14.一種流體分配噴嘴，包括: 殼體，所述殼體限定出口 ；以及 噴嘴嵌件，所述噴嘴嵌件設(shè)置在所述殼體中并且能夠選擇性地相對(duì)于所述殼體在第一位置和第二位置之間移動(dòng)，所述噴嘴嵌件包括 入口，所述入口定位成接收來(lái)自流體源的流體流， 第一出口孔，所述第一出口孔將流體從所述噴嘴嵌件排出，以及第二出口孔，所述第二出口孔與所述第一出口孔間隔開，所述第二出口孔將流體從所述噴嘴嵌件排出， 其中，當(dāng)所述噴嘴嵌件處于所述第一位置時(shí)，流體通過(guò)所述第一出口孔排出，并且其中，當(dāng)所述噴嘴嵌件處于所述第二位置時(shí)，流體通過(guò)所述第一出口孔和所述第二出口孔排出。15.如權(quán)利要求14所述的流體分配噴嘴，其中，當(dāng)所述噴嘴嵌件處于所述第一位置時(shí)，流體以第一流量從所述噴嘴嵌件排出，并且當(dāng)所述噴嘴嵌件處于所述第二位置時(shí)，流體以第二流量從所述噴嘴嵌件排出，所述第二流量大于所述第一流量。16.如權(quán)利要求15所述的流體分配噴嘴，其中，所述第一流量在大約3升/分鐘和大約15升/分鐘之間，并且所述第二流量在大約50升/分鐘和大約200升/分鐘之間。17.如權(quán)利要求14所述的流體分配噴嘴，其中，噴嘴嵌件由細(xì)長(zhǎng)本體限定，所述細(xì)長(zhǎng)本體具有限定所述入口的第一端和限定所述第一出口孔的第二端，并且 其中，所述第二出口孔被限定在所述本體的、所述第一端和所述第二端之間的壁中。18.如權(quán)利要求17所述的流體分配噴嘴，其中，在所述第一位置中，所述噴嘴嵌件的所述第二端被定位成接觸所述殼體的內(nèi)壁以阻止流體流從所述第二出口孔到達(dá)所述出口。19.如權(quán)利要求18所述的流體分配噴嘴，其中，在所述第二位置中，所述噴嘴嵌件的所述第二端與所述內(nèi)壁間隔開以允許流體流從所述第二出口孔到達(dá)所述出口。20.如權(quán)利要求14所述的流體分配噴嘴，其中，所述噴嘴能夠響應(yīng)于引入到所述殼體中的致動(dòng)流體在所述第一位置和所述第二位置之間移動(dòng)。21.如權(quán)利要求20所述的流體分配噴嘴，其中，所述殼體和所述噴嘴嵌件協(xié)作地限定間隙，并且其中，所述致動(dòng)流體被弓I入到所述間隙中。22.如權(quán)利要求21所述的流體分配噴嘴，其中，所述噴嘴嵌件具有鄰近所述入口定位的凸緣，并且其中，所述致動(dòng)流體作用在所述凸緣上以使所述噴嘴嵌件在所述第一位置和所述第二位置之間移動(dòng)。23.如權(quán)利要求20所述的流體分配噴嘴，其中，所述致動(dòng)流體是壓縮空氣。24.如權(quán)利要求14所述的流體分配噴嘴，其中，所述噴嘴嵌件被朝向所述第一位置偏壓。25.如權(quán)利要求24所述的流體分配噴嘴，還包括偏壓元件，所述偏壓元件聯(lián)接到所述噴嘴嵌件以將所述噴嘴嵌件偏壓到所述第一位置。26.如權(quán)利要求14所述的流體分配噴嘴，其中，所述第二出口孔由多個(gè)開口限定。27.一種流體分配系統(tǒng)，包括: 流體源； 管道，所述管道聯(lián)接到所述流體源并從所述流體源延伸以輸送來(lái)自所述流體源的流體； 噴嘴，所述噴嘴聯(lián)接到所述管道，所述噴嘴包括 殼體，所述殼體聯(lián)接到所述管道，并且所述殼體包括出口，用于將流體從所述管道排出到周圍環(huán)境， 噴嘴嵌件，所述噴嘴嵌件設(shè)置在所述殼體中并限定出口孔，所述噴嘴嵌件能夠選擇性地相對(duì)于所述殼體在第一位置和第二位置之間移動(dòng)，在所述第一位置中，流體以第一流量通過(guò)所述噴嘴嵌件和所述出口排出，并且在所述第二位置中，流體以第二流量通過(guò)所述噴嘴嵌件和所述出口排出，所述第二流量大于所述第一流量， 其中，所述殼體和所述噴嘴嵌件協(xié)作地限定間隙，并且所述殼體包括端口，所述端口與所述間隙連通且進(jìn)一步適于與致動(dòng)流體源連通，以選擇性地改變所述噴嘴嵌件在所述殼體內(nèi)的位置，從而調(diào)節(jié)從所述出口排出的流體的流量。28.如權(quán)利要求27所述的流體分配系統(tǒng)，其中，所述噴嘴嵌件能夠獨(dú)立于所述入口處的流體壓力在所述第一位置和所述第二位置之間移動(dòng)。29.如權(quán)利要求27所述的流體分配系統(tǒng)，其中，所述致動(dòng)流體是壓縮空氣。30.如權(quán)利要求27所述的流體分配系統(tǒng)，其中，所述噴嘴嵌件被朝向所述第一位置偏壓。31.如權(quán)利要求30所述的流體分配系統(tǒng)，還包括偏壓元件，所述偏壓元件聯(lián)接到所述噴嘴嵌件以將所述噴嘴嵌件偏壓到所述第一位置。