本發(fā)明涉及一種除鐵機(jī),尤其是一種順流型除鐵機(jī)。
背景技術(shù):
在陶瓷、玻璃、化工、醫(yī)藥和食品等領(lǐng)域原材料加工過程中,通常須要使用除鐵裝置去除原材料的中的鐵磁物質(zhì),以提高原材料的純凈度。目前,除鐵裝置一般包括永磁式除鐵機(jī)和電磁式除鐵機(jī)兩種。
永磁式除鐵機(jī)使用能耗較低,日常維護(hù)也較簡單,如授權(quán)公告號為cn00995170y的專利文件公開了一種高效除鐵磁選機(jī),包括用不導(dǎo)磁材料制成的工作腔、位于工作腔兩側(cè)的南、北極相對的永磁體、位于工作腔礦物流體進(jìn)口處礦物流體投放口,工作腔設(shè)置有軟磁材料,其特別之處在于工作腔連接有橫向動力移動裝置,在永磁體旁邊的無磁區(qū)上方設(shè)置有自動沖洗裝置,在工作腔的側(cè)壁設(shè)置有自動沖洗口,在工作腔的底部設(shè)置有帶有閥門的余漿排放口,在工作腔的底部連接漿料排放管。然而,現(xiàn)有的永磁式除鐵機(jī)往往僅由3~4塊永磁鐵圍合形成外輪廓呈矩形的磁區(qū),磁場強(qiáng)度低,除鐵效果有限。
電磁式除鐵機(jī)的磁場強(qiáng)度較高,如申請公布號為cn104353549a的申請文件公開的一種電磁除鐵機(jī),包括機(jī)架、內(nèi)筒、散熱箱、電磁線圈、消磁器和電源,內(nèi)筒安裝在機(jī)架上,電磁線圈繞在內(nèi)筒外側(cè),內(nèi)筒下端設(shè)置進(jìn)料口和排渣口,這樣的一個進(jìn)漿方式,將會導(dǎo)致漿料流動不順暢,除鐵效果差。內(nèi)筒上端套設(shè)升降桶,升降桶頂部設(shè)置出料口和進(jìn)水口,升降桶底部設(shè)置通孔,升降桶能夠在內(nèi)筒中上下滑動。但是,電磁式除鐵機(jī)的結(jié)構(gòu)比永磁式除鐵機(jī)的結(jié)構(gòu)更復(fù)雜,故障率高,日常維護(hù)相當(dāng)不便,而且電磁式除鐵機(jī)日常使用的能耗較大,使用成本較高。
綜上所述,現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)主要有漿損率高,漿料流動不流暢,管道設(shè)計(jì)復(fù)雜、成本較高、操作繁瑣。
為此,需要開發(fā)一種能解決現(xiàn)有問題的新型除鐵機(jī)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種漿損最少化,漿料流動順暢無死角,管道設(shè)計(jì)簡便化、操作便利、操作簡單、日常維護(hù)方便的除鐵機(jī)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一種順流型除鐵機(jī),包括機(jī)架,所述機(jī)架內(nèi)設(shè)有工作腔和可往復(fù)靠近工作腔的磁區(qū),所述工作腔內(nèi)設(shè)有若干軟磁介子;其特征是,所述工作腔的上部設(shè)有進(jìn)漿口,所述工作腔的底部設(shè)有排漿口;還包括回漿槽和排渣槽;所述回漿槽內(nèi)設(shè)有余漿收集口,所述排渣槽內(nèi)設(shè)有廢水收集口;所述排漿口連接有排漿管,所述排漿管的出口延伸至回漿槽附近或排渣槽附近;所述機(jī)架上還設(shè)有動力組件,所述動力組件上設(shè)有可往復(fù)于回漿槽與排渣槽的運(yùn)動部,所述運(yùn)動部與排漿管相連。
本發(fā)明的工作原理如下:
對于漿料除鐵過程:
