本發(fā)明涉及磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑及其制造方法、磁記錄介質(zhì)及其制造方法。

背景技術(shù)：

1、近年來，正在面向數(shù)據(jù)中心而進(jìn)行低成本且大容量的磁記錄介質(zhì)的開發(fā)。

2、作為磁記錄介質(zhì)，已知有在基板上層疊磁性層(磁記錄層)后在磁性層上形成碳等保護(hù)層、并進(jìn)一步在保護(hù)層上形成潤(rùn)滑層而得到的磁記錄介質(zhì)。保護(hù)層對(duì)磁性層中所記錄的信息進(jìn)行保護(hù)的同時(shí)，提高磁記錄再生裝置的磁頭的滑動(dòng)性。潤(rùn)滑層防止磁頭與保護(hù)層直接接觸，使滑動(dòng)的磁頭的摩擦力顯著降低。

3、另外，對(duì)于配置于磁記錄介質(zhì)的最外表面的潤(rùn)滑層，除了要求耐磨損性之外，還要求化學(xué)物質(zhì)耐性(防止硅氧烷等的沾污)、長(zhǎng)期穩(wěn)定性、耐熱性等各種特性。

4、在潤(rùn)滑層上涂布有磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑(以下有時(shí)簡(jiǎn)稱為“潤(rùn)滑劑”)。近年來，包含以全氟氧基亞烷基作為結(jié)構(gòu)重復(fù)單元的全氟聚醚(以下有時(shí)簡(jiǎn)稱為“pfpe”)鏈并且在末端部具有羥基等極性基團(tuán)的氟化聚合物被用作潤(rùn)滑劑。

5、為了制造用于潤(rùn)滑劑的氟化聚合物，使用在末端具有羥基的pfpe聚合物作為原料。作為pfpe聚合物的具體例，可舉出ケマーズ社制krytox(注冊(cè)商標(biāo))、solvay?solexis社制的fomblin(注冊(cè)商標(biāo))及ダイキン工業(yè)社制demnum(注冊(cè)商標(biāo))。krytox(注冊(cè)商標(biāo))具有-[cf(cf3)cf2o]-的重復(fù)單元，經(jīng)由六氟環(huán)氧丙烷的開環(huán)聚合的工序而制造。fomblin(注冊(cè)商標(biāo))是-[cf(z)cf2o]-(式中，z表示氟原子或cf3)和-[cf2o]-這2種重復(fù)單元無(wú)規(guī)地配置而成的共聚物，經(jīng)由四氟乙烯、六氟丙烯的光化學(xué)氧化聚合而制造。demnum(注冊(cè)商標(biāo))具有-[cf2cf2cf2o]-的重復(fù)單元，經(jīng)由2,2,3,3-四氟氧雜環(huán)丁烷的開環(huán)聚合的工序而制造。另外，作為其他pfpe聚合物的具體例，已知具有-[cf2cf2o]-的重復(fù)單元的氟化聚乙二醇可以通過聚乙二醇衍生物的液相氟化而合成。

6、如上所述，pfpe聚合物通過使完全或部分被氟化的單體聚合(為了將部分殘留的質(zhì)子完全替換成氟原子，有時(shí)在聚合后追加液相氟化的工序)、或者對(duì)由聚合反應(yīng)得到的非氟化聚合物進(jìn)行液相氟化而制造。因此，通過這樣的工序制得的pfpe聚合物是由重復(fù)數(shù)不同的成分構(gòu)成的混合物，具有寬分子量分布。

7、以這些pfpe聚合物作為原料制得的潤(rùn)滑劑用的氟化聚合物也同樣為由重復(fù)數(shù)不同的成分構(gòu)成的混合物，具有mw/mn＝1.1～1.5左右的寬分子量分布。作為潤(rùn)滑劑用的氟化聚合物，已知有例如專利文獻(xiàn)1～3中記載的化合物。