32.如權(quán)利要求27所述的流體分配系統(tǒng)，其中，所述噴嘴嵌件包括入口和細(xì)長(zhǎng)孔，所述入口與所述管道流體連通，所述細(xì)長(zhǎng)孔從所述入口延伸到所述出口孔以將流體導(dǎo)引通過(guò)所述噴嘴嵌件。33.如權(quán)利要求32所述的流體分配系統(tǒng)，其中，所述出口孔是第一出口孔，并且所述噴嘴嵌件包括與所述第一出口孔不同的第二出口孔，并且 其中，在所述第一位置和所述第二位置中，來(lái)自所述管道的流體流過(guò)所述第一出口孔。34.如權(quán)利要求33所述的流體分配系統(tǒng)，其中，在所述第二位置中，來(lái)自所述管道的流體流過(guò)所述第一出口孔和所述第二出口孔。35.如權(quán)利要求34所述的流體分配系統(tǒng)，其中，所述殼體限定鄰近所述出口的出口室， 其中，在所述第一位置中，流體被沿著所述第一流動(dòng)路徑導(dǎo)引通過(guò)所述出口，并且 其中，在所述第二位置中，流體被沿著所述第一流動(dòng)路徑和所述第二流動(dòng)路徑導(dǎo)引通過(guò)所述出口。36.如權(quán)利要求33所述的流體分配噴嘴，其中，在所述第一位置中，所述噴嘴嵌件的、鄰近所述第一出口孔設(shè)置的端部定位成接觸所述殼體的內(nèi)壁以阻止流體流沿著所述第二流動(dòng)路徑到達(dá)所述出口。37.如權(quán)利要求36所述的流體分配噴嘴，其中，當(dāng)所述噴嘴嵌件處于所述第二位置時(shí)，所述噴嘴嵌件的所述端部與所述內(nèi)壁間隔開以允許流體流沿著所述第二流動(dòng)路徑到達(dá)所述出口。38.如權(quán)利要求27所述的流體分配系統(tǒng)，其中，所述第一流量在大約3升/分鐘和大約15升/分鐘之間，并且所述第二流量在大約50升/分鐘和大約200升/分鐘之間。39.一種改變流體通過(guò)分配噴嘴的流量的方法，所述方法包括: 將流體導(dǎo)引到由殼體支撐的噴嘴嵌件的入口中； 將流體沿著第一流動(dòng)路徑通過(guò)所述噴嘴嵌件排出； 以第一流量從所述噴嘴分配流體； 相對(duì)于所述殼體選擇性地調(diào)節(jié)所述噴嘴嵌件； 響應(yīng)于所述噴嘴嵌件相對(duì)于所述殼體的運(yùn)動(dòng)，將流體沿著所述第一流動(dòng)路徑和第二流動(dòng)路徑通過(guò)所述噴嘴嵌件排出；以及 獨(dú)立于進(jìn)入所述噴嘴的流體的壓力，以第二流量從所述噴嘴分配流體，所述第二流量不同于所述第一流量。40.如權(quán)利要求39所述的方法，還包括 將致動(dòng)流體導(dǎo)引到所述殼體中；以及 響應(yīng)于將所述致動(dòng)流體導(dǎo)引到所述殼體中，使所述噴嘴嵌件在所述殼體內(nèi)從第一位置移動(dòng)到第二位置。41.如權(quán)利要求40所述的方法，還包括: 將所述噴嘴嵌件朝向所述第一位置偏壓。42.如權(quán)利要求39所述的方法，其中，將流體沿著所述第一流動(dòng)路徑排出包括:將所述流體通過(guò)所述噴嘴嵌件的第一出口孔排出， 所述方法還包括: 將流體沿著所述第二流動(dòng)路徑通過(guò)所述第一出口孔和與所述第一出口孔隔開的第二出口孔排出。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種流體分配噴嘴，包括殼體，殼體包括將流體排出到周圍環(huán)境的出口。流體分配噴嘴還包括噴嘴嵌件，噴嘴嵌件設(shè)置在殼體中并包括與流體源流體連通以接收流體流的入口。噴嘴嵌件包括出口孔，出口孔與出口流體連通以將流體從入口引向出口。噴嘴嵌件呢剛剛選擇性地相對(duì)于殼體在第一位置和第二位置之間移動(dòng)，在第一位置中，流體以第一流量通過(guò)出口排出，在第二位置中，流體以大于第一流量的第二流量通過(guò)出口排出。噴嘴嵌件能夠獨(dú)立于在入口處的流體的壓力在第一位置和第二位置之間移動(dòng)。
【IPC分類】B05B1/30
【公開號(hào)】CN105636705
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480056904
【發(fā)明人】羅伯特·沃特列爾, 格德·克利姆梅克, 塞巴斯蒂安·羅哈齊
【申請(qǐng)人】泰華施公司
【公開日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2014年9月16日
【公告號(hào)】EP3036043A1, WO2015039129A1