全錐噴嘴的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種帶有噴嘴殼體和渦流器(Dralleinsatz)的全錐噴嘴(Vollkegelduese)，其中，噴嘴殼體具有帶有排出口(Austrittsoeffnung)的排出腔(Austrittskammer)，且其中，排出腔布置在禍流器下游。
【背景技術(shù)】
[0002]已知一種全錐噴嘴，在其中為了展開(kāi)錐形的噴霧必須在噴嘴的排出口之前將流動(dòng)置于旋轉(zhuǎn)中。這由此實(shí)現(xiàn)，即待噴霧的液體流經(jīng)在渦流器處的至少一個(gè)渦旋通道。流體在離開(kāi)渦旋通道之后的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致在排出腔中的壓降，其中，靜態(tài)壓力從排出腔的壁部朝向排出腔的中心或排出腔的旋轉(zhuǎn)軸線下降。如果在排出腔的中心且因此在旋轉(zhuǎn)軸線的區(qū)域中的靜態(tài)壓力過(guò)小，這導(dǎo)致空心錐噴霧。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]利用本發(fā)明應(yīng)提供改進(jìn)的全錐噴嘴。
[0004]對(duì)此根據(jù)本發(fā)明設(shè)置有帶有噴嘴殼體和渦流器的全錐噴嘴，其中，噴嘴殼體具有帶有排出口的排出腔，且其中，排出腔布置在渦流器下游，在其中渦流器在其外周緣處具有至少一個(gè)渦旋通道(Drallkanal)，渦旋通道在渦旋區(qū)段中螺旋狀或者傾斜于渦流器的中心縱軸線伸延地來(lái)構(gòu)造且渦旋通道在出口區(qū)段(Auslaufabschnitt)(其從渦旋區(qū)段的端部延伸直至渦旋通道的置于下游的端部)中在軸向上延伸，其中，渦流器的置于下游的端面設(shè)有大致中心于渦流器布置的凹口，其中，凹口與該至少一個(gè)渦旋通道逐段地相交，且其中，在凹口在渦旋通道中的過(guò)渡處形成的棱邊設(shè)有倒角。
[0005]根據(jù)本發(fā)明，每個(gè)倒角形成平行于噴嘴殼體的中心縱軸線延伸的面。
[0006]根據(jù)本發(fā)明，所有倒角形成彼此平行布置的面。
[0007]根據(jù)本發(fā)明，所有倒角形成不僅平行于所述噴嘴殼體的中心縱軸線而且平行于相對(duì)于所述中心縱軸線垂直延伸的且與所述中心縱軸線相交的橫軸線布置的面。
[0008]為了展開(kāi)錐形的噴霧，必須在噴嘴的排出口之前將流動(dòng)置于旋轉(zhuǎn)中。這由此實(shí)現(xiàn)，即待噴霧的液體流經(jīng)在渦流器處的該至少一個(gè)渦旋通道。流體在離開(kāi)渦旋通道之后的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致在排出腔中的壓降，其中，靜態(tài)壓力從排出腔的壁部朝向排出腔的中心或排出腔的旋轉(zhuǎn)軸線下降。如果在排出腔的中心且因此在旋轉(zhuǎn)軸線的區(qū)域中的靜態(tài)壓力過(guò)小，這導(dǎo)致空心錐噴霧(Hohlkegelspray)。利用本發(fā)明令人驚訝地實(shí)現(xiàn)通過(guò)該至少一個(gè)禍旋通道的在軸向上延伸的出口區(qū)段可如此來(lái)影響在排出腔內(nèi)的壓降，使得獲得全錐噴霧。出口區(qū)段的長(zhǎng)度可用作結(jié)構(gòu)參數(shù)，以便影響在全錐噴霧內(nèi)的液體分布。排出腔在此例如可半球式地、盲孔式地構(gòu)造有平面的或球形的底部。
[0009]在置于下游的端面中設(shè)置凹口可決定性地有助于穩(wěn)定在排出腔中的流動(dòng)情況。通過(guò)這樣的凹口也可來(lái)影響在排出腔內(nèi)的壓降，從而可獲得帶有均勻的液體分布的全錐噴霧。凹口的深度及其與該至少一個(gè)渦旋通道的截面在此是結(jié)構(gòu)參數(shù)，以便影響噴嘴的液體分布。有利地，凹口在出口區(qū)段的區(qū)域與渦旋通道相交。
[0010]在棱邊處(其在凹口到渦旋通道中的過(guò)渡處形成)分別設(shè)置倒角也在考慮制造公差的情況下負(fù)責(zé)在凹口與該渦旋通道或多個(gè)渦旋通道之間的過(guò)渡處限定的尺寸且避免在該部位處產(chǎn)生尖銳的棱邊或者甚至毛刺。