8、在專利文獻(xiàn)1中，記載了一種具有1個(gè)全氟聚醚鏈的含氟醚化合物。作為其原料，記載了一種分子量分布為1.2的pfpe聚合物，其是重復(fù)單元為-(cf2cf2cf2o)-并且重復(fù)數(shù)為1～7的混合物。

9、在專利文獻(xiàn)2中，記載了一種具有2個(gè)全氟聚醚鏈的含氟醚化合物。在專利文獻(xiàn)3中，記載了一種具有3個(gè)全氟聚醚鏈的含氟醚化合物。作為它們的原料，記載了分子量分布為1.1的pfpe聚合物。

10、已知潤(rùn)滑層所需要的耐磨損性、化學(xué)物質(zhì)耐性、長(zhǎng)期穩(wěn)定性等各種特性根據(jù)用于潤(rùn)滑劑的氟化聚合物的分子量而大幅變化。因此，重要的是將氟化聚合物的分子量分布控制在所希望的范圍內(nèi)。

11、作為在磁記錄介質(zhì)的保護(hù)層上涂布潤(rùn)滑劑的方法，通常采用了浸漬法。在采用浸漬法的情況下，例如可以采用以下所示的方法。首先，使?jié)櫥瑒┤芙庥讠些`トレル(注冊(cè)商標(biāo))xf(商品名，三井·ケマーズフロロプロダクツ社制)等氟系溶劑中，以成為適于涂布的濃度的方式調(diào)制潤(rùn)滑層形成用溶液。然后，在裝入到浸涂裝置的浸漬槽中的潤(rùn)滑層形成用溶液中，浸漬形成有直到保護(hù)層為止的各層的基板。接著，將基板以規(guī)定的速度從浸漬槽提起。由此，能夠?qū)?rùn)滑劑涂布于保護(hù)層上的表面。

12、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

13、專利文獻(xiàn)

14、專利文獻(xiàn)1：日本特開2018-024614號(hào)公報(bào)

15、專利文獻(xiàn)2：wo2021/020066

16、專利文獻(xiàn)3：wo2022/215726

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的課題

2、在上述的基于浸漬法的潤(rùn)滑劑的涂布工序中，裝入浸漬槽中的潤(rùn)滑層形成用溶液在一定期間內(nèi)反復(fù)使用，處理數(shù)千～數(shù)十萬(wàn)張基板。然而，若使用以往的具有寬分子量分布的氟化聚合物作為潤(rùn)滑劑，則存在如下問題：隨著基板的涂布張數(shù)增多，潤(rùn)滑層中所含的氟化聚合物的數(shù)均分子量逐漸增加。其原因在于，在涂布工序中，分子量小的氟化聚合物先被消耗并吸附于保護(hù)層，因此，潤(rùn)滑層形成用溶液中的氟化聚合物的分子量分布偏在于分子量大的一側(cè)。分子量小的氟化聚合物，相對(duì)于分子整體的大小，羥基等極性基團(tuán)所占的比例大，作為分子整體而言極性變高。因此，分子量小的氟化聚合物向保護(hù)層的吸附力強(qiáng)，相較于分子量大的氟化聚合物而言先吸附于保護(hù)層上。因此，隨著涂布工序中的基板的涂布張數(shù)增多，分子量小的氟化聚合物在潤(rùn)滑層形成用溶液中所占的比例逐漸顯著地減少。

3、已知若潤(rùn)滑層中的氟化聚合物的數(shù)均分子量變大，則耐磨損性及化學(xué)物質(zhì)耐性惡化。因此，浸漬槽內(nèi)的潤(rùn)滑層形成用溶液需要頻繁地進(jìn)行液體更換，成為涂布工序的生產(chǎn)率惡化的原因。另外，潤(rùn)滑層形成用溶液中所含的氟化聚合物之中，僅一部分成分作為潤(rùn)滑層而被涂布，剩余的成分未被使用而與氟系溶劑一同廢棄，因此，從生產(chǎn)成本及環(huán)境負(fù)荷的觀點(diǎn)考慮也不優(yōu)選。

