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      高效熱電化學(xué)制氫裝置及其制氫方法

      文檔序號(hào):8509406閱讀:664來(lái)源:國(guó)知局
      高效熱電化學(xué)制氫裝置及其制氫方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種制氫裝置及其方法,具體為高效熱電化學(xué)制氫裝置及其制氫方法。
      技術(shù)背景
      [0002]工業(yè)制氫的方法主要有四種:煤轉(zhuǎn)化制氫;天然氣(蒸汽轉(zhuǎn)化制氫;甲醇或氨裂解制氫;水電解制氫。
      [0003]煤氣化制氫技術(shù),是指煤與水蒸氣或氧氣在一定的溫度和壓力等條件下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而轉(zhuǎn)化為煤氣的工業(yè)化過(guò)程,且一般是指煤的完全氣化,即將煤中的有機(jī)質(zhì)最大限度地轉(zhuǎn)變?yōu)橛杏玫臍鈶B(tài)產(chǎn)品,主要成分為一氧化碳,而氣化后的殘留物只有灰渣。然后一氧化碳經(jīng)過(guò)變換、分離和提純處理獲得一定純度的產(chǎn)品氫。但由于煤制氫工藝流程較長(zhǎng),操作環(huán)境差,因此通常適合于中、大規(guī)模的制氫裝置,并且制得的氫氣在純度方面差強(qiáng)人意,產(chǎn)出氣的后處理以及氣化后灰渣的處理也增加了成本和環(huán)保方面的壓力。
      [0004]天然氣水蒸氣重整制氫。其主要工藝為:天然氣經(jīng)過(guò)壓縮,送至轉(zhuǎn)化爐的對(duì)流段預(yù)熱,經(jīng)脫硫處理后與水蒸氣混合,進(jìn)入轉(zhuǎn)化爐加熱后進(jìn)入反應(yīng)爐,在催化劑的作用下,發(fā)生蒸氣轉(zhuǎn)化反應(yīng)以及一氧化碳變換反應(yīng),出口混合氣含氫量約為70%,經(jīng)過(guò)提純可以得到不同純度的氫氣產(chǎn)品。然而此工藝也存在一些缺陷,首先原料利用率低,在甲烷水蒸氣轉(zhuǎn)化反應(yīng)中,甲烷的轉(zhuǎn)化率約為82%;轉(zhuǎn)化反應(yīng)生成的一氧化碳與水發(fā)生的反應(yīng)中,一氧化碳的轉(zhuǎn)化率不足45%。其次工藝較復(fù)雜、操作條件苛刻、設(shè)備設(shè)計(jì)制造要求高、控制水平要求高。因此,對(duì)設(shè)備的控制水平和操作技能也有較高要求。
      [0005]甲醇裂解制氫。其主要工藝為:甲醇和水的混合液經(jīng)過(guò)預(yù)熱、氣化后,進(jìn)入轉(zhuǎn)化反應(yīng)器,在催化劑作用下,同時(shí)發(fā)生甲醇的催化裂解反應(yīng)和一氧化碳的變換反應(yīng),生成約75%的氫氣和約25%的二氧化碳以及少量雜質(zhì)。該混合氣經(jīng)過(guò)提純凈化,可以得到純度為
      98.5%?99.9%的氫氣。該法的原料易得且儲(chǔ)運(yùn)方便,受地域限制較少,適于中小制氫用戶。但受甲醇原料供應(yīng)的制約,產(chǎn)得氫氣在產(chǎn)量和純度上都處于中游,且國(guó)內(nèi)的甲醇蒸汽化工藝在催化劑性能、工藝流程、設(shè)備布置、設(shè)備形式和結(jié)構(gòu)、自動(dòng)化水平、裝置運(yùn)行穩(wěn)定性、可靠性、安全性等方面與國(guó)外設(shè)計(jì)的同類裝置相比還有改進(jìn)的余地。
      [0006]電解水制氫的原理是當(dāng)兩個(gè)電極分別通上直流電,并且浸入水中時(shí),在直流電的作用下,水分子分解為氫離子和氫氧根離子,在陽(yáng)極氫氧根離子失去電子產(chǎn)生氧氣,在陰極氫離子得到電子產(chǎn)生氫氣。隨著電解水工藝、設(shè)備的不斷改進(jìn),例如開(kāi)發(fā)采用固體高分子離子交換膜,選用具有良好催化活性的電極材料,采用高溫高壓參數(shù)以利于反應(yīng)進(jìn)行等,水電解制氫技術(shù)將會(huì)有更好的應(yīng)用和發(fā)展。電解水制氫的效率較高,且工藝成熟,設(shè)備簡(jiǎn)單無(wú)污染、氫氣純度高,操作簡(jiǎn)便、制氫過(guò)程不產(chǎn)生二氧化碳、無(wú)污染。但耗電量較大,通常電耗為4.5?5.5kW/m3氫氣,電費(fèi)占整個(gè)生產(chǎn)費(fèi)用的80%左右,生產(chǎn)成本高,使其應(yīng)用受到一定的限制。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0007]針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供一種耗電量更低、生產(chǎn)成本低廉的熱電化學(xué)制氫裝置及其制氫方法。
      [0008]本發(fā)明的目標(biāo)是通過(guò)下述技術(shù)方法予以實(shí)現(xiàn)的。