[0011 ] 在本發(fā)明的改進(jìn)方案中凹口具有平面的、倒圓的或錐形的基底。
[0012]所發(fā)出的全錐噴霧可通過(guò)凹口的基底的設(shè)計(jì)來(lái)影響。通過(guò)凹口的基底以及渦旋通道的基底的不同設(shè)計(jì)，在渦流器中與凹口的截面改變，從而也可以以該方式影響根據(jù)本發(fā)明的全錐噴嘴的噴射特性。
[0013]在本發(fā)明的改進(jìn)方案中在渦流器的外周緣處設(shè)置有兩個(gè)或者更多個(gè)渦旋通道。
[0014]通過(guò)渦旋通道數(shù)目的變化也可影響噴射特性。渦旋通道的橫截面在此可與排出口的橫截面相協(xié)調(diào)，以便獲得對(duì)阻塞不那么敏感的噴嘴。
[0015]在本發(fā)明的改進(jìn)方案中在渦流器的端面中凹口與所有渦旋通道逐段地相交。
[0016]以該方式可在排出腔的中心獲得還在排出腔的橫截面上觀察均勻的壓力平衡，從而經(jīng)由獲得的全錐噴霧可實(shí)現(xiàn)均勻的流體分布。
[0017]在本發(fā)明的改進(jìn)方案中該至少一個(gè)渦旋通道在入口區(qū)段中從渦旋通道的置于上游的始端出發(fā)在軸向上伸延、然后過(guò)渡到渦旋區(qū)段中且最后在出口區(qū)段中在軸向上伸延。
[0018]以該方式可減小根據(jù)本發(fā)明的全錐噴嘴的流動(dòng)阻力且尤其在軸向上流入渦旋區(qū)段時(shí)以該方式可在渦旋區(qū)段上游穩(wěn)定流動(dòng)情況。
[0019]在本發(fā)明的改進(jìn)方案中渦旋通道相對(duì)于渦流器的中心縱軸線的斜度在渦旋區(qū)段內(nèi)變化。
[0020]以該方式也可來(lái)影響根據(jù)本發(fā)明的全錐噴嘴的噴射特性和流動(dòng)阻力。
[0021]在本發(fā)明的改進(jìn)方案中通過(guò)排出口來(lái)確定噴嘴的最窄的橫截面。
[0022]以該方式可很大程度上避免渦旋通道的阻塞且總地來(lái)說(shuō)提供對(duì)阻塞不那么敏感的噴嘴。
【附圖說(shuō)明】
[0023]本發(fā)明的另外的特征和優(yōu)點(diǎn)由權(quán)利要求和本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施形式的接下來(lái)的說(shuō)明結(jié)合附圖得出。不同的示出的實(shí)施形式的各個(gè)特征在此可以以任意的方式相互組合，而不超過(guò)本發(fā)明的范圍。其中:
[0024]圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的全錐噴嘴的側(cè)視圖；
[0025]圖2顯示了對(duì)圖1中的剖切平面H-H的視圖；
[0026]圖3顯示了圖1的全錐噴嘴在部分剖開(kāi)的狀態(tài)中從斜上方的視圖；
[0027]圖4顯示了圖3的全錐噴嘴的側(cè)視圖；
[0028]圖5顯示了圖1的全錐噴嘴在彼此拉開(kāi)的狀態(tài)中的等軸圖示；
[0029]圖6顯示了圖5中的全錐噴嘴的渦流器從斜上方的視圖；
[0030]圖7以剖視圖顯示了圖6的渦流器以及
[0031]圖8顯示了圖6的渦流器從下方的視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0032]圖1的圖示顯示了根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選的實(shí)施形式的根據(jù)本發(fā)明的全錐噴嘴10。全錐噴嘴10具有殼體12，其設(shè)有六邊形(Sechskant) 14和未示出的螺紋，以便將殼體擰到聯(lián)接管路上。殼體12具有總體柱狀的基本形狀。
[0033]在圖2中示出了圖1中的剖切平面H-H的視圖。殼體12具有排出腔16和排出口18。在排出腔16上游在殼體12中布置有渦流器20。渦流器20具有盤(pán)形的基本形狀且在其外周緣處設(shè)有兩個(gè)渦旋通道22、24。渦流器在其面向排出腔16的端面處設(shè)有以帶有平面的基底和圓形的橫截面的盲孔的形式的中間的凹口 26。
[0034]排出腔16在其鄰接到渦流器20處的區(qū)域中構(gòu)造成圓柱形。在圓柱形區(qū)段下游，排出腔16的橫截面逐漸變小直至排出口 18。在該逐漸變小的區(qū)段中排出腔16具有近似半球式的形狀。排出口 18具有帶有圓形橫截面的柱狀的第一