4、本發(fā)明的課題的目的是提供一種磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑，其即使在潤(rùn)滑劑的涂布工序中基板的涂布張數(shù)增多，潤(rùn)滑層的耐磨損性及化學(xué)物質(zhì)耐性也不會(huì)惡化而能夠得以維持。

5、用于解決課題的手段

6、本技術(shù)的發(fā)明人為了解決上述課題而反復(fù)進(jìn)行了深入研究。

7、結(jié)果發(fā)現(xiàn)，僅僅以分子量范圍、分子量分布進(jìn)行定義時(shí)，在基板的涂布張數(shù)多的情況下，無(wú)法充分把握對(duì)潤(rùn)滑層的耐磨損性及化學(xué)物質(zhì)耐性的影響。而且確認(rèn)到，通過針對(duì)磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑中所含的含氟醚化合物而以基于高效液相色譜的峰面積比率對(duì)分子量特性進(jìn)行定義，從而即使在潤(rùn)滑劑的涂布工序中基板的涂布張數(shù)增多，潤(rùn)滑層的耐磨損性及化學(xué)物質(zhì)耐性也不會(huì)惡化而能夠得以維持，以至完成了本發(fā)明。

8、本發(fā)明的構(gòu)成如下所述。

9、[1]一種磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑，其特征在于，是包含式(1)表示的含氟醚化合物的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑，所述含氟醚化合物中所含的相同分子量的分子的比例以基于高效液相色譜的峰面積比率計(jì)為90％以上。

10、r1-r2-ch2-r3[-ch2-r4-ch2-r3']n-ch2-r5-r6(1)

11、(式(1)中，n為0～2的任一個(gè)整數(shù)。r3及r3'各自獨(dú)立地為式(1f)表示的全氟聚醚鏈。在n為1或2的情況下，r3及1個(gè)或2個(gè)r3'可以一部分相同或全部相同，也可以各不相同。r4為具有1～3個(gè)極性基團(tuán)的2價(jià)連接基團(tuán)。在n為2的情況下，2個(gè)r4可以相同也可以不同。r2及r5為具有1個(gè)以上的極性基團(tuán)的2價(jià)連接基團(tuán)，可以相同也可以不同。r2的與r1鍵合的一側(cè)的末端為氧原子。r5的與r6鍵合的一側(cè)的末端為氧原子。r1及r6是與r2或r5的末端的氧原子鍵合的末端基團(tuán)，可以相同也可以不同。r1及r6為氫原子或碳原子數(shù)1～50的有機(jī)基團(tuán)。)

12、-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-(1f)

13、(式(1f)中，af?1表示碳原子數(shù)2～5的具有直鏈或支鏈結(jié)構(gòu)的2價(jià)全氟烴基。在af?1為直鏈結(jié)構(gòu)的情況下，(af?1-o)表示的各重復(fù)單元全部相同。在af?1為支鏈結(jié)構(gòu)的情況下，可以包含一部分(af?1-o)表示的各重復(fù)單元中的af?1的排列方向進(jìn)行左右更替而成的結(jié)構(gòu)。af?2及af?3各自獨(dú)立地表示碳原子數(shù)1～4的2價(jià)的直鏈全氟烴基。m表示平均聚合度，為1～13的實(shí)數(shù)。)

14、[2]一種磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑，其特征在于，是包含式(1)表示的含氟醚化合物的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑，所述磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑包含式(1s)表示的分子相對(duì)于所述式(1)表示的含氟醚化合物100％的比例以基于高效液相色譜的峰面積比率計(jì)為90％以上的含氟醚化合物。

15、r1-r2-ch2-r3[-ch2-r4-ch2-r3']n-ch2-r5-r6(1)

16、(式(1)中，n為0～2的任一個(gè)整數(shù)。r3及r3'各自獨(dú)立地為式(1f)表示的全氟聚醚鏈。在n為1或2的情況下，r3及1個(gè)或2個(gè)r3'可以一部分相同或全部相同，也可以各不相同。r4為具有1～3個(gè)極性基團(tuán)的2價(jià)連接基團(tuán)。在n為2的情況下，2個(gè)r4可以相同也可以不同。r2及r5為具有1個(gè)以上的極性基團(tuán)的2價(jià)連接基團(tuán)，可以相同也可以不同。r2的與r1鍵合的一側(cè)的末端為氧原子。r5的與r6鍵合的一側(cè)的末端為氧原子。r1及r6是與r2或r5的末端的氧原子鍵合的末端基團(tuán)，可以相同也可以不同。r1及r6為氫原子或碳原子數(shù)1～50的有機(jī)基團(tuán)。)

17、-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-(1f)

18、(式(1f)中，af?1表示碳原子數(shù)2～5的具有直鏈或支鏈結(jié)構(gòu)的2價(jià)全氟烴基。在af?1為直鏈結(jié)構(gòu)的情況下，(af?1-o)表示的各重復(fù)單元全部相同。在af?1為支鏈結(jié)構(gòu)的情況下，可以包含一部分(af?1-o)表示的各重復(fù)單元中的af?1的排列方向進(jìn)行左右更替而成的結(jié)構(gòu)。af?2及af?3各自獨(dú)立地表示碳原子數(shù)1～4的2價(jià)的直鏈全氟烴基。m表示平均聚合度，為1～13的實(shí)數(shù)。)

19、r1-r2-ch2-r3?s[-ch2-r4-ch2-r3s']n-ch2-r5-r6(1s)

20、(式(1s)中，與式(1)相同的符號(hào)表示與式(1)相同的結(jié)構(gòu)或值。r3s及r3s'各自獨(dú)立地為式(1f-1)表示的全氟聚醚鏈。)

21、-af?2-o-(af?1-o)s-af?3-(1f-1)

22、(式(1f-1)中，與式(1f)相同的符號(hào)表示與式(1f)相同的結(jié)構(gòu)。s表示聚合度，是1～13中的任一個(gè)整數(shù)。)

23、[3][1]或[2]的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑，所述含氟醚化合物的數(shù)均分子量為500～10000。

24、[4]一種磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，其特征在于，是包含式(1)表示的含氟醚化合物的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，所述含氟醚化合物中所含的相同分子量的分子的比例以基于高效液相色譜的峰面積比率計(jì)為90％以上，

25、所述制造方法包括使用式(1f')表示的氟化聚亞烷基二醇作為原料而合成所述含氟醚化合物的工序，

26、所述氟化聚亞烷基二醇中所含的相同分子量的分子的比例以基于高效液相色譜的峰面積比率計(jì)為90％以上。

27、r1-r2-ch2-r3[-ch2-r4-ch2-r3']n-ch2-r5-r6(1)

28、(式(1)中，n為0～2的任一個(gè)整數(shù)。r3及r3'各自獨(dú)立地為式(1f)表示的全氟聚醚鏈。在n為1或2的情況下，r3及1個(gè)或2個(gè)r3'可以一部分相同或全部相同，也可以各不相同。r4為具有1～3個(gè)極性基團(tuán)的2價(jià)連接基團(tuán)。在n為2的情況下，2個(gè)r4可以相同也可以不同。r2及r5為具有1個(gè)以上的極性基團(tuán)的2價(jià)連接基團(tuán)，可以相同也可以不同。r2的與r1鍵合的一側(cè)的末端為氧原子。r5的與r6鍵合的一側(cè)的末端為氧原子。r1及r6是與r2或r5的末端的氧原子鍵合的末端基團(tuán)，可以相同也可以不同。r1及r6為氫原子或碳原子數(shù)1～50的有機(jī)基團(tuán)。)

29、-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-(1f)

30、(式(1f)中，af?1表示碳原子數(shù)2～5的具有直鏈或支鏈結(jié)構(gòu)的2價(jià)全氟烴基。在af?1為直鏈結(jié)構(gòu)的情況下，(af?1-o)表示的各重復(fù)單元全部相同。在af?1為支鏈結(jié)構(gòu)的情況下，可以包含一部分(af?1-o)表示的各重復(fù)單元中的af?1的排列方向進(jìn)行左右更替而成的結(jié)構(gòu)。af?2及af?3各自獨(dú)立地表示碳原子數(shù)1～4的2價(jià)的直鏈全氟烴基。m表示平均聚合度，為1～13的實(shí)數(shù)。)

31、ho-ch2-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-ch2-oh(1f')

32、(式(1f')中，af?1、af?2、af?3及m與式(1f)對(duì)應(yīng)。在式(1)中n為1或2并且r3及1個(gè)或2個(gè)r3'并非全部相同的情況下，式(1f')表示與各個(gè)r3及r3'對(duì)應(yīng)的氟化聚亞烷基二醇。)

33、[5][4]的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，通過包括下述工序(a)～(c)的方法而合成式(1f')表示的所述氟化聚亞烷基二醇：

34、工序(a)，對(duì)基于高效液相色譜的峰面積比率中相同分子量的分子的比例為90％以上的式(2)表示的兩末端保護(hù)聚亞烷基二醇進(jìn)行液相氟化；

35、工序(b)，使所得到的式(3)表示的氟化反應(yīng)物與碳原子數(shù)1～6的醇反應(yīng)；

36、工序(c)，進(jìn)行所得到的式(4)表示的兩末端酯化體的還原反應(yīng)。

37、a4-o-(a1-o)x-a5(2)

38、(式(2)中，a1表示碳原子數(shù)2～5的具有直鏈或支鏈結(jié)構(gòu)的2價(jià)烴基。在a1為直鏈結(jié)構(gòu)的情況下，(a1-o)表示的各重復(fù)單元全部相同。在a1為支鏈結(jié)構(gòu)的情況下，可以包含一部分(a1-o)表示的各重復(fù)單元中的a1的排列方向進(jìn)行左右更替而成的結(jié)構(gòu)。x表示平均聚合度，為3～15的實(shí)數(shù)。a4及a5各自獨(dú)立地表示羥基的保護(hù)基。)

39、f-(c＝o)-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-(c＝o)-f?(3)

40、(式(3)中，af?1、af?2、af?3及m與式(1f)對(duì)應(yīng)。)

41、a6o-(c＝o)-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-(c＝o)-oa7?(4)

42、(式(4)中，af?1、af?2、af?3及m與式(1f)對(duì)應(yīng)。a6及a7各自獨(dú)立地表示碳原子數(shù)1～6的烷基。)

43、[6][5]的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，其包括下述聚醚合成工序：在所述工序(a)之前，進(jìn)行使2種以上的具有聚醚鏈或構(gòu)成聚醚鏈的單體單元的化合物反應(yīng)的親核取代反應(yīng)，從而合成具有(a1-o)表示的重復(fù)單元的聚醚化合物。

44、[7]一種磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，其特征在于，是包含含氟醚化合物的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，所述含氟醚化合物為式(1)表示的含氟醚化合物，并且式(1s)表示的分子相對(duì)于所述式(1)表示的含氟醚化合物100％的比例以基于高效液相色譜的峰面積比率計(jì)為90％以上，

45、所述制造方法包括使用式(1f')表示的氟化聚亞烷基二醇作為原料而合成所述含氟醚化合物的工序，

46、式(1f'-1)表示的分子相對(duì)于所述式(1f')表示的氟化聚亞烷基二醇100％的比例以基于高效液相色譜的峰面積比率計(jì)為90％以上。

47、r1-r2-ch2-r3[-ch2-r4-ch2-r3']n-ch2-r5-r6(1)