控制帶有磁區(qū)的平移裝置,使磁區(qū)平移到工作腔,讓工作腔內(nèi)置的軟磁介子進(jìn)入磁區(qū)內(nèi),此時(shí),軟磁介子位于有效磁區(qū)內(nèi),獲得磁性。軟磁介子可以是軟磁介質(zhì)棒,且軟磁介質(zhì)棒的直徑在2~5mm范圍內(nèi)。漿液經(jīng)進(jìn)漿口進(jìn)入工作腔內(nèi),并依次經(jīng)過排漿口、排漿管、回漿槽,最終流動至余漿收集口,構(gòu)成漿液的除鐵路徑。漿料通過位于工作腔上部的進(jìn)漿口,進(jìn)入工作腔內(nèi),并在重力的作用下,順流至位于工作腔底部的排漿口。當(dāng)漿料流經(jīng)位于工作腔內(nèi)的軟磁介子時(shí),漿料中的鐵粉隨即在軟磁介子的吸引下,粘附在軟磁介子的表面。除鐵后的漿料即從工作腔的排漿口流出至回漿槽。
上述磁區(qū)可由若干永磁鐵圍閉構(gòu)成或者由若干電磁鐵圍閉構(gòu)成。
在上述漿料除鐵過程中,漿料經(jīng)位于工作腔上部的進(jìn)漿口進(jìn)入工作腔內(nèi),并經(jīng)位于工作腔底部的排漿口流出工作腔,漿料于工作腔內(nèi)的流動方式為順流,這樣可以令漿料流動更順暢,降低漿料在除鐵過程中出現(xiàn)的漿損情況。此外,本除鐵機(jī)采用單管進(jìn)漿、單管排漿及排水的設(shè)計(jì),管道設(shè)計(jì)更為簡便化,從而使?jié){料流動順暢無死角、除鐵機(jī)操作便利。
對于軟磁介子的清洗過程:
漿液經(jīng)工作腔的進(jìn)漿口進(jìn)入工作腔內(nèi),并依次經(jīng)過排漿口、排漿管、排渣槽,最終流動至廢水收集口,構(gòu)成漿液的排渣路徑。進(jìn)漿口關(guān)閉后,等待工作腔內(nèi)殘留的漿料流出,隨后,控制平移裝置帶動磁區(qū)移動,令軟磁介子脫離磁區(qū)而失去磁性。接著,利用水流沖刷軟磁介子,水流即可將軟磁介子上的鐵粉沖走,完成軟磁介子的清洗。
為了保證軟磁介子的清洗效果,優(yōu)選的是,工作腔的頂部密封;工作腔的頂部設(shè)有沖水口和氣壓口;沖水口通過水管與位于機(jī)架底部的水箱相連通;所述氣壓口通過氣管與壓縮空氣源相連通。在清洗軟磁介子時(shí),由于漿料極易殘留在管道、工作腔內(nèi)壁及軟磁介子上,利用設(shè)置在工作腔頂部的氣壓口,接入壓縮氣體,殘留在工作腔內(nèi)壁、軟磁介子上的漿料會在壓縮氣體的沖擊下下被逼出排漿口。此外,在對軟磁介子清洗時(shí),位于工作腔頂部的沖水口可通入高速水流,直接沖刷軟磁介子,使軟磁介子清洗更加徹底干凈。
為了簡化動力組件的動作過程,保證排漿管可重復(fù)往復(fù)于回漿槽與排渣槽,排漿管靠近回漿槽或排渣槽的一端可以是軟管。此外,回漿槽和排渣槽可以設(shè)置于機(jī)架的同一側(cè),并采用一體式設(shè)計(jì),即:包括一體式槽,一體式槽內(nèi)設(shè)有沿一體式槽縱向布置的分隔板;分隔板的一側(cè)形成有回漿槽,另一側(cè)形成有排渣槽;一體式槽的一端設(shè)置有余漿收集口,余漿收集口與回漿槽相連通;一體式槽的另一端設(shè)置有廢水收集口,廢水收集口與排渣槽相連通。采用上述一體式設(shè)計(jì),回漿槽與排渣槽在設(shè)計(jì)上更為緊密,一方面可簡化除鐵機(jī)的生產(chǎn)制備流程,降低生產(chǎn)成本,另一方面也有利于動力部件帶動排漿管往復(fù)于回漿槽與排渣槽。
為保證漿料可順利流出回漿槽、廢水可順利流出排渣槽,回漿槽的底部優(yōu)選傾斜于地面并朝向余漿收集口;排渣槽的底部優(yōu)選傾斜于地面并朝向廢水收集口。
