一種配向液的涂布方法及涂布裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示領域，特別是一種配向液的涂布方法及涂布裝置。
【背景技術】
[0002]傳統(tǒng)的配向液涂布方法主要包括有轉(zhuǎn)印(RolIer)技術和噴墨(Inkjet)技術等等。但使用這些涂布技術都不能保證配向液的邊緣與中心區(qū)域的厚度一致。一般情況下，配向液邊緣會大于5000埃，而中心區(qū)域的厚度為400埃。
[0003]對于傳統(tǒng)的顯示器，陣列基板的非顯示區(qū)域上會設置信號線(例如數(shù)據(jù)線、柵線等)的外接端點，該外接端點用于與外部的信號設備連接，如控制顯示的IC芯片、用于檢測陣列基板良品率的檢測探針等，不能被配向液覆蓋掉，因此目前配向液都只涂布在顯示區(qū)域上。而顯示區(qū)域的邊緣即對應配向液的涂布區(qū)域邊緣，由于該位置的配向液的厚度較大，從而對顯示畫面產(chǎn)生了一定影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種配向液的涂布方案，能夠使顯示區(qū)域的配向液具有較高的均一性，從而不影響畫面顯示。
[0005]為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，一方面，本發(fā)明提供一種配向液的涂布方法，包括:
[0006]提供一基板，所述基板包括顯示區(qū)域和所述顯示區(qū)域外圍的非顯示區(qū)；
[0007]對所述基板涂布配向液，所述配向液的涂布區(qū)域完全覆蓋所述顯示區(qū)域，以及至少覆蓋所述顯示區(qū)域外圍的一部分非顯示區(qū)；
[0008]通過真空吸附，去除所述非顯示區(qū)域上的至少一部分配向液。
[0009]可選地，所述顯示區(qū)域設置有信號線，所述非顯示區(qū)域設置有所述信號線的外接端點;所述配向液的涂布區(qū)域包括外接端點所在區(qū)域；
[0010]通過真空吸附，去除所述非顯示區(qū)域上的至少一部分配向液，包括:
[0011]通過真空吸附機構，僅去除所述外接端點上的配向液。
[0012]可選地，所述真空吸附具機構有一真空吸嘴，所述外接端點為多個；
[0013]通過真空吸附機構，僅對所述外接端點的所在區(qū)域的配向液進行真空吸附，包括:
[0014]控制所述真空吸附機構的真空吸嘴，按照所述外接端點的排列方向，對每個外接端點的所在區(qū)域的配向液進行真空吸附。
[0015]可選地，所述真空吸嘴的吸附寬度=所述外接端點的寬度+配向液的擴散系數(shù)。
[0016]可選地，所述配向液的擴散系數(shù)為0.8mm?3.2_。
[0017]另一方面，本發(fā)明還提供一種配向液的涂布裝置，包括:
[0018]傳送機構，用于將一基板傳送至涂布配向液的區(qū)域，所述基板包括顯示區(qū)域和所述顯示區(qū)域外圍的非顯示區(qū)；
[0019]涂布機構，用于對所述基板涂布配向液，所述配向液的涂布區(qū)域完全覆蓋所述顯示區(qū)域，以及至少覆蓋所述顯示區(qū)域外圍的一部分非顯示區(qū)；
[0020]真空吸附機構，用于真空吸附基板上的配向液；
[0021]控制機構，用于控制所述真空吸附機構，通過真空吸附，去除所述非顯示區(qū)域上的至少一部分配向液。
[0022]可選地，所述顯示區(qū)域設置有信號線，所述非顯示區(qū)域設置有所述信號線的外接端點，所述配向液的涂布區(qū)域包括外接端點所在區(qū)域；
[0023]控制機構控制所述真空吸附機構僅去除所述外接端點上的配向液。
[0024]可選地，所述外接端點為多個，所述真空吸附機構具有一真空吸嘴；
[0025]所述控制機構具體控制所述真空吸附機構的真空吸嘴，按照所述外接端點的排列方向，對每個外接端點的所在區(qū)域的配向液進行真空吸附。
[0026]可選地，所述真空吸嘴的吸附寬度=所述外接端點的寬度+配向液的擴散系數(shù)。
[0027]可選地，所述配向液的擴散系數(shù)為0.8mm?3.2mm。
[0028]可選地，所述真空吸嘴的開口為矩形；
[0029]所述真空吸嘴的吸附力Y=A/(l+d+w) 2 2 PgMw' *l*t];