48、(式(1)中，n為0～2的任一個(gè)整數(shù)。r3及r3'各自獨(dú)立地為式(1f)表示的全氟聚醚鏈。在n為1或2的情況下，r3及1個(gè)或2個(gè)r3'可以一部分相同或全部相同，也可以各不相同。r4為具有1～3個(gè)極性基團(tuán)的2價(jià)連接基團(tuán)。在n為2的情況下，2個(gè)r4可以相同也可以不同。r2及r5為具有1個(gè)以上的極性基團(tuán)的2價(jià)連接基團(tuán)，可以相同也可以不同。r2的與r1鍵合的一側(cè)的末端為氧原子。r5的與r6鍵合的一側(cè)的末端為氧原子。r1及r6是與r2或r5的末端的氧原子鍵合的末端基團(tuán)，可以相同也可以不同。r1及r6為氫原子或碳原子數(shù)1～50的有機(jī)基團(tuán)。)

49、-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-(1f)

50、(式(1f)中，af?1表示碳原子數(shù)2～5的具有直鏈或支鏈結(jié)構(gòu)的2價(jià)全氟烴基。在af?1為直鏈結(jié)構(gòu)的情況下，(af?1-o)表示的各重復(fù)單元全部相同。在af?1為支鏈結(jié)構(gòu)的情況下，可以包含一部分(af?1-o)表示的各重復(fù)單元中的af?1的排列方向進(jìn)行左右更替而成的結(jié)構(gòu)。af?2及af?3各自獨(dú)立地表示碳原子數(shù)1～4的2價(jià)的直鏈全氟烴基。m表示平均聚合度，為1～13的實(shí)數(shù)。)

51、r1-r2-ch2-r3?s[-ch2-r4-ch2-r3s']n-ch2-r5-r6(1s)

52、(式(1s)中，與式(1)相同的符號(hào)表示與式(1)相同的結(jié)構(gòu)或值。r3s及r3s'各自獨(dú)立地為式(1f-1)表示的全氟聚醚鏈。)

53、-af?2-o-(af?1-o)s-af?3-(1f-1)

54、(式(1f-1)中，與式(1f)相同的符號(hào)表示與式(1f)相同的結(jié)構(gòu)。s表示聚合度，是1～13中的任一個(gè)整數(shù)。)

55、ho-ch2-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-ch2-oh(1f')

56、(式(1f')中，af?1、af?2、af?3及m與式(1f)對(duì)應(yīng)。在式(1)中n為1或2并且r3及1個(gè)或2個(gè)r3'并非全部相同的情況下，式(1f')表示與各個(gè)r3及r3'對(duì)應(yīng)的氟化聚亞烷基二醇。)

57、ho-ch2-af?2-o-(af?1-o)t-af?3-ch2-oh(1f'-1)

58、(式(1f'-1)中，與式(1f')相同的符號(hào)表示與式(1f')相同的結(jié)構(gòu)。t表示聚合度，是1～13中的任一個(gè)整數(shù)。)

59、[8][7]的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，通過包括下述工序(a-1)～(c-1)的方法而合成式(1f')表示的所述氟化聚亞烷基二醇：

60、工序(a-1)，對(duì)兩末端保護(hù)聚亞烷基二醇進(jìn)行液相氟化，所述兩末端保護(hù)聚亞烷基二醇是式(2)表示的兩末端保護(hù)聚亞烷基二醇，并且基于高效液相色譜的峰面積比率中式(2-1)表示的分子的比例為90％以上；

61、工序(b-1)，使所得到的式(3)表示的氟化反應(yīng)物與碳原子數(shù)1～6的醇反應(yīng)；

62、工序(c-1)，進(jìn)行所得到的式(4)表示的兩末端酯化體的還原反應(yīng)。

63、a4-o-(a1-o)x-a5(2)

64、(式(2)中，a1表示碳原子數(shù)2～5的具有直鏈或支鏈結(jié)構(gòu)的2價(jià)烴基。在a1為直鏈結(jié)構(gòu)的情況下，(a1-o)表示的各重復(fù)單元全部相同。在a1為支鏈結(jié)構(gòu)的情況下，可以包含一部分(a1-o)表示的各重復(fù)單元中的a1的排列方向進(jìn)行左右更替而成的結(jié)構(gòu)。x表示平均聚合度，為3～15的實(shí)數(shù)。a4及a5各自獨(dú)立地表示羥基的保護(hù)基。)