本發(fā)明具有漿損最少化、漿料流動順暢無死角、管道設(shè)計(jì)簡便化、操作便利、日常維護(hù)方便等優(yōu)點(diǎn)。
附圖說明
圖1是本發(fā)明實(shí)施例1中工作腔的示意圖;
圖2是本發(fā)明實(shí)施例1中工作腔與一體式槽的配合示意圖;
圖3是本發(fā)明實(shí)施例1中工作腔與一體式槽的立體示意圖;
圖4是本發(fā)明實(shí)施例1中順流型除鐵機(jī)的示意圖。
附圖標(biāo)記說明:1-機(jī)架;2-氣閥;3-密封板;4-控制閥門;5-工作腔;6-永磁鐵平移氣缸;7-一體式槽;8-軟管移動氣缸;9-軟管;10-永磁鐵;11-排漿管;12-清洗噴頭;13-軟磁介子;14-進(jìn)漿管;15-進(jìn)漿口;16-排漿口;17-回漿槽;18-排渣槽;19-余漿收集口;20-廢水收集口;21-底架;22-中間支架;23-水箱;24-導(dǎo)向柱組;25-分隔板;26-支撐桿。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步說明。
實(shí)施例1
如圖1~4所示的順流型除鐵機(jī),包括機(jī)架1,其中,該機(jī)架1包括底架21和中間支架22,底架21上固定安裝有水箱23,中間支架22上則安裝有5組除鐵組件。每組除鐵組件均包括固定在中間支架22上的工作腔5、固定在中間支架22上的導(dǎo)向柱組24、固定在中間支架22上的永磁鐵平移氣缸6。各導(dǎo)向柱組24上均安裝有可沿導(dǎo)向柱組24的導(dǎo)向軸線靠近工作腔的磁區(qū),該磁區(qū)由多個永磁鐵10依次拼合而成,磁區(qū)上預(yù)留有避空位,供工作腔5進(jìn)出磁區(qū)。永磁鐵平移氣缸6的活塞桿與磁區(qū)相連,以帶動磁區(qū)靠近/遠(yuǎn)離工作腔。
工作腔5內(nèi)設(shè)有若干軟磁介子13,軟磁介子13通過介子安裝板固定在工作腔5內(nèi)。本實(shí)施例1中,軟磁介子13選用直徑為2mm的軟磁介質(zhì)棒。工作腔5的上部設(shè)有進(jìn)漿口15,進(jìn)漿口15通過進(jìn)漿管連接至進(jìn)漿總管,且管道上安裝有控制閥門4。工作腔5的底部設(shè)有排漿口16,排漿口16的出口通過排漿管11連接至對應(yīng)的一體式槽7的上方。工作腔5的頂部密封,設(shè)置有密封板3。密封板3上面設(shè)置有沖水口和氣壓口,其中,沖水口內(nèi)安裝有清洗噴頭12,該清洗噴頭12通過水管與位于機(jī)架底部的水箱23相連通;氣壓口內(nèi)則安裝有氣閥2,該氣閥2通過器官與壓縮空氣源,如空氣壓縮機(jī)相連通。
本實(shí)施例1中,機(jī)架1外安裝有兩個一體式槽7。該一體式槽7內(nèi)設(shè)有沿一體式槽7的縱向布置的分隔板25。在一體式槽7的內(nèi)部,分隔板25的一側(cè)形成有回漿槽17,另一側(cè)形成有排渣槽18,其中,回漿槽17和排渣槽18位于機(jī)架1的同一側(cè),且回漿槽17更靠近機(jī)架1。一體式槽7上還設(shè)置有一端設(shè)置有余漿收集口19,余漿收集口19與回漿槽17相連通;一體式槽7的另一端設(shè)置有廢水收集口20,廢水收集口20與排渣槽18相連通。這里所說的一體式槽7的另一端是指與設(shè)置有余漿收集口19相互遠(yuǎn)離的另一端側(cè)。此外,回漿槽17的底部傾斜于地面并朝向余漿收集口19,排渣槽18的底部傾斜于地面并朝向廢水收集口20,以便漿料或者廢水更為順暢地流動至出口。
