基體材料S相對(duì)于 在規(guī)定位置被定位的噴嘴5移動(dòng),能夠?qū)崿F(xiàn)噴嘴5與基體材料S的相對(duì)移動(dòng),但也可以是使 噴嘴5移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。
      [0092] 另外,例如,上述實(shí)施方式將片狀的基體材料S作為本發(fā)明的"被涂敷體",并且通 過在與噴嘴5對(duì)置的面的相反一側(cè)設(shè)置支撐輥72,能夠維持噴嘴5與基體材料S的間隙量。 然而,在被涂敷體是例如具有撓曲不會(huì)造成問題的程度的充分的機(jī)械強(qiáng)度
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