65、a4-o-(a1-o)u-a5(2-1)

66、(式(2-1)中，與式(2)相同的符號(hào)表示與式(2)相同的結(jié)構(gòu)。u表示聚合度，為3～15中的任一個(gè)整數(shù)。)

67、f-(c＝o)-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-(c＝o)-f?(3)

68、(式(3)中，af?1、af?2、af?3及m與式(1f)對(duì)應(yīng)。)

69、a6o-(c＝o)-af?2-o-(af?1-o)m-af?3-(c＝o)-oa7?(4)

70、(式(4)中，af?1、af?2、af?3及m與式(1f)對(duì)應(yīng)。a6及a7各自獨(dú)立地表示碳原子數(shù)1～6的烷基。)

71、[9][8]的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，其包括下述聚醚合成工序：在所述工序(a-1)之前，進(jìn)行使2種以上的具有聚醚鏈或構(gòu)成聚醚鏈的單體單元的化合物反應(yīng)的親核取代反應(yīng)，從而合成具有(a1-o)表示的重復(fù)單元的聚醚化合物。

72、[10][6]或[9]的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，所述聚醚合成工序包括使下述化合物反應(yīng)的工序：

73、在聚醚鏈或構(gòu)成聚醚鏈的單體單元的一個(gè)末端具有離去基團(tuán)并且在另一個(gè)末端具有被保護(hù)的羥基的化合物；和

74、在聚醚鏈或構(gòu)成聚醚鏈的單體單元的一個(gè)末端具有羥基并且在另一個(gè)末端具有被保護(hù)的羥基的化合物。

75、[11][6]或[9]的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，所述聚醚合成工序包括使下述化合物反應(yīng)的工序：

76、在聚醚鏈或構(gòu)成聚醚鏈的單體單元的一個(gè)末端具有離去基團(tuán)并且在另一個(gè)末端具有被保護(hù)的羥基的化合物；和

77、在聚醚鏈或構(gòu)成聚醚鏈的單體單元的兩個(gè)末端具有羥基的化合物。

78、[12][6]或[9]的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，所述聚醚合成工序包括使下述化合物反應(yīng)的工序：

79、在聚醚鏈或構(gòu)成聚醚鏈的單體單元的一個(gè)末端具有羥基并且在另一個(gè)末端具有被保護(hù)的羥基的化合物；和

80、在聚醚鏈或構(gòu)成聚醚鏈的單體單元的兩個(gè)末端具有離去基團(tuán)的化合物。

81、[13]一種磁記錄介質(zhì)，其特征在于，在基板上至少依次設(shè)置有磁性層、保護(hù)層和潤(rùn)滑層，所述潤(rùn)滑層包含[1]～[3]中任一者的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑。

82、[14]一種磁記錄介質(zhì)的制造方法，其具有下述工序：在至少形成有磁性層和保護(hù)層的基板中的所述保護(hù)層上，涂布[1]～[3]中任一者的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑從而形成潤(rùn)滑層。

83、發(fā)明效果

84、本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑，即使在潤(rùn)滑劑的涂布工序中基板的涂布張數(shù)增多，也能夠維持由此形成的潤(rùn)滑層的耐磨損性及化學(xué)物質(zhì)耐性。根據(jù)本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑的制造方法，能夠高效地制造這樣的磁記錄介質(zhì)用潤(rùn)滑劑。

85、本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)能夠?qū)⒅圃鞎r(shí)的潤(rùn)滑層的耐磨損性及化學(xué)物質(zhì)耐性維持在高水平，因此具有優(yōu)異的可靠性及耐久性。

86、通過本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)的制造方法，能夠高效地制造這樣的磁記錄介質(zhì)。