[0030]其中，A為真空吸嘴固有吸力;d為由真空吸嘴與配向液之間的間距決定的系數(shù);w為由真空吸嘴的開口寬度決定系數(shù);P為配向液密度;g為重力常數(shù);w'為真空吸嘴的吸附寬度;I為真空吸嘴的開口長度;t為配向液厚度。
[0031]本發(fā)明的上述技術方案的有益效果如下:
[0032]相比現(xiàn)有技術，本發(fā)明增大了配向液的涂配區(qū)域，使得涂布后的配向液的邊緣處移到了非顯示區(qū)域上，對于非顯示區(qū)域原本不能被配向液覆蓋但已經(jīng)涂有配向液的位置，則進一步通過真空吸附的方式進行去除，從而使顯示區(qū)域的配向液的均一性得到了保證。
【附圖說明】
[0033]圖1為本發(fā)明的涂布方法的步驟示意圖；
[0034]圖2-圖4為本發(fā)明的涂布方法的流程示意圖；
[0035]圖5為本發(fā)明的涂布裝置的真空吸嘴在吸附過程中，與外接端點的位置關系示意圖。
【具體實施方式】
[0036]為使本發(fā)明要解決的技術問題、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。
[0037]本發(fā)明針對現(xiàn)有技術中，顯示區(qū)域邊緣處的配向液涂布不均勻的問題，提供了一種解決方案。
[0038]—方面，本發(fā)明的實施例提供一種配向液的涂布方法，包括:
[0039]步驟Sll，提供一基板，該基板包括顯示區(qū)域和顯示區(qū)域外圍的非顯示區(qū)；
[0040]步驟S12，對基板涂布配向液，該配向液的涂布區(qū)域完全覆蓋顯示區(qū)域，以及至少覆蓋顯示區(qū)域外圍的一部分非顯示區(qū)；
[0041]步驟S13，通過真空吸附，去除非顯示區(qū)域上的至少一部分配向液。其中，至少一部分配向液是指，可以將非顯示區(qū)域的所有配向液吸附掉，或者作為優(yōu)選方案，保留非顯示區(qū)域中靠近顯示區(qū)域部分的配向液，從而避免吸附過程中，破壞顯示區(qū)域配向液的涂布結構。
[0042]在本步驟中，配向液的涂布區(qū)域可以完全覆蓋整個基板，也可以覆蓋顯示區(qū)域以及部分非顯示區(qū)域。
[0043]相比現(xiàn)有技術，本實施例增大了配向液的涂配區(qū)域，使得涂布后的配向液的邊緣處移到了非顯示區(qū)域上，對于非顯示區(qū)域原本不能被配向液覆蓋但已經(jīng)涂有配向液的位置，則進一步通過真空吸附的方式進行去除，從而使顯示區(qū)域的配向液的均一性得到了保證。
[0044]具體地，針對現(xiàn)有顯示裝置的陣列基板，顯示區(qū)域內(nèi)設置信號線，在非顯示區(qū)域內(nèi)設置有信號線的外接端點。該外接端點需要與外部信號設備連接，不能被配向液覆蓋。為提高吸附效率，本發(fā)明可以只對非顯示區(qū)域需要去除配向液的區(qū)域進行真空吸附，即在上述步驟三中，通過真空吸附機構，僅去除外接端點上的配向液即可。
[0045]下面對本發(fā)明的涂布方法的實際應用進行詳細介紹。
[0046]如圖2所示，首先在基板I對應的顯示區(qū)域2、至少一部分非顯示區(qū)域3內(nèi)涂布配向液4，其中涂布區(qū)域包括非顯示區(qū)域3上的一部分信號線的外接端點5。
[0047]之后如圖3和圖4所示，控制真空吸附機構的真空吸嘴6，按照外接端點5的排列方向，對每個外接端點5的所在區(qū)域的配向液進行真空吸附，使配向液4在外接端點5的位置形成鏤空區(qū)域。
[0048]本實施例通過對非顯示區(qū)域內(nèi)的外接端點進行精確吸附，可使吸附效率得到有效提高，從而節(jié)省陣列基板制作過程中消耗的時間成本。
[0049]具體地，如圖5所示，本實施例的真空吸嘴6的吸附寬度略大于外接端點的寬度C，超出的距離a+b為配向液的擴散系數(shù)，該擴散系數(shù)是指真空吸嘴將配向液的表面吸附鏤空后，配向液因內(nèi)部應力，而向鏤空區(qū)域移動的距離(一般取值為0.8mm?3.2mm)，即真空吸嘴6的吸附寬度給出涂布液在吸附后重新向吸附區(qū)域偏移的余量。
[0050]以上是本實施例的配向液的涂布方法，可以看出，相比于現(xiàn)有技術，本實施例的涂布方法具有以下優(yōu)點: