1.一種排氣后處理系統(tǒng)，包括：
殼體，該殼體接收從燃燒發(fā)動機輸出的排氣并且具有主體和排氣入口，該排氣入口相對于該主體是成角度的；
被布置在該主體內(nèi)的排氣后處理裝置；以及
懸臂流動分布元件，該懸臂流動分布元件被布置在該殼體內(nèi)在該排氣后處理裝置的上游，該流動分布元件包括擋板和被固定到該擋板上的套環(huán)，該擋板包括被附接到該主體的內(nèi)圓周壁上的徑向外周邊，該套環(huán)具有多個第一孔口、下游軸向邊緣和與該下游軸向邊緣相反的上游軸向邊緣，該下游軸向邊緣的至少一部分頂靠該擋板面對上游的表面，該擋板具有延伸穿過該面對上游的表面的多個第二孔口，該套環(huán)延伸橫跨過這些第二孔口中的至少一些第二孔口并且將其部分地封堵。
2.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該套環(huán)的該下游軸向邊緣包括多個附接區(qū)，該多個附接區(qū)彼此環(huán)圓周地間隔開，其中這些附接區(qū)是該下游軸向邊緣被焊接到該擋板所在的位置。
3.如權(quán)利要求2所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該下游軸向邊緣包括多個緩沖區(qū)，這些緩沖區(qū)各自包括該下游軸向邊緣的頂靠著該面對上游的表面的圓周延伸區(qū)段，并且這些緩沖區(qū)被布置在這些附接區(qū)之一與多個開放區(qū)之一之間并且與其直接相鄰，其中這些開放區(qū)是該下游軸向邊緣的延伸橫跨這些第二孔口中的一些第二孔口并且將其部分地封堵的圓周延伸區(qū)段。
4.如權(quán)利要求3所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中這些附接區(qū)各自包括一個接片，該接片突出到該擋板中的多個槽縫之一中，并且其中這些焊縫是沿這些接片的圓周長度來施加的。
5.如權(quán)利要求4所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中所有附接區(qū)的圓周長度之和是該套環(huán)的下游軸向邊緣的總圓周的32％-36％。
6.如權(quán)利要求5所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中所有附接區(qū)和所有緩沖區(qū)的圓周長度之和是該套環(huán)的下游軸向邊緣的總圓周的64％-68％。
7.如權(quán)利要求6所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中所有開放區(qū)的圓周長度之和是該套環(huán)的下游軸向邊緣的總圓周的32％-38％。
8.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該擋板面對上游的表面軸向地向上游延伸，使得該面對上游的表面的中央部分被相對于該擋板的徑向外周邊布置在上游。
9.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該套環(huán)是完全圍繞該擋板的縱向軸線延伸的管狀構(gòu)件。
10.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該套環(huán)圍繞該擋板的縱向軸線的僅一部分圓周地延伸。
11.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該排氣后處理裝置是顆粒過濾器、氧化催化器和選擇性催化還原催化器之一。
12.一種排氣后處理系統(tǒng)，包括：
殼體，該殼體接收從燃燒發(fā)動機輸出的排氣并且具有主體和排氣入口，該排氣入口相對于該主體是成角度的，該殼體在該主體和該入口的縱向軸線的交點處限定了末端腔室；
被布置在該主體內(nèi)的、在該末端腔室下游的排氣后處理裝置；以及
懸臂流動分布元件，該懸臂流動分布元件被布置在該殼體內(nèi)在該排氣后處理裝置的上游，該流動分布元件包括擋板和被固定到該擋板上的套環(huán)，該套環(huán)延伸到該末端腔室中，該擋板包括被附接到該主體的內(nèi)圓周壁上的徑向外周邊，該套環(huán)具有多個第一孔口、下游軸向邊緣和與該下游軸向邊緣相反的上游軸向邊緣，該下游軸向邊緣的至少一部分頂靠該擋板面對上游的表面，該擋板具有延伸穿過該面對上游的表面的多個第二孔口，該套環(huán)延伸橫跨過這些第二孔口中的至少一些第二孔口并且將其部分地封堵。
13.如權(quán)利要求12所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該套環(huán)的該下游軸向邊緣包括多個附接區(qū)，該多個附接區(qū)彼此環(huán)圓周地間隔開，其中這些附接區(qū)是該下游軸向邊緣被焊接到該擋板所在的位置，其中該下游軸向邊緣包括多個緩沖區(qū)，這些緩沖區(qū)各自包括該下游軸向邊緣的頂靠著該面對上游的表面的圓周延伸區(qū)段，并且這些緩沖區(qū)被布置在這些附接區(qū)之一與多個開放區(qū)之一之間并且與其直接相鄰，并且其中這些開放區(qū)是該下游軸向邊緣的延伸橫跨這些第二孔口中的一些第二孔口并且將其部分地封堵的圓周延伸區(qū)段。
14.如權(quán)利要求13所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中這些附接區(qū)各自包括一個接片，該接片突出到該擋板中的多個槽縫之一中，并且其中這些焊縫是沿這些接片的圓周長度來施加的。
15.如權(quán)利要求14所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中所有附接區(qū)的圓周長度之和是該套環(huán)的下游軸向邊緣的總圓周的32％-36％。
16.如權(quán)利要求15所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中所有附接區(qū)和所有緩沖區(qū)的圓周長度之和是該套環(huán)的下游軸向邊緣的總圓周的64％-68％。
17.如權(quán)利要求16所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中所有開放區(qū)的圓周長度之和是該套環(huán)的下游軸向邊緣的總圓周的32％-38％。
18.如權(quán)利要求12所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該擋板面對上游的表面軸向地向上游延伸，使得該面對上游的表面的中央部分被相對于該擋板的徑向外周邊布置在上游。
19.如權(quán)利要求12所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該套環(huán)是完全圍繞該擋板的該縱向軸線延伸的管狀構(gòu)件。
20.如權(quán)利要求12所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中該套環(huán)圍繞該擋板的該縱向軸線的僅一部分圓周地延伸。