本實(shí)用新型涉及致冷件生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域的設(shè)備，具體地說(shuō)是涉及晶粒的挑選裝置。

背景技術(shù)：

半導(dǎo)體致冷件包括瓷板和晶粒，晶粒是由晶板切割而成的，合格的晶粒應(yīng)該是規(guī)整（角、棱規(guī)范的）的正方體或長(zhǎng)方體的結(jié)構(gòu)，在加工過(guò)程中，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生一些不規(guī)整的晶粒，例如缺角的晶粒和少棱的晶粒，這些晶粒就是廢品，不能使用，在下一步生產(chǎn)中需要將這些廢品的晶粒挑選出去，保證只能是合格品才可以流入下一道工序；現(xiàn)有技術(shù)中，使用的是人工挑選，還沒(méi)有自動(dòng)化程度高的挑選裝置，使用人工挑選具有勞動(dòng)強(qiáng)度大、漏檢率高的缺點(diǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的就是針對(duì)上述缺點(diǎn)，提供一種勞動(dòng)強(qiáng)度小、漏檢率低的全自動(dòng)晶粒挑選裝置。

本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：全自動(dòng)晶粒挑選裝置，其特征是：它包括機(jī)架，在機(jī)架上具有原料斗，原料斗下面具有原料斗出口，在原料斗出口下面有轉(zhuǎn)盤(pán)安裝在機(jī)架上，晶粒從料斗出口落在轉(zhuǎn)盤(pán)上隨著轉(zhuǎn)盤(pán)運(yùn)行，晶粒在轉(zhuǎn)盤(pán)上的位置是晶粒承載位置，還有攝像裝置對(duì)著晶粒承載位置，攝像裝置連接著控制裝置，在機(jī)架上還安裝第一吹氣槍，第一裝吹氣槍連接控制裝置，第一吹氣槍具有第一出口，在轉(zhuǎn)盤(pán)下面、并在第一出口下面安裝第一收集斗，第一吹氣槍吹氣可以將合格品晶粒吹下并落在第一收集斗中，所述的控制裝置里面有合格品和廢品的識(shí)別軟件。

進(jìn)一步地講，所述的攝像裝置是多個(gè)的，多個(gè)攝像裝置分別朝著晶粒承載位置的左側(cè)、右側(cè)、下側(cè)。

進(jìn)一步地講，所述的轉(zhuǎn)盤(pán)是玻璃的，還有攝像裝對(duì)著對(duì)著晶粒承載置上側(cè)。

進(jìn)一步地講，所述的第一吹氣槍是多個(gè)的。

進(jìn)一步地講，在機(jī)架側(cè)面還裝安第二吹氣槍，第二裝吹氣槍連接控制裝置，第二吹氣槍具有第二出口，在轉(zhuǎn)盤(pán)下面、并在第二出口下面安裝第二收集斗。

進(jìn)一步地講，所述的原料斗上面還有振動(dòng)裝置。

進(jìn)一步地講，還有送料導(dǎo)槽連接在料斗出口和轉(zhuǎn)盤(pán)之間，所述的送料導(dǎo)槽只能容納單排晶粒通過(guò)。

本發(fā)明的有益效果是：這樣的全自動(dòng)晶粒挑選裝置具有勞動(dòng)強(qiáng)度小、漏檢率低的優(yōu)點(diǎn)；

所述的攝像裝置是多個(gè)的，多個(gè)攝像裝置分別朝著晶粒承載位置的左側(cè)、右側(cè)、下側(cè)，具有對(duì)晶粒各個(gè)部位進(jìn)行挑選的優(yōu)點(diǎn)，降低漏檢率。

進(jìn)一步地講，所述的轉(zhuǎn)盤(pán)是玻璃的，還有攝像裝對(duì)著對(duì)著晶粒承載位置上側(cè)，可以對(duì)晶粒下面進(jìn)行檢測(cè)，發(fā)現(xiàn)不合格的除去，降低漏檢率；

進(jìn)一步地講，所述的第一裝吹氣槍是多個(gè)的，防止廢品較多、挑選速度慢；

進(jìn)一步地講，在機(jī)架側(cè)面還安裝第二吹氣槍，第二吹氣槍連接控制裝置，第二吹氣槍具有第二出口，出轉(zhuǎn)盤(pán)下面、第二出口下面安裝第二收集斗，還可以挑選合格品；

進(jìn)一步地講，所述的原料斗上面還有振動(dòng)裝置，可以使原料斗里面的原料均勻下落；

進(jìn)一步地講，還有送料導(dǎo)槽連接在料斗出口和轉(zhuǎn)盤(pán)之間，所述的送料導(dǎo)槽只能容納單排晶粒通過(guò)，可以使晶粒順次排列下落在晶粒承載位置上。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本實(shí)用新型的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

其中：1、機(jī)架 2、原料斗 3、原料斗出口 4、轉(zhuǎn)盤(pán) 5、晶粒 6、攝像裝置 7、第一吹氣槍 8、第一收集斗 9、第二裝吹氣槍 10、第二收集斗 11、振動(dòng)裝置 12、送料導(dǎo)槽。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。

如圖1、2所示，全自動(dòng)晶粒挑選裝置，其特征是：它包括機(jī)架1，在機(jī)架上具有原料斗2，原料斗下面具有原料斗出口3，在原料斗出口下面有轉(zhuǎn)盤(pán)4安裝在機(jī)架上，晶粒5從原料斗出口落在轉(zhuǎn)盤(pán)上隨著轉(zhuǎn)盤(pán)運(yùn)行，晶粒在轉(zhuǎn)盤(pán)上的位置是晶粒承載位置，還有攝像裝置6對(duì)著晶粒承載位置，攝像裝置連接著控制裝置，在機(jī)架上還安裝第一吹氣槍7，第一裝吹氣槍連接控制裝置，第一吹氣槍具有第一出口，在轉(zhuǎn)盤(pán)下面、并在第一出口下面安裝第一收集斗8，第一吹氣槍吹氣可以將合格品晶粒吹下并落在第一收集斗中，所述的控制裝置里面有合格品和廢品的識(shí)別軟件。

還有攝像裝置6對(duì)著晶粒承載位置，可以采集轉(zhuǎn)盤(pán)上面運(yùn)行的晶粒的信息，并將信息傳送給控制裝置，所述的控制裝置里面有合格品和廢品的識(shí)別軟件，可以識(shí)別出廢品和合格品的晶粒，并將信號(hào)傳遞給第一吹氣槍，第一吹氣槍吹氣，可以將合格品吹到第一收集斗中，整個(gè)過(guò)程不要人工參與，實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的。

進(jìn)一步地講，所述的攝像裝置是多個(gè)的，多個(gè)攝像裝置分別朝著晶粒承載位置的左側(cè)、右側(cè)、下側(cè)，晶粒在轉(zhuǎn)盤(pán)上運(yùn)行，這些攝像裝置分別對(duì)著晶粒的左側(cè)、右側(cè)、下側(cè)，避免遺漏。

進(jìn)一步地講，所述的轉(zhuǎn)盤(pán)是玻璃的，還有攝像裝置對(duì)著晶粒承載位置上側(cè)，這樣攝像裝置可以采集晶粒下面部位的信息。

進(jìn)一步地講，所述的第一吹氣槍是多個(gè)的，這樣可以避免一個(gè)第一裝吹氣槍吹氣剔除不及的缺點(diǎn)。

進(jìn)一步地講，在機(jī)架側(cè)面還安裝第二吹氣槍9，第二吹氣槍連接控制裝置，第二吹氣槍具有第二出口，在轉(zhuǎn)盤(pán)下面、并在第二出口下面安裝第二收集斗10，第二吹氣槍吹動(dòng)廢品落下，這樣可以收集廢品。

進(jìn)一步地講，所述的原料斗上面還有振動(dòng)裝置11，這樣可以實(shí)現(xiàn)原理-晶粒連續(xù)輸出到轉(zhuǎn)盤(pán)上。

進(jìn)一步地講，還有送料導(dǎo)槽12連接在原料斗出口和轉(zhuǎn)盤(pán)之間，所述的送料導(dǎo)槽只能容納單排晶粒通過(guò)，這樣可以實(shí)現(xiàn)晶粒單排排隊(duì)進(jìn)入轉(zhuǎn)盤(pán)上，防止漏檢。

以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例，但本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特征并不限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明的領(lǐng)域內(nèi)，所作的變化或修飾皆涵蓋在本發(fā)明的專利范圍內(nèi)。