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      具有應(yīng)力補償層的激光再封的制作方法

      文檔序號:11568216閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提出用于制造微機(jī)械結(jié)構(gòu)元件的方法,微機(jī)械結(jié)構(gòu)元件具有基底和與基底連接并與基底包圍一第一空腔的蓋,其中,在第一空腔中,第一壓力占主導(dǎo)并且包括具有第一化學(xué)成分的第一氣體混合物,其中,在第一方法步驟中,在基底中或者在蓋中構(gòu)造使第一空腔與微機(jī)械結(jié)構(gòu)元件的周圍環(huán)境連接的進(jìn)口孔,其中,在第二方法步驟中,調(diào)節(jié)第一空腔中的第一壓力和/或第一化學(xué)成分,其中,在第三方法步驟中,通過借助于激光將能量或熱導(dǎo)入到基底或蓋的吸收部分中來封閉進(jìn)口孔,其中,在第四方法步驟中,在基底的或蓋的表面上在進(jìn)口孔的區(qū)域中沉積或生長一個層,用于產(chǎn)生第二機(jī)械應(yīng)力,所述第二機(jī)械應(yīng)力反作用于在進(jìn)口孔被封閉的情況下產(chǎn)生的第一機(jī)械應(yīng)力。

      技術(shù)研發(fā)人員:A·布萊特林;F·賴興巴赫;J·萊茵穆特;J·阿姆托爾
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:羅伯特·博世有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:2016.12.07
      技術(shù)公布日:2017.08.11
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