本實(shí)施例1中,底架21與中間支架22之間設(shè)有用于安裝動力組件的支撐桿26。軟管移動氣缸8作為動力組件,安裝固定在支撐桿26上。軟管移動氣缸8的活塞桿作為運(yùn)動部,與排漿管11的末端相連。排漿管11的末端為軟管9,位于一體式槽7的上方。
本實(shí)施例1的除鐵機(jī)的工作過程如下:
對于漿料除鐵過程:
工人控制軟管移動氣缸8動作,將排漿管11的末端移動至回漿槽17的上方。同時(shí),工人控制永磁鐵平移氣缸6,帶動磁區(qū)往工作腔5一側(cè)移動,使磁區(qū)包圍工作腔5。此時(shí),內(nèi)置于工作腔5的軟磁介子13處在有效磁區(qū)內(nèi),獲得磁性。開啟進(jìn)漿口15的控制閥門,漿液經(jīng)工作腔5的進(jìn)漿口15進(jìn)入工作腔5內(nèi),并在重力的作用下,于工作腔5的內(nèi)部往排漿口16流動。在此過程中,漿料流經(jīng)軟磁介子13,漿料中的鐵粉隨即在軟磁介子13的吸引下,粘附在軟磁介子13的表面,實(shí)現(xiàn)漿料除鐵。漿料經(jīng)排漿口16流出工作腔5后,會沿排漿管11流動至回漿槽17內(nèi),并經(jīng)余漿收集口19流動至下步工序。
在上述漿料除鐵過程中,漿液經(jīng)工作腔的進(jìn)漿口15進(jìn)入工作腔5內(nèi),并依次經(jīng)過排漿口16、排漿管11、回漿槽17,最終流動至余漿收集口19,構(gòu)成漿液的回漿路徑。
對于軟磁介子的清洗過程:
工人控制軟管移動氣缸8動作,將排漿管11的末端移動至排渣槽18的上方。同時(shí),工人控制永磁鐵平移氣缸6,帶動磁區(qū)遠(yuǎn)離工作腔5,使工作腔5脫離磁區(qū)。此時(shí),內(nèi)置于工作腔5的軟磁介子13失去磁性。關(guān)閉進(jìn)漿口15的控制閥門,開啟氣閥2,令壓縮氣體沖入工作腔5內(nèi),將工作腔5內(nèi)部的余漿逼出并經(jīng)排漿管11排放至排渣槽18內(nèi)。隨后,關(guān)閉氣閥2,開啟清洗噴頭12,水流隨即從水箱23流動至清洗噴頭12,并噴出至軟磁介子13上,將粘附在軟磁介子13的鐵粉、余漿沖走。清洗軟磁介子13所形成的廢水會沿排漿管11排出至排渣槽18內(nèi),并經(jīng)廢水收集口20排放至指定區(qū)域,從而完成軟磁介子13的清洗。
在上述軟磁介子的清洗過程中,漿液經(jīng)工作腔5的進(jìn)漿口15進(jìn)入工作腔5內(nèi),并依次經(jīng)過排漿口16、排漿管11、排渣槽18,最終流動至廢水收集口20,構(gòu)成漿液的排渣路徑。
實(shí)施例2
本實(shí)施例2與實(shí)施例1的不同之處在于,本實(shí)施例2中,設(shè)置于中間支架22上的除鐵組件的數(shù)量為2組。本實(shí)施例2的除鐵機(jī)的工作過程與實(shí)施例1中的除鐵機(jī)的工作過程相同,這里不再贅述。
雖然本發(fā)明是通過具體實(shí)施例進(jìn)行說明的,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)明白,在不脫離本發(fā)明范圍的情況下,還可以對本發(fā)明進(jìn)行各種變換及等同替代。另外,針對特定情形或應(yīng)用,可以對本發(fā)明做各種修改,而不脫離本發(fā)明的范圍。因此,本發(fā)明不局限于所公開的具體實(shí)施例,而應(yīng)當(dāng)包括落入本發(fā)明權(quán)利要求范圍內(nèi)的全部實(shí)施方式。