      [0009]高效熱電化學(xué)制氫裝置,包括電極和電解液,所述的電極分別為量子點(diǎn)敏化T12納米管陣列薄膜電極為熱電化學(xué)制氫體系的陽(yáng)極,泡沫鎳為對(duì)電極,電解液為含有Na2SO3和Na2S的水溶液。
      [0010]其中,所述的量子點(diǎn)敏化1102納米管陣列薄膜電極由以下方法制得:
      [0011](1)1102納米管陣列薄膜的制備
      [0012]將高純的鈦片機(jī)械拋光至高亮且表面無(wú)明顯劃痕,然后將機(jī)械拋光后的鈦片浸入腐蝕液中進(jìn)行化學(xué)拋光,直至鈦片表面無(wú)細(xì)小氣泡冒出,將化學(xué)腐蝕后的鈦片用去離子水洗凈,吹干;腐蝕液由HF、HN03、H2O按照體積比為1: 4: 5配制;
      [0013]化學(xué)拋光后的鈦片作陽(yáng)極,高純石墨為陰極,含F(xiàn)—的有機(jī)試劑為電解液,槽電壓30?100V,陽(yáng)極和陰極距離5?15cm,陽(yáng)極氧化3?7小時(shí);將陽(yáng)極氧化后的鈦片清洗干凈并充分干燥;
      [0014]陽(yáng)極氧化后的鈦片置于馬弗爐內(nèi)晶化退火,溫度400?700°C,時(shí)間2?4小時(shí);
      [0015]對(duì)晶化退火后的鈦片用質(zhì)量濃度5?15%的H2O2溶液超聲處理5?25分鐘,再用5?25g/L NaOH水溶液浸泡24小時(shí)以補(bǔ)充熱處理時(shí)損失的羥基,得到鈦基銳鈦礦型T12納米管陣列薄膜;
      [0016](2)量子點(diǎn)敏化1102納米管薄膜電極的制備
      [0017]將鈦基銳鈦礦型T12納米管陣列薄膜置入0.001?0.5mol噸―1的水溶性鉛鹽中,停留5?30min后取出,經(jīng)去離子水洗凈并吹干;以0.01?0.5mol ^L4NaBH4S保護(hù)劑,再浸漬于0.001?0.5mol.L—1的鈉鹽水溶液中5?30min,取出后用去離子水洗凈并吹干;以上過(guò)程作一個(gè)周期,往復(fù)循環(huán)1-20個(gè)周期處理,獲得量子點(diǎn)敏化T12納米管陣列薄膜電極;鈉鹽水溶液為Na2S、NaHTe、Na2SeO3中的一種或多種混合物的水溶液;
      [0018]量子點(diǎn)敏化1102納米管陣列薄膜電極為PbS、PbSe, PbTe, PbS+PbSe、PbS+PbTe、PbSe+PbTe, PbS+PbTe+PbSe中的任一種的量子點(diǎn)敏化1102納米管陣列薄膜電極。
      [0019]高效熱電化學(xué)制氫方法為,量子點(diǎn)敏化1102納米管陣列薄膜電極為熱電化學(xué)制氫體系的陽(yáng)極,泡沫鎳為對(duì)電極,含有0.1?Imol.L-1Na2SO3和0.1?Imol.L 4Na2S的水溶液為電解液,在15?95°C、0.5?1.5VU00?1000r/min條件下熱電化學(xué)制氫。
      [0020]量子點(diǎn)敏化1102納米管陣列薄膜的量子點(diǎn)直徑控制在3?5納米,平均直徑4.5納米,光吸收波長(zhǎng)拓展至3000納米,對(duì)溫度變化非常敏感,其熱激發(fā)的電流溫度系數(shù)達(dá)0.5?3.5mA.θπΓ2 *°C ―1;操作溫度在15?95°C,可利用低熱值的廢熱或太陽(yáng)能,極大地拓展了熱能利用范圍;所用電解液的原料來(lái)源廣泛,價(jià)格低廉,且可附產(chǎn)硫代硫酸鈉副產(chǎn)品。
      [0021]本發(fā)明提供的高效熱電化學(xué)制氫裝置及其制氫方法,所制備的氫氣純度高,可達(dá)
      99.9%以上,進(jìn)一步提純很容易;并且產(chǎn)氫效率高,相較于傳統(tǒng)工業(yè)生產(chǎn)中鎳合金陽(yáng)極的產(chǎn)氫量增大幾倍至十幾倍,所需電壓更小、能耗低,電能消耗僅為傳統(tǒng)電解法的四分一到三分之一。
      【具體實(shí)施方式】
      [0022]結(jié)合實(shí)施例說(shuō)明本發(fā)明的具體實(shí)施。
      [0023]實(shí)施例1
      [0024](I)機(jī)械和化學(xué)拋光:將高純鈦片機(jī)械拋光至高亮且表面無(wú)明顯劃痕,然后將其浸入事先配置好的HF和HNO3腐蝕液中進(jìn)行化學(xué)拋光,停留時(shí)間約30秒,直至鈦片表面無(wú)細(xì)小氣泡冒出,取出用去離子水洗凈并冷風(fēng)吹干后作為陽(yáng)極氧化的工作電極。
      [0025](2)電化學(xué)氧化:以拋光后的尚純欽片為陽(yáng)極,尚純石墨為陰極。質(zhì)量為4%水和0.3% NH4F的丙三醇的混合液為電解液。槽電壓50V,時(shí)間5小時(shí),陽(yáng)極和陰極距離7cm。
      [0026](3)熱處理:陽(yáng)極氧化后,將
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